N-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yImethyl)-1,1,1-trifluoromethanesulfonamide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: N-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yImethyl)-1,1,1-trifluoromethanesulfonamide
• 英文别名: N-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-ylmethyl)-1,1,1-trifluoromethanesulfonamide；N-[[(1S,4S)-2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl]methyl]-1,1,1-trifluoromethanesulfonamide
• 化学式: C₉H₁₂F₃NO₂S
• 分子量: 255.261
• InChiKey: GTKQRIPEBBDJIN-KJFJCRTCSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  54.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  三氟甲烷磺酰氯 、 [(1S,4S)-5-bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl]methanamine 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以60%的产率得到N-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yImethyl)-1,1,1-trifluoromethanesulfonamide
  参考文献：
  名称：

  [EN] NORBORNENE-TYPE POLYMERS, COMOSITIONS THEREOF AND LITHOGRAPHIC PROCESS USING SUCH COMPOSITIONS
  [FR] POLYMÈRES DE TYPE NORBORNÈNE, COMPOSITIONS LES COMPRENANT ET PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUE UTILISANT DE TELLES COMPOSITIONS

  摘要：

  根据本发明的实施例，提供了用于浸没光刻工艺的非自显影的去甲基环戊烯型聚合物，制备这种聚合物的方法，使用这种聚合物的组合物以及利用这种组合物的浸没光刻工艺。更具体地，本发明的实施例涉及用于在浸没光刻工艺中形成覆盖光刻胶层的去甲基环戊烯型聚合物，以及该过程。

  公开号：

  WO2011127014A1

文献信息

• [EN] NORBORNENE-TYPE POLYMERS, COMOSITIONS THEREOF AND LITHOGRAPHIC PROCESS USING SUCH COMPOSITIONS<br/>[FR] POLYMÈRES DE TYPE NORBORNÈNE, COMPOSITIONS LES COMPRENANT ET PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUE UTILISANT DE TELLES COMPOSITIONS
  申请人：PROMERUS LLC

  公开号：WO2011127014A1

  公开（公告）日：2011-10-13

  Embodiments in accordance with the present invention provide for non-self imageable norbornene-type polymers useful for immersion lithographic processes, methods of making such polymers, compositions employing such polymers and immersion lithographic processes that make use of such compositions. More specifically the embodiments of the present invention are related to norbornene-type polymers useful for forming top-coat layers for overlying photoresist layers in immersion lithographic process and the process thereof.

  根据本发明的实施例，提供了用于浸没光刻工艺的非自显影的去甲基环戊烯型聚合物，制备这种聚合物的方法，使用这种聚合物的组合物以及利用这种组合物的浸没光刻工艺。更具体地，本发明的实施例涉及用于在浸没光刻工艺中形成覆盖光刻胶层的去甲基环戊烯型聚合物，以及该过程。