2,2-dimethyl-5-(4-vinylbenzyl)-1,3-dioxane-4,6-dione | 324740-11-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,2-dimethyl-5-(4-vinylbenzyl)-1,3-dioxane-4,6-dione
• 英文别名: 5-[(4-ethenylphenyl)methyl]-2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione
• CAS: 324740-11-6
• 化学式: C₁₅H₁₆O₄
• 分子量: 260.29
• InChiKey: FDJBIJOPONZSBW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2-dimethyl-5-(4-vinylbenzyl)-1,3-dioxane-4,6-dione 在 2,2'-联吡啶 、 2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚 、 lithium diisopropyl amide 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 2-Methyl-2-(4-vinyl-benzyl)-malonic acid mono-tert-butyl ester
  参考文献：
  名称：

  迈向环保型光刻材料：一类新型的水溶性光刻胶

  摘要：

  合成了具有两个官能团的新的水溶性苯乙烯聚合物，丙二酸半酯的侧挂侧铵盐和酸不稳定的烷基酯，并对其进行水溶性正型光刻胶的应用进行了评估。这些聚合物具有两个溶解度开关：通过烘烤使整个薄膜不溶解和在暴露于紫外线下选择性溶解。烘焙膜的时间分辨FT-IR测量表明，氨从膜上依次蒸发，丙二酸酯半酯脱羧。脱羧速率取决于丙二酸酯2位上取代基的结构。酸不稳定酯的选择，半酯的结构和聚合物组成均经过仔细优化，

  DOI：

  10.1021/ma034461r
• 作为产物：
  描述：

  4-乙烯基苯甲醛 在 哌啶 、 sodium tetrahydroborate 、 溶剂黄146 作用下， 以 甲醇 、 苯 为溶剂， 反应 0.17h， 生成 2,2-dimethyl-5-(4-vinylbenzyl)-1,3-dioxane-4,6-dione
  参考文献：
  名称：

  迈向环保型光刻材料：一类新型的水溶性光刻胶

  摘要：

  合成了具有两个官能团的新的水溶性苯乙烯聚合物，丙二酸半酯的侧挂侧铵盐和酸不稳定的烷基酯，并对其进行水溶性正型光刻胶的应用进行了评估。这些聚合物具有两个溶解度开关：通过烘烤使整个薄膜不溶解和在暴露于紫外线下选择性溶解。烘焙膜的时间分辨FT-IR测量表明，氨从膜上依次蒸发，丙二酸酯半酯脱羧。脱羧速率取决于丙二酸酯2位上取代基的结构。酸不稳定酯的选择，半酯的结构和聚合物组成均经过仔细优化，

  DOI：

  10.1021/ma034461r

文献信息

• LOW OUTGASSING PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：DiPietro Richard A.

  公开号：US20100062368A1

  公开（公告）日：2010-03-11

  Polymers for use in photoresist compositions include a repeat unit having a formula of: wherein Z represents a repeat unit of a polymer backbone; X is a linking group selected from the group consisting of alkylene, arylene, araalkylene, carbonyl, carboxyl, carboxyalkylene, oxy, oxyalkylene, and combinations thereof, and R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, and cycloalkyl groups with the proviso that X and R are not part of the same ring system. Also disclosed are processes for patterning a relief image of the photoresist composition, wherein the photoresist composition has an outgassing rate of less than 6.5E+14 molecules/cm 2 /s.

  用于光阻组合物的聚合物包括具有以下公式的重复单元：其中Z表示聚合物骨架的重复单元；X是从烷基，芳基，芳基烷基，羰基，羧基，羧基烷基，氧，氧烷基和它们的组合中选择的连接基团，而R是从氢，烷基，芳基和环烷基群中选择的，但X和R不是同一环系统的一部分。还公开了用于形成光阻组合物的浮雕图像的工艺，其中光阻组合物的放气速率小于6.5E + 14分子/厘米2/秒。
• Low outgassing photoresist compositions
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US07951525B2

  公开（公告）日：2011-05-31

  Polymers for use in photoresist compositions include a repeat unit having a formula of: wherein Z represents a repeat unit of a polymer backbone; X is a linking group selected from the group consisting of alkylene, arylene, araalkylene, carbonyl, carboxyl, carboxyalkylene, oxy, oxyalkylene, and combinations thereof, and R is selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aryl, and cycloalkyl groups with the proviso that X and R are not part of the same ring system. Also disclosed are processes for patterning a relief image of the photoresist composition, wherein the photoresist composition has an outgassing rate of less than 6.5E+14 molecules/cm2/s.

  用于光阻组成的聚合物包括具有以下公式的重复单元：其中Z表示聚合物主链的重复单元；X是从烷基，芳基，芳基烷基，羰基，羧基，羧基烷基，氧，氧烷基和它们的组合中选择的连接基团，R选择自氢，烷基，芳基和环烷基组成的群体，前提是X和R不是同一环系统的一部分。还公开了用于图案化光阻组成的浮雕图像的过程，其中光阻组成具有小于6.5E+14分子/平方厘米/秒的放气速率。
• WATER-PROCESSABLE PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：Board of Regents,The University of Texas System

  公开号：EP1240552A1

  公开（公告）日：2002-09-18
• EP1240552A4
  申请人：——

  公开号：EP1240552A4

  公开（公告）日：2007-10-17
• US6399273B1
  申请人：——

  公开号：US6399273B1

  公开（公告）日：2002-06-04