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9-(2-((3-(trimethoxysilyl)propyl)thio)ethyl)-9H-carbazole

中文名称
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中文别名
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英文名称
9-(2-((3-(trimethoxysilyl)propyl)thio)ethyl)-9H-carbazole
英文别名
3-(2-Carbazol-9-ylethylsulfanyl)propyl-trimethoxysilane;3-(2-carbazol-9-ylethylsulfanyl)propyl-trimethoxysilane
9-(2-((3-(trimethoxysilyl)propyl)thio)ethyl)-9H-carbazole化学式
CAS
——
化学式
C20H27NO3SSi
mdl
——
分子量
389.591
InChiKey
WXHBLQLTIUSKPV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
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  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.8
  • 重原子数:
    26
  • 可旋转键数:
    10
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.4
  • 拓扑面积:
    57.9
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    含咔唑基团的聚倍半硅氧烷薄膜的制备及电学性能
    摘要:
    通过咔哒硫醇-烯反应和随后的溶胶-凝胶反应合成了新的并有咔唑基的倍半硅氧烷。为了评估这种混合材料的电性能,已使用PCTSQ薄膜通过旋涂到通过电沉积方法制备的n型ZnO薄膜上来制造二极管器件。薄膜混合器件显示出良好的电特性和高整流比,并且可以用作整流器。
    DOI:
    10.1002/chem.201403156
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文献信息

  • Thermal, Mechanical, and Photophysical Properties of Carbazole-Substituted POSS and Ladder Polysilsesquioxane
    作者:Albert S Lee、Young Yeol Jo、Seung-Sock Choi、Kyung-Youl Baek、Seung Sang Hwang
    DOI:10.1166/jnn.2017.14131
    日期:2017.8.1
    Through UV-initiated thiol-ene click chemistry, carbazole-substituted ladder-like structured polysilsesquioxane and cage-structured polyhedral oligomeric silsesquioxane (T8-POSS) compounds were synthesized and fully characterized. Perfectly carbazole-substituted T8-POSS was synthesized via post-modifications of a mercaptopropyl T8-POSS, while the ladder polysilsesquioxane was synthesized through a base-catalyzed hydrolysis-polycondensation reaction with a carbazole-substituted trialkoxysilane monomer. Through a comparative evaluation of the thermal, mechanical, and photophysical properties of the synthesized compounds, we demonstrate the utility and superiority of the ladder-like structure over the T8-POSS material.
    通过紫外光引发的醇-烯点击化学反应,合成了咔唑取代的梯状结构聚硅烷基二氧杂环戊烷和笼状结构的多面体低聚硅烷基二氧杂环戊烷(T8-POSS)化合物,并对其进行了全面表征。完全咔唑取代的 T8-POSS 是通过对巯丙基 T8-POSS 进行后修饰合成的,而梯状聚硅烷基quioxane 则是通过碱催化与咔唑取代的三烷氧基硅烷单体进行解-缩聚反应合成的。通过对合成化合物的热性能、机械性能和光物理性能进行比较评估,我们证明了阶梯状结构比 T8-POSS 材料更实用、更优越。
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