氟甲基环己甲酸酯 | 166331-85-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 氟甲基环己甲酸酯
• 英文名称: fluoromethyl cyclohexanecarboxylate
• CAS: 166331-85-7
• 化学式: C₈H₁₃FO₂
• 分子量: 160.188
• InChiKey: KRRGGFSEWBVTRE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  202.2±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.071±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  聚合甲醛 、 cyclohexanecarbonyl fluoride 在 potassium fluoride 、 18-冠醚-6 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 4.0h， 以50%的产率得到氟甲基环己甲酸酯
  参考文献：
  名称：

  O-氟甲基羧酸盐和O-氟甲基氨基甲酸酯

  摘要：

  酰基氟与单体甲醛之间的氟化物催化反应以可接受的收率提供了氟甲基羧酸盐。-可容易地从相应的二氯化合物获得的氟甲基氟甲酸酯与胺缩合以得到氟甲基氨基甲酸酯。

  DOI：

  10.1016/0040-4020(95)00251-3

文献信息

• PHOTOACID GENERATOR, COPOLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION
  申请人：OH Jung Hoon

  公开号：US20100143843A1

  公开（公告）日：2010-06-10

  Disclosed are a photoacid generator, a copolymer, a chemically amplified resist composition, and a method of forming a pattern using the chemically amplified resist composition. The photoacid is connected with a main chain of the copolymer, whereby the photoacid is equally dispersed within a resist layer, and characteristics of line edge roughness of a resist pattern is improved.

  本发明涉及一种光酸发生剂、一种共聚物、一种化学放大型光刻胶组合物以及使用该化学放大型光刻胶组合物形成图案的方法。光酸发生剂与共聚物的主链相连接，从而使光酸发生剂在光刻胶层内均匀分散，并改善光刻胶图案线边粗糙度的特性。
• US8283102B2
  申请人：——

  公开号：US8283102B2

  公开（公告）日：2012-10-09