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2,2,5,5-四-(4-羟基-苯基)-己烷 | 7615-24-9

中文名称
2,2,5,5-四-(4-羟基-苯基)-己烷
中文别名
——
英文名称
2,2,5,5-tetrakis-(4-hydroxy-phenyl)-hexane
英文别名
2,2,5,5-Tetrakis-(4-hydroxy-phenyl)-hexan;4-[2,5,5-Tris(4-hydroxyphenyl)hexan-2-yl]phenol
2,2,5,5-四-(4-羟基-苯基)-己烷化学式
CAS
7615-24-9
化学式
C30H30O4
mdl
——
分子量
454.566
InChiKey
ZAGCVALXKYKLJA-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    298 °C(Solv: ethanol, 95% (64-17-5))
  • 沸点:
    700.3±55.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.226±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7.8
  • 重原子数:
    34
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.2
  • 拓扑面积:
    80.9
  • 氢给体数:
    4
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2,2,5,5-四-(4-羟基-苯基)-己烷 生成 2,2,5,5-tetrakis-(4-benzoyloxy-phenyl)-hexane
    参考文献:
    名称:
    The Relation of Estrogenic Activity to Structure in Some 4,4'-Dihydroxydiphenylmethanes1
    摘要:
    DOI:
    10.1021/ja01234a038
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    The Relation of Estrogenic Activity to Structure in Some 4,4'-Dihydroxydiphenylmethanes1
    摘要:
    DOI:
    10.1021/ja01234a038
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文献信息

  • Positive photosensitive composition
    申请人:FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    公开号:US20020102491A1
    公开(公告)日:2002-08-01
    A positive photosensitive composition comprises a compound capable of generating a specified sulfonic acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation and (B) a resin capable of decomposing under the action of an acid to increase the solubility in an alkali developer.
    一种正性感光组合物包括一种化合物,该化合物能够在受到光射线或辐射照射时生成一种特定的磺酸,以及(B)一种树脂,该树脂能够在酸的作用下分解,从而增加在碱性显影剂中的溶解度。
  • Positive photoresist composition
    申请人:——
    公开号:US20010021479A1
    公开(公告)日:2001-09-13
    A positive photoresist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin which is insoluble or sparingly soluble in alkali but becomes soluble in alkali by the action of an acid, and (C) a nitrogen-containing compound containing at least one partial structure represented by formula (I) shown below in its molecule: 1 The positive photoresist composition of the present invention is suitable for exposure to a far ultraviolet ray, particularly a KrF excimer laser beam, improved in line edge roughness and also excellent in sensitivity, resolution, depth of focus and resist profile.
    一种正性光阻组合物,包括(A)在接受光致发酵或辐射后生成酸的化合物,(B)在碱性溶液中不溶或难溶,但在酸的作用下变得可溶的树脂,以及(C)含有至少一个分子中的公式(I)所示的部分结构的含氮化合物。本发明的正性光阻组合物适用于远紫外线照射,特别是KrF准分子激光束,具有改善线边粗糙度、灵敏度、分辨率、焦深和抗蚀性能的优点。
  • Positive resist composition
    申请人:FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    公开号:US20020006578A1
    公开(公告)日:2002-01-17
    A positive resist composition comprising (A) a compound generating a specific sulfonimide compound by irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) a resin having a group, which is decomposed by the action of an acid to increase the solubility of the composition in an alkali developer. The resist composition has an improved resolving power and an improved process allowance such as exposure margin and the depth of focus in a lithographic technique using a light source of short wavelengths capable of super fine working and a positive chemically amplified resist.
    一种正向光刻胶组合物,包括(A)一种化合物,通过受到光辐射或辐射而产生特定磺酰亚胺化合物,以及(B)一种树脂,具有一种基团,通过酸的作用分解以增加组合物在碱性显影剂中的溶解度。该光刻胶组合物具有改善的分辨率和改善的工艺容差,如曝光余量和焦深,适用于使用短波长光源的光刻技术和正向化学增强型光刻胶的超细加工。
  • METHOD FOR PREPARING BRANCHED POLYCARBONATE WITH CONTINUOUS TWO-PHASE INTERFACE PHOSGENE METHOD
    申请人:Wanhua Chemical Group Co., Ltd.
    公开号:US20160200864A1
    公开(公告)日:2016-07-14
    The present invention relates to a method for preparing branched polycarbonate with a continuous two-phase interface phosgene method. Firstly, an aqueous solution of alkali metal hydroxide with triphenol and polyphenol dissolved therein reacts with a certain amount of phosgene in the present of inert organic solvent to prepare a prepolymer, and then a coupling reaction is performed among the prepolymer, an aqueous solution of alkali metal hydroxide with bisphenol and phosgene dissolved therein to finally obtain a polycarbonate resin. The method can avoid a cross-linking reaction, reduce the cost and improve the quality of the product, while improving the conversion ratio of the branching agent and the branching degree of the product.
    本发明涉及一种使用连续两相界面光气法制备分支聚碳酸酯的方法。首先,将三酚和多酚溶解在含有碱金属氢氧化物的水溶液中,然后在惰性有机溶剂的存在下与一定量的光气反应,制备出预聚体,然后在含有双酚和光气的碱金属氢氧化物水溶液中进行偶联反应,最终得到聚碳酸酯树脂。该方法可以避免交联反应,降低成本并提高产品质量,同时提高分支剂的转化率和产品的分支度。
  • Resin composition
    申请人:DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INC.
    公开号:EP0104543A1
    公开(公告)日:1984-04-04
    A resin composition comprising (A) a polyphenylene sulfide, (B) an epoxy compound, and as an optional component, a reinforcing material, a filler and/or a fire retardant.
    一种树脂组合物,包括 (A) 聚苯硫醚,(B) 环氧化合物,以及作为可选成分的增强材料、填料和/或阻燃剂。
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