合成了在β位置被杂芳基取代的
丙烯酸和丙
氨酸,并进行了光谱表征(UV,HRMS,(1)H NMR和(13)C NMR光谱)。杂芳基基团是
呋喃基,
噻吩基,
苯并呋喃基和
苯并噻吩基,并且在2-或3-位含有丙酰基侧链。前者是苯丙
氨酸解
氨酶(PAL)的良好底物,而后者是
抑制剂。例外的是
噻吩-3-基丙
氨酸(一种中等的底物)和
呋喃-3-基丙
氨酸(惰性)。讨论了这些例外的可能原因。从外消旋杂芳基-2-丙
氨酸开始,它们的D-对映异构体通过立体破坏方法制备。由杂芳基-2-
丙烯酸酯以高
氨浓度制备杂芳基-2-丙
氨酸的L-对映异构体。