rac-2,6-dioxabicyclo[3.3.0]octane-3-one

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 呋喃类
• 英文名称: rac-2,6-dioxabicyclo[3.3.0]octane-3-one
• 英文别名: Tetrahydrofurofuranone；3,3a,6,6a-tetrahydro-2H-furo[3,2-b]furan-5-one
• 化学式: C₆H₈O₃
• 分子量: 128.128
• InChiKey: LMQNXBWPFCVRKT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.1
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3-羟基-4-戊烯酸乙酯 在 咪唑 、 bis(acetonitrile)palladium(II) dichloride 、 lithium acetate 、 二异丁基氢化铝 、 溶剂黄146 、 copper dichloride 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 生成 rac-2,6-dioxabicyclo[3.3.0]octane-3-one
  参考文献：
  名称：

  使用五羰基铁作为CO源的Pd连续催化羰基化环化反应。

  摘要：

  该工作公开了使用五羰基铁作为CO源的连续流动羰基化反应。使用该替代物描述的转化设计用于通常可使用的流动设备中。将优化的条件应用于从非洲麝猫的肛周腺信息素分泌物中分离的天然化合物的可扩展合成。另外，成功地报道了流式钯催化的芳基卤化物的羰基化反应。

  DOI：

  10.1021/acs.joc.9b02453

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20170247323A1

  公开（公告）日：2017-08-31

  A salt having a group represented by the formula (aa): wherein X a and X b independently each represent an oxygen atom or a sulfur atom, the ring W represents a C3-C36 heterocyclic ring which has an ester bond or a thioester bond, said heterocyclic ring optionally further having an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group each by which a methylene group has been replaced, and said heterocycilic ring optionally having a hydroxyl group, a cyano group, a carboxyl group, a C1-C12 alkyl group, a C1-C12 alkoxy group, a C2-C13 alkoxycarbonyl group, a C2-C13 acyl group, a C2-C13 acyloxy group, a C3-C12 alicyclic hydrocarbon group, a C6-C10 aromatic hydrocarbon group or any combination of these groups each by which a hydrogen atom has been replaced, and * represents a binding position.

  一种盐，其具有由公式（aa）表示的基团：其中Xa和Xb独立地代表一个氧原子或一个硫原子，环W代表一个具有酯键或硫酯键的C3-C36杂环环，该杂环环还可以进一步具有一个氧原子、一个硫原子、一个羰基或一个磺酰基，其中每个都已被一个亚甲基取代，该杂环环还可以具有一个羟基、一个氰基、一个羧基、一个C1-C12烷基、一个C1-C12烷氧基、一个C2-C13烷氧羰基、一个C2-C13酰基、一个C2-C13酰氧基、一个C3-C12脂环烃基、一个C6-C10芳香烃基或任何组合，其中每个都已被氢原子取代，*表示一个结合位置。
• RESIST COMPOSITION CONTAINING NOVEL SULFONIUM COMPOUND, PATTERN-FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION, AND NOVEL SULFONIUM COMPOUND
  申请人：KAMIMURA Sou

  公开号：US20090042124A1

  公开（公告）日：2009-02-12

  A resist composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein each of R 1 to R 13 independently represents a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of R 1 to R 13 is a substituent containing an alcoholic hydroxyl group; Z represents a single bond or a divalent linking group; and X − represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种抗性组合物包括(A)由以下公式（I）所代表的化合物：其中R1至R13中的每一个独立地代表氢原子或取代基，前提是R1至R13中至少有一个是含有醇羟基的取代基；Z代表单键或二价连接基团；X-代表含有质子受体功能基团的阴离子。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Kawanishi Yasutomo

  公开号：US20080081288A1

  公开（公告）日：2008-04-03

  A photosensitive composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein R 1 to R 13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, Z represents a single bond or a divalent linking group, and X − represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种光敏组合物包括(A) 由下式(I)所表示的化合物：其中R1至R13各自独立地表示氢原子或取代基，Z表示单键或二价连接基团，X-表示含有质子受体功能基团的阴离子。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：KODAMA Kunihiko

  公开号：US20080138742A1

  公开（公告）日：2008-06-12

  The invention is related to an arylsulfonium salt compound having a polycyclic hydrocarbon structure in a cation moiety.

  本发明涉及一种在阳离子部分具有多环碳氢结构的芳基磺酸盐化合物。