2-Phenyl-4,4-dimethylpentanoic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-Phenyl-4,4-dimethylpentanoic acid
• 英文别名: 4,4-Dimethyl-2-phenylpentanoic acid
• 化学式: C₁₃H₁₈O₂
• 分子量: 206.285
• InChiKey: UBLGSHNEIFYSKZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.46
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Phenyl-4,4-dimethylpentanoic acid 在 lithium aluminium tetrahydride 、 氯化亚砜 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 84.0h， 生成 (2R)-4,4-dimethyl-2-phenylpentanol
  参考文献：
  名称：

  薄荷醇，8-甲基薄荷醇和8-苯基薄荷醇-2-烷基丙二酸酯的非对映选择性阳极杂和均偶联。

  摘要：

  非对映选择性自由基偶联是通过手性助剂实现的。这些自由基是通过五种丙二酸衍生物的阳极脱羧反应生成的。它们是由丙二酸苄酯和四种薄荷醇助剂制备的。在未分开的电池中，在铂电极上与甲醇中的3,3-二甲基丁酸进行共电解，可得到杂耦合产物，产率为22-69％，非对映选择性为5至65％de。没有助酸的电解质以21-50％的产率产生非对映异构体均偶联产物，非对映异构体的比率为1.17：2.00：0.81至7.03：2.00。X射线结构分析和13 C NMR数据证实了新的立体异构中心的立体化学。

  DOI：

  10.3762/bjoc.13.5
• 作为产物：
  描述：

  2-苯基丙烯酸 、 N-(tert-butylsulfinyl)benzamide 在 dipotassium hydrogenphosphate 、 [Ir(ppy)₂(dtbbpy)]PF₆ 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 3.0h， 以86%的产率得到2-Phenyl-4,4-dimethylpentanoic acid
  参考文献：
  名称：

  可见光光氧化还原催化产生烷基自由基的脱硫策略

  摘要：

  在这里，我们提出了一种通过可见光光氧化还原催化生成伯，仲和叔烷基自由基的新脱硫方法。一个过程涉及从亚磺酰胺中间体生成N中心自由基，然后进行后续裂解，这对于形成相应的烷基自由基至关重要。此策略已成功应用于特征温和的反应条件，广泛的底物范围（> 60个实例）和良好的官能团耐受性的共轭加成反应。

  DOI：

  10.1002/anie.201802710

文献信息

• Organolithium addition to styrene and styrene derivatives: scope and limitations
  作者：Xudong Wei、Paul Johnson、Richard J. K. Taylor

  DOI：10.1039/a910195k

  日期：——

  Styrene and a range of aryl-substituted styrene derivatives are shown to undergo efficient carbolithiation–trapping reactions in diethyl ether at −78 to −25 °C. The reactivities of different types of organolithium reagents were found to be: tertiary, secondary > primary; ≫ alkenyl, methyl, phenyl. Electron donating groups (e.g. methoxy and dialkylamino) at the ortho- or para- positions of the benzene

  苯乙烯 和一系列 芳基取代的 苯乙烯 研究表明，衍生物在以下情况下会发生有效的碳环化-捕获反应： 乙醚在-78至-25°C下。发现不同类型的有机锂试剂的反应性为：叔，仲>伯；≫ 烯基， 甲基， 苯基。电子给体基团（例如 甲氧基和二烷基氨基）在其邻位或对位上;苯环 使向有机锂加成的双键失活，但它们与 丁基锂 通过使用TMEDA作为助溶剂可以促进使用。 2-苄氧基苯乙烯 和 2-烯丙氧基苯乙烯 在−78°C，但在室温下进行有效的碳石化处理 烷基 发生转移，生成相应的烷基化 苯酚。 2-乙烯基萘 也经历了碳化作用羧化 以合理的产量。
• Organolithium additions to styrene are synthetically viable
  作者：Xudong Wei、Richard J. K. Taylor

  DOI：10.1039/cc9960000187

  日期：——

  In diethyl ether at –78 to –25 °C, styrene undergoes efficient addition reactions with a range of alkyllithium reagents, and the intermediate benzyllithiums can be trapped (e.g. with carbon dioxide and chlorotrimethylsilane); two aryl-substituted styrenes are shown to react in a similar manner.

  在-78至-25°C的二乙醚中，苯乙烯与一系列烷基锂试剂发生了有效的加成反应，生成的苄基锂中间体可以被捕获（例如与二氧化碳和氯三甲基硅烷反应）；两种芳基取代的苯乙烯也以相似的方式反应。
• HYDROXYLATED AND METHOXYLATED PYRIMIDYL CYCLOPENTANES AS AKT PROTEIN KINASE INHIBITORS
  申请人：Mitchell S. Ian

  公开号：US20080051399A1

  公开（公告）日：2008-02-28

  The present invention provides compounds, including resolved enantiomers, resolved diastereomers, solvates and pharmaceutically acceptable salts thereof, comprising the Formula I: Also provided are methods of using the compounds of this invention as AKT protein kinase inhibitors and for the treatment of hyperproliferative diseases such as cancer.

  本发明提供了化合物，包括分离的对映体、分离的顺反异构体、溶剂化物和其药学上可接受的盐，其中包括公式I: 同时，本发明还提供了使用该化合物作为AKT蛋白激酶抑制剂以及治疗高增殖性疾病，如癌症的方法。
• Pattern-forming method and composition
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US10175575B2

  公开（公告）日：2019-01-08

  A pattern-forming method includes forming a base pattern including a first polymer on a front face side. A composition is applied on at least a lateral face of the base pattern. The composition includes at least one polymer that is capable of interacting with the first polymer. The composition is heated such that a portion of the at least one polymer interacts with the first polymer and that a coating film is formed on the lateral face of the base pattern. Another portion of the at least one polymer not having interacted with the first polymer is removed to form a resist pattern. The base pattern in a planar view has a shape with a long axis and a short axis, and a ratio of lengths of the long axis to the short axis is no less than 1.5 and no greater than 10.

  一种图案成型方法包括在正面形成包括第一种聚合物的基底图案。在基底图案的至少一个侧面涂上组合物。组合物包括至少一种能与第一种聚合物相互作用的聚合物。对组合物进行加热，使至少一种聚合物的一部分与第一种聚合物发生作用，从而在基底图案的侧面形成涂膜。去除未与第一种聚合物发生作用的另一部分至少一种聚合物，形成抗蚀剂图案。基底图案的平面图具有长轴和短轴，长轴和短轴的长度比不小于 1.5 也不大于 10。
• Pattern-forming method, and composition
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US11335559B2

  公开（公告）日：2022-05-17

  A pattern-forming method includes: forming a pattern on an upper face side of a substrate; applying a first composition to a sidewall of the pattern; forming a resin layer by applying a second composition to an inner face side of the sidewall of the pattern coated with the first composition; allowing the resin layer to separate into a plurality of phases; and removing at least one of the plurality of phases. The first composition contains a first polymer. The second composition contains a second polymer. The second polymer includes a first block having a first structural unit and a second block having a second structural unit. The polarity of the second structural unit is higher than the polarity of the first structural unit. Immediately before forming of the resin layer, a static contact angle θ (°) of water on the sidewall of the pattern satisfies inequality (1). α ≥ θ ≥ α + β 2 ( 1 )

  一种图案形成方法包括：在基板的上端面形成图案；在图案的侧壁上涂敷第一种组合物；通过在涂有第一种组合物的图案侧壁的内端面涂敷第二种组合物形成树脂层；使树脂层分离成多个相；以及去除多个相中的至少一个。第一种组合物含有第一种聚合物。第二种组合物含有第二种聚合物。第二种聚合物包括具有第一结构单元的第一嵌段和具有第二结构单元的第二嵌段。第二结构单元的极性高于第一结构单元的极性。在形成树脂层之前，水在图案侧壁上的静态接触角 θ (°) 满足不等式 (1)。 α ≥ θ ≥ α + β 2 ( 1 )