【課題】優れたラインエッジラフネスのレジストパターンを製造することができる化合物、レジスト組成物に用いる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する樹脂、この化合物を含む酸発生剤及びこれらを含むレジスト組成物。[式中、Q1及びQ2はそれぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;R1及びR2はそれぞれ水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;zは0〜6の整数;X1は、*−CO−O−、*−O−CO−等;A1は2価の脂環式炭化水素基含有炭化水素基;A2は2価の炭化水素基;R3及びR4はそれぞれ、水素原子又は飽和炭化水素基;R5は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基等;R6は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基;R7は、置換基を有してもよい炭化水素基又はシアノ基等を表す。]【選択図】なし
【课题】提供能够制造出优良线边缘粗糙度图案的化合物、用于光刻胶组合物的
树脂以及光刻胶组合物。
【解决手段】提供公式(I)所表示的化合物、由该化合物派生的
树脂、含有该化合物的酸发生剂以及包含这些的光刻胶组合物。其中,Q1和Q2分别代表
氟原子或
全氟烷基;R1和R2分别代表氢原子、
氟原子或
全氟烷基;z是0到6的整数;X1是*−CO−O−、*−O−CO−等;A1是含有二价脂
环烃基的碳氢基团;A2是二价的碳氢基团;R3和R4分别代表氢原子或饱和碳氢基团;R5是可以含有卤素原子的烷基等;R6是可以含有取代基的芳香族碳氢基团;R7是可以含有取代基的碳氢基团或
氰基等。
【选择图】无