1-Cyclohexyl-4-[2-(ethenyloxy)ethoxy]benzene | 212555-24-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 1-Cyclohexyl-4-[2-(ethenyloxy)ethoxy]benzene
• 英文别名: 1-cyclohexyl-4-(2-ethenoxyethoxy)benzene
• CAS: 212555-24-3
• 化学式: C₁₆H₂₂O₂
• 分子量: 246.34
• InChiKey: BKPUJIXMLSYIFB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-乙炔苯酚 、 四氢呋喃 以VP-8000 (produced by Nippon Soda Co., Ltd.), and 6.5 g of 4-cyclohexylphenoxyethyl vinyl ether的产率得到1-Cyclohexyl-4-[2-(ethenyloxy)ethoxy]benzene
  参考文献：
  名称：

  Positive resist composition

  摘要：

  本发明提供了一种正性光刻胶组合物，可在高能光束光刻中实现显著的性能提升，其包括一种酚类聚合物，具有在水性碱溶液中不溶或难溶的性质，并通过酸的作用在水性碱溶液中变得可溶性。在其中，酚类聚合物包括一个重复单元，该重复单元包含至少从以下组中选择的一种：醛缩保护酚羟基，缩酮保护酚羟基，三级酯保护羧基和四氢吡喃基保护羧基；以及一种具有苯乙基磺酸结构并能够在受到光致辐射或辐射时产生酸的化合物。

  公开号：

  US07105273B2

文献信息

• Resist composition for electron beam, EUV or X-ray
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20030198894A1

  公开（公告）日：2003-10-23

  A resist composition for an electron beam, EUV or X-ray comprising (A1) a compound that has a reduction potential higher than that of diphenyl iodonium salt and generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation.

  一种用于电子束、EUV或X射线的电阻抗组合物，包括（A1）一种具有比二苯并碘化铵盐还高的还原电位并在光致射线或辐射照射下产生酸的化合物。
• Resist composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20030054287A1

  公开（公告）日：2003-03-20

  A resist composition containing a compound generating an acid by irradiation of an active ray or radiation and having a sulfonimide structure represented by formula (I) defined in the specification, which is excellent in sensitivity, resolution, pattern profile and edge roughness.

  一种抗阻剂组合物，包含一种化合物，通过活性射线或辐射照射产生酸，并具有规范中定义的公式（I）所表示的磺酰亚胺结构，在敏感性、分辨率、图案轮廓和边缘粗糙度方面表现出色。
• Positive resist composition and pattern forming method using the same
  申请人：Shirakawa Koji

  公开号：US20050277060A1

  公开（公告）日：2005-12-15

  A positive resist composition satisfying high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good in-vacuum PED property at the same time, and a pattern forming method using the composition, are provided, which is a positive resist composition comprising: (A) a resin which is insoluble or sparingly soluble in an alkali developer and becomes soluble in an alkali developer under the action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; and (C) an organic basic compound, wherein (A1) a resin containing a repeating unit having a specific structure and (A2) a resin other than the resin (A1) are contained as the resin of the component (A); and a pattern forming method using the composition.

  提供了一种满足高灵敏度、高分辨率、良好的图案轮廓和良好的真空PED特性的正性光阻组合物及其图案形成方法，其中该正性光阻组合物包括：（A）一种树脂，在碱性显影剂中不溶或难溶，在酸的作用下变为可溶于碱性显影剂；（B）一种能够在受到光致辐射时产生酸的化合物；（C）一种有机碱性化合物，其中作为组分（A）的树脂包含具有特定结构的重复单元的树脂（A1）和不包含树脂（A1）的其他树脂（A2）；以及使用该组合物的图案形成方法。
• Resist composition and pattern forming method using the same
  申请人：Mizutani Kazuyoshi

  公开号：US20060172226A1

  公开（公告）日：2006-08-03

  A resist composition comprising (A) an acid generator represented by formula (1): wherein S 1 to S 8 each independently represents a substituent; a, n, m, l, k, o, p, q and r each independently represents an integer of 0 to 2; X represents a single bond or a divalent linking group; R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R 1 and R 2 may combine with each other to represent a single bond or a divalent linking group; and Y − and Z − each independently represents an organic sulfonate anion.

  一种抗蚀组合物，包括（A）由式（1）表示的酸发生剂：其中S1至S8各自独立地表示取代基；a、n、m、l、k、o、p、q和r各自独立地表示0至2的整数；X表示单键或二价连接基团；R1和R2各自独立地表示氢原子或取代基，且R1和R2可以结合在一起表示单键或二价连接基团；以及Y-和Z-各自表示有机磺酸盐阴离子。
• Positive working resist composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20040175654A1

  公开（公告）日：2004-09-09

  A positive working resist composition comprising (A1) a resin containing a repeating unit represented by formula (1) defined in the specification and a repeating unit represented by formula (2) defined in the specification and having a property of being insoluble or sparingly soluble in an alkali developing solution and becoming soluble in an alkali developing solution by the action of an acid, and (B) a compound capable of generating sulfonic acid upon irradiation with active rays or radiations in an amount of from 5 to 20% by weight based on the total solid content of the positive working resist composition.

  一种正作用型感光胶组合物，包括（A1）一种树脂，其含有在规范中定义的式（1）所表示的重复单元和在规范中定义的式（2）所表示的重复单元，并具有在碱性显影溶液中不溶或难溶的性质，并通过酸的作用在碱性显影溶液中变为可溶性；以及（B）一种化合物，其能够在活性射线或辐射的照射下产生磺酸，其占正作用型感光胶组合物的总固体含量的5％至20％的重量。