基于新开发的
氘稳定氢化
锡 [(Ph)SnD(3)] 和 Ge(2)H(6) 的生长反应产生了一系列新的 Ge-Sn 半导体,具有可调带隙和高速潜在应用, 高效红外光电。Ge(1-x)Sn(x) 合
金的亚稳态
金刚石-立方薄膜是通过
化学气相沉积在 350 摄氏度的 Si(100) 上创建的。尽管组成材料之间存在 17% 的晶格失配,但它们仍表现出前所未有的热稳定性和优异的结晶度。这些材料的组成、晶体结构、电子结构和光学特性通过卢瑟福背散射、高分辨率电子显微镜和 X 射线衍射以及拉曼、红外和光谱椭偏仪进行表征。电子衍射揭示了单晶和完美的外延层,其晶格常数介于 Ge 和 α-Sn 之间。theta-2theta 模式下的 X 射线衍射显示出与随机合
金相对应的明确定义的峰,(004) 反射的面内摇摆扫描证实了晶体镶嵌的紧密排列的扩展。包括角扫描在内的 RBS 离子通道证实 Sn 占据替代晶格位置,并且还提供了元素随着