trifluoromethanesulfonamide ethanol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: trifluoromethanesulfonamide ethanol
• 英文别名: Trifluoromethanesulfonamide ethanol；ethanol;trifluoromethanesulfonamide
• 化学式: CH₂F₃NO₂S*C₂H₆O
• 分子量: 195.163
• InChiKey: XCNZZAHXYICQIK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.21
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  88.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-金刚烷甲酸 、 trifluoromethanesulfonamide ethanol 、 对甲苯磺酸 以 乙酸乙酯 、 甲苯 为溶剂， 以75%的产率得到N-[2-(adamantan-1-ylcarbonyloxy)ethyl]trifluoromethanesulfonamide
  参考文献：
  名称：

  Resist composition and method of forming resist pattern

  摘要：

  一种抗蚀组合物，包括在酸的作用下在显影溶液中表现出改变溶解度的基础组分（A），以及在暴露后生成酸的酸发生剂组分（B）和碱性化合物组分（C），其中组分（B）包括由式（b1）表示的化合物，组分（C）包括至少一种由式（c1）到（c3）表示的化合物（其中Z1表示含环骨架的烃基，Q1表示含氧的双价连接基团，Y1表示氟化烷基基团，M+表示有机阳离子，R1表示氟化烷基基团或烃基，L1+和L2+表示砜或碘化物，Z2表示氢原子或烃基，Y2表示不含氟的双价连接基团或单键，R2表示有机基团，Y3表示烷基基团或芳基基团；Rf表示含氟烃基）。

  公开号：

  US09005872B2

文献信息

• RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
  申请人：UTSUMI Yoshiyuki

  公开号：US20120148956A1

  公开（公告）日：2012-06-14

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, a nitrogen-containing organic compound (C) containing a compound (C1) represented by general formula (c1) shown below and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure (excluding the compound (C1)) (R 1 represents an alicyclic group of 5 or more carbon atoms which may have a substituent; X represents a divalent linking group; Y represents a linear, branched or cyclic alkylene group or an arylene group; Rf represents a hydrocarbon group containing a fluorine atom; and M + represents an organic cation).

  一种电阻剂组合物，包括一种基础组分（A），在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解度，一种含有一种通式（c1）所示的化合物（C1）的含氮有机化合物（C），以及一种酸发生剂组分（B），在暴露后产生酸（不包括化合物（C1））（其中，R1表示具有5个或更多碳原子的脂环族基团，可以具有取代基；X表示双价连接基团；Y表示线性、支链或环状烷基或芳基；Rf表示含有氟原子的碳氢基团；M+表示有机阳离子）。
• NOVEL COMPOUND
  申请人：UTSUMI Yoshiyuki

  公开号：US20120149916A1

  公开（公告）日：2012-06-14

  A compound represented by general formula (c1) (R 1 represents an alicyclic group of 5 or more carbon atoms which may have a substituent; X represents a divalent linking group; Y represents a linear, branched or cyclic alkylene group or an arylene group; Rf represents a hydrocarbon group containing a fluorine atom; and M + represents an organic cation or a metal cation).

  一个由一般式（c1）表示的化合物，其中R1表示一个含有5个或更多碳原子的脂环族基团，可以有取代基；X表示双价连接基团；Y表示线性、支链或环状的烷基或芳基基团；Rf表示含有氟原子的碳氢基团；M+表示有机阳离子或金属阳离子。
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Kurosawa Tsuyoshi

  公开号：US20120164578A1

  公开（公告）日：2012-06-28

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under the action of acid, an acid generator component (B) which generates acid upon exposure, and a nitrogen-containing organic compound component (D), wherein the acid generator component (B) includes an acid generator (B1) containing a compound represented by general formula (b1-1) shown below, and the nitrogen-containing organic compound component (D) includes a compound (D1) represented by general formula (d1) shown below. In the formula, Y 0 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent, R 0 represents an alkyl group, alkoxy group, halogen atom, halogenated alkyl group, hydroxyl group or oxygen atom (═O), p represents 0 or 1, and Z + represents an organic cation.

  一种抗蚀组合物，包括一种基础组分（A），在酸的作用下在显影液中表现出溶解度的变化，一种酸发生器组分（B），在暴露下产生酸，以及一种含氮有机化合物组分（D）。其中，酸发生器组分（B）包括一种酸发生器（B1），该酸发生器包含下式（b1-1）所示的化合物，含氮有机化合物组分（D）包括下式（d1）所示的化合物。在公式中，Y0表示1至4个碳原子的烷基，可以有取代基；R0表示烷基、烷氧基、卤素原子、卤素化烷基、羟基或氧原子（═O）；p表示0或1；Z+表示有机阳离子。
• Compound
  申请人：Utsumi Yoshiyuki

  公开号：US08497395B2

  公开（公告）日：2013-07-30

  A compound represented by general formula (c1) (R1 represents an alicyclic group of 5 or more carbon atoms which may have a substituent; X represents a divalent linking group; Y represents a linear, branched or cyclic alkylene group or an arylene group; Rf represents a hydrocarbon group containing a fluorine atom; and M+ represents an organic cation or a metal cation).

  一个由通式(c1)表示的化合物（其中R1代表一个有5个或更多碳原子的脂环族基团，可能带有一个取代基；X代表一个双价的连接基团；Y代表一个线性、支链或环状的烷基或芳基基团；Rf代表含有氟原子的烃基团；M+代表一个有机阳离子或金属阳离子）。