cyclohexyldiethylmethyl methacrylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: cyclohexyldiethylmethyl methacrylate
• 英文别名: 3-Cyclohexylpentan-3-yl 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₁₅H₂₆O₂
• 分子量: 238.37
• InChiKey: GNSHAUWJWDCIHJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.1
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  溴乙烷 、 环己甲酸甲酯 、 甲基丙烯酸酐 在 lithium 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 5.5h， 以60.4%的产率得到cyclohexyldiethylmethyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  環状脂肪族アクリレート類の製造方法

  摘要：

  【问题】提供一种高纯度且高收率的制造环状脂肪族丙烯酸酯的方法。 【解决方案】通过下面的反应式，从金属锂，式（a）表示的卤代烷基，式（b）表示的环状脂肪族酯和式（c）表示的（甲）丙烯酸无水物中，通过中间体式（a'）表示的烷基锂和式（b'）表示的锂醇酸盐，得到式（d）表示的环状脂肪族丙烯酸酯的方法。制造环状脂肪族丙烯酸酯的方法是，在卤代烷基中，金属锂的摩尔比为1.5至2.0的范围内。 【选择图】无

  公开号：

  JP2015107923A

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION, AND COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION
  申请人：Takahashi Hidenori

  公开号：US20110183258A1

  公开（公告）日：2011-07-28

  A positive resist composition comprising (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, and (C) a compound having a specific structure, which decomposes by the action of an acid to generate an acid, a pattern forming method using the positive resist composition, and a compound for use in the positive resist composition are provided as a positive resist composition exhibiting good performance in terms of pattern profile, line edge roughness, pattern collapse, sensitivity and resolution in normal exposure (dry exposure), immersion exposure and double exposure, a pattern forming method using the positive resist composition and a compound for use in the positive resist composition.

  本发明提供了一种正性光阻组合物，包括（A）一种在与光致发色剂或辐射照射时能够产生酸的化合物，（B）一种树脂，能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度，以及（C）一种具有特定结构的化合物，能够通过酸的作用分解产生酸。该正性光阻组合物在正常曝光（干曝光）、浸没曝光和双重曝光中表现出良好的图案形貌、线边粗糙度、图案坍塌、灵敏度和分辨率性能。同时，本发明提供了一种使用该正性光阻组合物的图案形成方法以及用于该正性光阻组合物的化合物。
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：TAKAHASHI Hidenori

  公开号：US20110318693A1

  公开（公告）日：2011-12-29

  An embodiment of the composition contains a resin (P) containing a repeating unit (A) that is configured to decompose when exposed to actinic rays or radiation to thereby generate an acid. The repeating unit (A) contains a cation structure with a monocyclic or polycyclic heterocycle containing a nitrogen atom.

  该组合物的实施例包含一种树脂（P），其中包含一个重复单元（A），当暴露于光致射线或辐射时，该单元（A）被配置为分解以产生酸。 重复单元（A）包含具有含氮杂环的单环或多环阳离子结构。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150185612A1

  公开（公告）日：2015-07-02

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin having a repeating unit represented by the specific formula and a group capable of decomposing by an action of an acid to produce a polar group; and an ionic compound represented by the specific formula, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.

  提供一种光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，包括：（A）具有特定公式表示的重复单元和能够通过酸作用分解产生极性基团的基团的树脂；以及具有特定公式表示的离子化合物，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的抗蚀膜。
• PATTERN FORMING METHOD, COMPOSITION KIT AND RESIST FILM, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE USING THEM, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160018734A1

  公开（公告）日：2016-01-21

  There is provided a pattern forming method comprising (a) a step of forming a film on a substrate using an electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, (b) a step of forming a top coat layer on the film using a top coat composition containing a resin (T) containing at least any one of repeating units represented by formulae (I-1) to (I-5) shown below, (c) a step of exposing the film having the top coat layer using an electron beam or an extreme ultraviolet radiation, and (d) a step of developing the film having the top coat layer after the exposure to form a pattern.

  提供了一种图案形成方法，包括以下步骤：(a)使用电子束敏感或极紫外辐射敏感的树脂组合物在基板上形成薄膜的步骤，(b)使用含有至少一个由下式(I-1)到(I-5)中所示的重复单元表示的树脂(T)的顶层涂料组成的顶层涂料层的形成步骤，(c)使用电子束或极紫外辐射照射具有顶层涂料层的薄膜的步骤，以及(d)在照射后开发具有顶层涂料层的薄膜以形成图案的步骤。