1-Decyl-3,4-dihydroxypyrrolidine-2,5-dione | 446833-94-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-Decyl-3,4-dihydroxypyrrolidine-2,5-dione
• CAS: 446833-94-9
• 化学式: C₁₄H₂₅NO₄
• 分子量: 271.35
• InChiKey: CNWVGXOBAJXUDR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  77.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-氨基癸烷 、 酒石酸 、 在 teflon 、 氮气 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 0.25h， 生成 1-Decyl-3,4-dihydroxypyrrolidine-2,5-dione
  参考文献：
  名称：

  Low foam n-alkyltartarimide and n-alkylmalimide wetting agents

  摘要：

  该发明提供了水基组合物，特别是涂料、油墨、喷泉溶液、粘合剂、农业和电子清洁组合物，通过引入一定量的降低表面张力的酒石酸N-烷基酰胺和/或苹果酸N-烷基酰胺，使其表现出降低平衡表面张力的特性，其结构如下：其中R1是C5到C10烷基。

  公开号：

  US06437009B1

文献信息

• Low foam n-alkyltartarimide and n-alkylmalimide wetting agents
  申请人：Air Products and Chemicals, Inc.

  公开号：US06437009B1

  公开（公告）日：2002-08-20

  This invention provides water-based compositions, particularly coating, ink, fountain solution, adhesive, agricultural and electronics cleaning compositions, manifesting reduced equilibrium surface tension by the incorporation of a surface tension reducing amount of an N-alkylimide of tartaric acid and/or an N-alkylimide of malic acid of the following structures, respectively: where R1 is a C5 to C10 alkyl group.

  该发明提供了水基组合物，特别是涂料、油墨、喷泉溶液、粘合剂、农业和电子清洁组合物，通过引入一定量的降低表面张力的酒石酸N-烷基酰胺和/或苹果酸N-烷基酰胺，使其表现出降低平衡表面张力的特性，其结构如下：其中R1是C5到C10烷基。
• Low foam N-alkyltartarimide and N-alkylmalimide wetting agents
  申请人：——

  公开号：US20030229164A1

  公开（公告）日：2003-12-11

  This invention provides water-based compositions, particularly coating, ink, fountain solution, adhesive, agricultural and electronics cleaning compositions, manifesting reduced equilibrium surface tension by the incorporation of a surface tension reducing amount of an N-alkylimide of tartaric acid and/or an N-alkylimide of malic acid of the following structures, respectively: 1 where R 1 is a C5 to C10 alkyl group.

  本发明提供了水基组合物，特别是涂料、油墨、喷泉溶液、粘合剂、农业和电子清洁组合物，通过加入一定量的降低表面张力的酒石酸N-烷基酰胺和/或苹果酸N-烷基酰胺，分别具有以下结构，表现出降低平衡表面张力的特性：1其中R1是C5到C10烷基。