3-甲氧基丙酸乙酯 | 10606-42-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 3-甲氧基丙酸乙酯
• 英文名称: 3-methoxypropionic acid methyl ester
• 英文别名: 3-methoxypropionic acid ethyl ester；ethyl β-methoxypropionate；ethyl β-ethoxypropionate；MPE；3-methoxy-propionic acid ethyl ester；3-Methoxy-propionsaeure-aethylester；Ethyl 3-methoxypropionate；ethyl 3-methoxypropanoate
• CAS: 10606-42-5
• 化学式: C₆H₁₂O₃
• 分子量: 132.159
• InChiKey: IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  158 °C
• 密度：
  0,98 g/cm3
• 稳定性/保质期：
  遵循规格进行使用和储存，则不会发生分解。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 危险等级：
  3
• 危险类别码：
  R36/37/38
• RTECS号：
  UF5273000
• 海关编码：
  2918990090
• 储存条件：
  密封于阴凉干燥处。

SDS

3-甲氧基丙酸乙酯 修改号码：5

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模块 1. 化学品
产品名称： Ethyl 3-Methoxypropionate
修改号码： 5

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害
易燃液体 第3级
健康危害 未分类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 易燃液体和蒸气
防范说明
[预防] 远离热源/火花/明火/热表面。禁烟。
保持容器密闭。
使用防爆的电气/通风/照明设备。采取预防措施以防静电和火花引起的着火。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 皮肤接触：立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用水清洗皮肤/淋浴。
[储存] 存放于通风良好处。保持凉爽。
[废弃处置] 根据当地政府规定把物品/容器交与工业废弃处理机构。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 3-甲氧基丙酸乙酯
百分比： >99.0%(GC)
CAS编码： 10606-42-5
俗名： 3-Methoxypropionic Acid Ethyl Ester
分子式： C6H12O3
3-甲氧基丙酸乙酯 修改号码：5

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用水清洗皮肤/淋浴。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，二氧化碳
不适用的灭火剂： 水（有可能扩大灾情。）
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：喷水,保持容器冷却。如果安全，消除一切火源。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。确保足够通风。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 回收到密闭容器前用干砂或惰性吸收剂吸收泄漏物。一旦大量泄漏，筑堤控制。附着
物或收集物应该根据相关法律法规废弃处置。
副危险性的防护措施 移除所有火源。一旦发生火灾应该准备灭火器。使用防火花工具和防爆设备。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止烟雾产生。远离热源/火花/明火
/热表面。禁烟。采取措施防止静电积累。使用防爆设备。处理后彻底清洗双手和脸。
注意事项： 如果可能，使用封闭系统。如果蒸气或浮质产生，使用通风、局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗、通风良好处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统。同时安装淋浴器和洗眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防毒面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
液体
外形（20°C）：
外观： 透明
颜色： 无色-几乎无色
气味： 无资料
pH: 无数据资料
3-甲氧基丙酸乙酯 修改号码：5

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模块 9. 理化特性
熔点： 无资料
沸点/沸程 158 °C
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 0.98
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂] 无资料

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
避免接触的条件： 火花, 明火, 静电
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： orl-rat LDLo:3500 mg/kg
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料
RTECS 号码: UF5273000

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中焚烧。废弃处置时请遵守
国家、地区和当地的所有法规。

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 第3类 易燃液体 。
UN编号： 3272
3-甲氧基丙酸乙酯 修改号码：5

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模块 14. 运输信息
正式运输名称： 酯类, 不另作详细说明
包装等级： III

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-甲氧基丙酸乙酯 生成 3-甲氧基丙酸
  参考文献：
  名称：

  Lapkin,I.I.; Alekseeva,Z.D., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1966, vol. 2, p. 390 - 392

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  乙烯酮 、 氯甲基甲基醚 在 三氯化铝 作用下， 生成 3-甲氧基丙酸乙酯
  参考文献：
  名称：

  Production of condensation products of ketene

  摘要：

  公开号：

  US02316465A1

文献信息

• AROMATIC AMINE COMPOUND, CURING AGENT FOR EPOXY COMPOUND, CURABLE COMPOSITION, CURED PRODUCT, METHOD FOR PRODUCING CURED PRODUCT, AND METHOD FOR PRODUCING AROMATIC AMINE COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20210130284A1

  公开（公告）日：2021-05-06

  An aromatic amine compound capable of satisfactorily forming a cured product having exceptional alkali resistance by reaction with an epoxy compound; a curing agent for an epoxy compound, the curing agent including the aromatic amine compound; a curable composition including the curing agent for an epoxy compound; a cured product of the curable composition; a method for producing the cured product; and a method for producing the abovementioned aromatic amine compound. The aromatic amine compound has a structure such that a specific position in a central skeleton comprising a fused ring such as a fluorene ring is substituted with a side-chain group including two aromatic groups linked by a flexible bond such as an amide bond, at least one amino group is bonded to the end of the side-chain group, and the structure has no hydroxyl groups.

  一种芳香胺化合物，通过与环氧化合物反应能够满意地形成具有异常碱性抗性的固化产品；一种环氧化合物的固化剂，该固化剂包括芳香胺化合物；一种包括环氧化合物的固化剂的可固化组合物；可固化组合物的固化产品；生产所述固化产品的方法；以及生产上述芳香胺化合物的方法。该芳香胺化合物具有这样的结构，即中心骨架中的特定位置包括类似于芴环的融合环，该位置被取代为包括通过柔性键（如酰胺键）连接的两个芳香基的侧链基团，至少一个氨基固定在侧链基团的末端，并且该结构不含羟基。
• QUENCHER
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US20170342031A1

  公开（公告）日：2017-11-30

  A quencher is disclosed having a compound represented by the following general formula (1): wherein R 5 each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group having a substituent or not having a substituent, a hydroxy group, an aryl group, an aryloxy group, or an arylalkyl group; R 6 represents a group having a polymerizable unsaturated group, a hydroxy group, or the like; Y 1 represents an oxygen atom, or the like; An − represents an anion; Ar 1 represents a specific ring structure; * and ** represent binding positions; Ar 2 represents a benzene ring, a naphthalene ring, or an anthracene ring; n 1 represents a specific integer; and the following structure (1-10) in the general formula (1) is an asymmetric structure; (wherein R 5 , Y 1 , Ar 1 , Ar 2 , n 1 , * and ** are the same as described above.).

  一种淬灭剂被公开，该淬灭剂具有以下一般公式(1)表示的化合物： 其中R5各自独立代表一个卤素原子、一个烷基团、一个烷氧基团、一个烷硫基团、一个带有或不带有取代基的氨基团、一个羟基、一个芳基团、一个芳氧基团或一个芳烷基团；R6代表一个具有可聚合不饱和基团、一个羟基或类似基团的集团；Y1代表一个氧原子或类似；An代表一个阴离子；Ar1代表一个特定的环结构；*和**代表结合位置；Ar2代表一个苯环、一个萘环或一个蒽环；n1代表一个特定的整数； 并且一般公式(1)中的以下结构(1-10)是一个不对称结构； (其中R5、Y1、Ar1、Ar2、n1、*和**与上述描述相同)。
• COMPOUND OR ITS TAUTOMER, METAL COMPLEX COMPOUND, COLORED PHOTOSENSITIVE CURING COMPOSITION, COLOR FILTER, AND PRODUCTION
  申请人：MIZUKAWA Yuki

  公开号：US20120238752A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  Provided is a colored photosensitive curing composition useful for color filters in primary colors, including blue, green, and red, having a high molar absorption coefficient and allowing a reduction in film thickness and superior color purity and fastness. A colored photosensitive curing composition, comprising, as its colorant, a dipyrromethene-based metal complex compound obtained from a metal or metal compound and a dipyrromethene-based compound represented by the following Formula (I): wherein in Formula (I), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent group; and R 7 represents a hydrogen or halogen atom, or an alkyl, aryl or heterocyclic group.

  提供的是一种有用于原色彩色滤光片的彩色光敏固化组合物，包括蓝色、绿色和红色，具有高摩尔吸收系数，可减少薄膜厚度，具有优越的颜色纯度和牢固度。 一种彩色光敏固化组合物，包括作为其着色剂的从金属或金属化合物获得的基于二吡咯甲烷的金属配合物化合物和由以下式（I）表示的基于二吡咯甲烷的化合物，其中在式（I）中，R1至R6各自独立地表示氢原子或取代基；R7表示氢或卤素原子，或烷基、芳基或杂环基。
• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• Novolac resin-containing resist underlayer film-forming composition using bisphenol aldehyde
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10017664B2

  公开（公告）日：2018-07-10

  Resist underlayer film-forming composition for forming resist underlayer film with high dry etching resistance, wiggling resistance and exerts good flattening property and embedding property for uneven parts, including resin obtained by reacting organic compound A including aromatic ring and aldehyde B having at least two aromatic hydrocarbon ring groups having phenolic hydroxy group and having structure wherein the aromatic hydrocarbon ring groups are bonded through tertiary carbon atom. The aldehyde B may be compound of Formula (1): The obtained resin may have a unit structure of Formula (2): Ar1 and Ar2 each are C6-40 aryl group. The organic compound A including aromatic ring may be aromatic amine or phenolic hydroxy group-containing compound. The composition may contain further solvent, acid and/or acid generator, or crosslinking agent. Forming resist pattern used for semiconductor production, including forming resist underlayer film by applying the resist underlayer film-forming composition onto semiconductor substrate and baking it.

  用于形成具有高干法蚀刻抗性、抗扭曲性并具有良好的平整性和嵌入性能的抗蚀底层膜形成组合物，包括通过使含有芳香环的有机化合物A和至少具有两个含酚羟基的芳香烃环团的醛B反应而获得的树脂，并具有芳香烃环团通过三级碳原子键合的结构。醛B可以是化合物的化学式（1）： 所得的树脂可能具有化学式（2）的单元结构： Ar1和Ar2各自是C6-40芳基团。含有芳香环的有机化合物A可能是芳香胺或含酚羟基的化合物。该组合物可能进一步含有溶剂、酸和/或酸发生剂，或交联剂。用于半导体生产的形成抗蚀图案，包括通过将抗蚀底层膜形成组合物涂覆在半导体衬底上并对其进行烘烤来形成抗蚀底层膜。

表征谱图