烷醇乳酸酯 | 6382-06-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 烷醇乳酸酯
• 英文名称: amyl lactate
• 英文别名: n-pentyl lactate；pentyl 2-hydroxypropanoate
• CAS: 6382-06-5
• 化学式: C₈H₁₆O₃
• mdl: MFCD00457372
• 分子量: 160.213
• InChiKey: GXOHBWLPQHTYPF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  226.12°C (rough estimate)
• 密度：
  1.0227 (rough estimate)
• LogP：
  1.489 (est)
• 溶解度：
  0.06 M
• 保留指数：
  1097

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.875
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

制备方法与用途

类别：易燃液体

可燃性危险特性：

• 较易燃，遇明火、近热源或与氧化剂接触会燃烧；
• 燃烧时会产生刺激性烟雾。

储运特性：

• 应存放在通风良好、低温干燥的库房内。

灭火剂：

• 可使用二氧化碳和干粉进行灭火。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  乙烯酮 、 烷醇乳酸酯 在 硫酸 作用下， 生成 2-acetoxy-propionic acid pentyl ester
  参考文献：
  名称：

  The Acetylation of Lactic Esters by Ketene

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01265a048
• 作为产物：
  描述：

  在 甲醇 、 copper (I) acetate 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 18.0h， 以90%的产率得到烷醇乳酸酯
  参考文献：
  名称：

  吡啶甲酸作为Mitsunobu反应的伴侣：随后在甲醇溶液中，基本上在中性条件下用乙酸铜水解吡啶甲酸酯

  摘要：

  已经研究了在Mitsunobu反应中使用吡啶甲酸和6-甲基吡啶甲酸。这些底物是Mitsunobu反应的极好伙伴，并提供了额外的优势，即所产生的酯可以在基本中性的条件下使用Cu（OAc）2和甲醇裂解。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(99)00332-9

文献信息

• 一种制备乳酸酯的方法
  申请人：中国石油化工股份有限公司

  公开号：CN111253249B

  公开（公告）日：2022-10-21

  本发明涉及一种制备乳酸酯的方法，该方法包括：将糖和醇与催化剂在反应器中接触并进行反应，得到含有乳酸酯的产物；其中，所述糖与醇的摩尔比为1：(50‑900)，反应温度为150‑250℃，反应时间为10‑50h，所述催化剂含有钛硅分子筛和锡硅分子筛的混合物，糖与以干基重量计的钛硅分子筛和锡硅分子筛的混合物的重量比为1：(0.1‑6)。本发明的方法具有高糖转化率和乳酸酯的产率。
• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Harada Yukako

  公开号：US20070078269A1

  公开（公告）日：2007-04-05

  The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring Y represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, in which one —CH 2 — group is substituted with —COO— group, and at least one hydrogen atom in the monocyclic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A + represents organic counter ion; and n shows an integer of 0 to 12. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).

  本发明提供了一种具有公式(I)的盐： 其中环Y代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，其中一个—CH2—基团被—COO—基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6个碳原子的烷基取代，具有1至6个碳原子的烷氧基，具有1至4个碳原子的全氟烷基，具有1至6个碳原子的羟基烷基，羟基或腈基；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子；n表示0至12的整数。 本发明还提供了一种含有公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200223796A1

  公开（公告）日：2020-07-16

  A novel onium salt of formula (1) and a chemically amplified resist composition comprising the same as a PAG are provided. When processed by photolithography using KrF or ArF excimer laser, EB or EUV, the resist composition has a high sensitivity and reduced acid diffusion and is improved in exposure latitude, MEF, and LWR.

  提供了一种化学增感剂组合物，其中包括式（1）的新型离子盐作为PAG。当使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV进行光刻工艺处理时，该抗蚀组合物具有高灵敏度、减少酸扩散，并在曝光宽度、MEF和LWR方面得到改善。
• [EN] DETERGENT COMPOSITIONS<br/>[FR] COMPOSITIONS DÉTERGENTES
  申请人：INNOSPEC LTD

  公开号：WO2015063514A1

  公开（公告）日：2015-05-07

  A compound of formula (I) wherein R1 is a C5 to C39 alkyl or alkenyl group and R2 is (c) wherein A is an anion.

  式（I）的化合物，其中R1是C5到C39的烷基或烯基基团，R2是（c），其中A是阴离子。

表征谱图