[EN] AT LOW TEMPERATURE, FAST HARDENING COMPOSITION FOR PREPARING PROTECTING FILM, PROTECTING FILM PREPARED THEREFROM, AND SUBSTRATE COMPRISING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION À DURCISSEMENT RAPIDE À BASSE TEMPÉRATURE DE PRÉPARATION D'UN FILM PROTECTEUR ET FILM ET SUBSTRATS PRÉPARÉS AVEC LADITE COMPOSITION
申请人:LG CHEMICAL LTD
公开号:WO2008035890A9
公开(公告)日:2009-04-23
[EN] The present invention relates to a composition for preparing an excellent protecting film with high strength, wear resistance, and excellent barrier property by low temperature hardening, a protecting film prepared therefrom, a substrate comprising the same, and a component or device comprising the same. The composition comprises an organosiloxane polymer a), a photobase generator b), and an organic solvent c).
[FR] L'invention porte sur une composition de préparation d'un excellent film protecteur très solide, résistant à l'usure, et conservant d'excellentes propriétés de barrière en durcissant à basse température, sur un film préparé avec ladite composition, sur un substrat le comprenant, et sur un composant ou dispositif le comprenant. La composition comprend: un polymère d'organosiloxane a), un générateur de photobase b), et un solvant organique c).