N-(p-tolyl)cyclohexanesulfonamide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: N-(p-tolyl)cyclohexanesulfonamide
• 英文别名: N-(4-methylphenyl)cyclohexanesulfonamide
• 化学式: C₁₃H₁₉NO₂S
• 分子量: 253.365
• InChiKey: AEBDWWXIBCASSJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  54.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-硝基甲苯 、 环己基硼酸 在 sodium metabisulfite 、 lithium phosphate 、 氯化胆碱 、 水 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 10.0h， 以58%的产率得到N-(p-tolyl)cyclohexanesulfonamide
  参考文献：
  名称：

  在无过渡金属的条件下，通过焦亚硫酸盐介导的硝基芳烃和硼酸交叉偶联直接进行磺酰胺化†

  摘要：

  在无过渡金属的条件下，建立了硝基芳烃，偏亚硫酸氢钠和硼酸的直接多组分磺酰胺化方法，以模块化方式从易于获得的低成本材料中获得各种磺酰胺。无机盐焦亚硫酸钠不仅用作二氧化硫源，而且在磺酰胺化过程中对活化剂和还原剂均起着关键作用。值得注意的是，在这种转化中，深入研究了具有多个杂原子和敏感官能团的天然存在的生物分子和药物，共同提供了多种磺酰胺。进一步的机理研究表明，亚硝基芳烃是关键的中间体，硼酸的活化是转化过程中决定速率的步骤。

  DOI：

  10.1002/cjoc.202000198

文献信息

• 磺胺类化合物及其无金属催化的构建方法和应用
  申请人：华东师范大学

  公开号：CN111393336A

  公开（公告）日：2020-07-10

  本发明公开了一种如式(I)所示的磺胺类化合物及其合成方法，以硝基芳烃、无机硫试剂和硼酸为反应原料，在碱和添加剂的作用下，在溶剂中反应得到一系列磺胺类化合物。本发明无需金属催化和额外的还原剂，以无机硫试剂作为硫源和还原剂，三组分一锅法一步构建得到一系列磺胺类化合物。本发明还公开了所述磺胺类化合物在合成磺胺类药物中的应用。本发明合成方法原料来源广泛、廉价易得；反应操作简单；底物普适性强；经济实用。本发明具有较强的实用价值和广泛的应用前景。
• Photocatalytic decarboxylative amidosulfonation enables direct transformation of carboxylic acids to sulfonamides
  作者：Vu T. Nguyen、Graham C. Haug、Viet D. Nguyen、Ngan T. H. Vuong、Hadi D. Arman、Oleg V. Larionov

  DOI：10.1039/d1sc01389k

  日期：——

  bioisosteric replacements of carboxylic acids and other carbonyls. Yet, a general synthetic platform for the direct conversion of carboxylic acids to a range of functionalized sulfonamides has remained elusive. Herein, we present a visible light-induced, dual catalytic platform that for the first time allows for a one-step access to sulfonamides and sulfonyl azides directly from carboxylic acids. The broad scope

  磺酰胺在有机合成、材料科学和药物化学中具有突出的作用，它们作为羧酸和其他羰基化合物的生物等排替代品发挥着重要作用。然而，将羧酸直接转化为一系列功能化磺酰胺的通用合成平台仍然难以捉摸。在此，我们提出了一种可见光诱导的双催化平台，该平台首次允许直接从羧酸一步获得磺酰胺和磺酰叠氮化物。直接脱羧酰胺磺化 (DDAS) 平台的广泛应用是通过吖啶光催化剂催化羧酸有效直接转化为亚磺酸而实现的，并与铜催化的硫氮键形成交叉偶联，具有亲电子和亲核试剂。
• [EN] AT LOW TEMPERATURE, FAST HARDENING COMPOSITION FOR PREPARING PROTECTING FILM, PROTECTING FILM PREPARED THEREFROM, AND SUBSTRATE COMPRISING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION À DURCISSEMENT RAPIDE À BASSE TEMPÉRATURE DE PRÉPARATION D'UN FILM PROTECTEUR ET FILM ET SUBSTRATS PRÉPARÉS AVEC LADITE COMPOSITION
  申请人：LG CHEMICAL LTD

  公开号：WO2008035890A9

  公开（公告）日：2009-04-23

  [EN] The present invention relates to a composition for preparing an excellent protecting film with high strength, wear resistance, and excellent barrier property by low temperature hardening, a protecting film prepared therefrom, a substrate comprising the same, and a component or device comprising the same. The composition comprises an organosiloxane polymer a), a photobase generator b), and an organic solvent c).
  [FR] L'invention porte sur une composition de préparation d'un excellent film protecteur très solide, résistant à l'usure, et conservant d'excellentes propriétés de barrière en durcissant à basse température, sur un film préparé avec ladite composition, sur un substrat le comprenant, et sur un composant ou dispositif le comprenant. La composition comprend: un polymère d'organosiloxane a), un générateur de photobase b), et un solvant organique c).