1-(环己烯-1-基)-4-乙氧基苯 | 60557-91-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 中文名称: 1-(环己烯-1-基)-4-乙氧基苯
• 英文名称: 4-cyclohex-1-enyl-phenetole
• 英文别名: Aethyl-[4-(cyclohexen-(1)-yl)-phenyl]-aether；4-Aethoxy-1-(cyclohexen-(1)-yl)-benzol；4-Cyclohex-1-enyl-phenetol；Benzene, 1-(1-cyclohexen-1-yl)-4-ethoxy-；1-(cyclohexen-1-yl)-4-ethoxybenzene
• CAS: 60557-91-7
• 化学式: C₁₄H₁₈O
• 分子量: 202.296
• InChiKey: JBAAKOBBYQNTRE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  45 °C(Solv: ethanol (64-17-5))
• 沸点：
  304.7±31.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.999±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.9
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.43
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(环己烯-1-基)-4-乙氧基苯 生成 p-cyclohexylphenetole
  参考文献：
  名称：

  KOZLIKOVSKIJ YA. B.; PISANENKO D. A., IZV. VYSSH. UCHEB. ZAVEDENIJ. XIMIYA I XIM. TEXNOL., , 1976, 19,+

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  环己酮 、 magnesium,ethoxybenzene,bromide 在 乙醚 作用下， 生成 1-(环己烯-1-基)-4-乙氧基苯
  参考文献：
  名称：

  Mentzer; Molho; Dat Xuong, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1948, p. 263,267

  摘要：

  DOI：

文献信息

• PISANENKO D. A.; KOZLIKOVSKIJ YA. B.; BALITSKIJ YU. V., BECTH. KIEV. POLITEXN. IN-TA. XIM. MASHINOSTR. I TEXNOL., 1978, HO. 15, 2+
  作者：PISANENKO D. A.、 KOZLIKOVSKIJ YA. B.、 BALITSKIJ YU. V.

  DOI：——

  日期：——
• SILICON-CONTAINING CONDENSATE, COMPOSITION FOR FORMING A SILICON-CONTAINING RESIST UNDER LAYER FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170154766A1

  公开（公告）日：2017-06-01

  The present invention provides a silicon-containing condensate comprising one or more repeating units selected from a repeating unit shown by the following general formula (A1), a repeating unit shown by the following general formula (A2), and a repeating unit shown by the following general formula (A3), wherein R 1 represents a group shown by the following general formula (A-1) or (A-2); R 2 and R 3 each independently represent the same group as R 1 , a hydrogen atom, or a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms other than R 1 . There can be provided a silicon-containing condensate to give a composition for forming a silicon-containing resist under layer film which can form a resist under layer film with good adhesiveness to any resist pattern, whether the pattern is formed by negative development or positive development.
• Mentzer; Molho; Dat Xuong, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1948, p. 263,267
  作者：Mentzer、Molho、Dat Xuong

  DOI：——

  日期：——
• KOZLIKOVSKIJ YA. B.; PISANENKO D. A., IZV. VYSSH. UCHEB. ZAVEDENIJ. XIMIYA I XIM. TEXNOL., <IVUK-AR>, 1976, 19,+
  作者：KOZLIKOVSKIJ YA. B.、 PISANENKO D. A.

  DOI：——

  日期：——