【課題】解像性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、(A)成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a2)とを含み、かつ、(B)成分は、9−フェニルチオカルバゾール構造を有するカチオンで表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
本发明提供了具有优异分解性能的正抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案化方法。正抗蚀剂组合物(A)组分包含一个由羟基
苯乙烯衍生的组成单元(a1)和一个具有
缩醛型酸可分解抑制基团的组成单元(a2),(B)组分包含一个 9-苯基
硫代
咔唑结构。正抗蚀剂组合物的特征在于,(B)组分含有酸发生器(B1),该酸发生器由具有 9-苯基
硫代
咔唑结构的阳离子所代表的化合物组成。无。