2,3,5,6-四氟-4-羟基苯磺酸钠

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 2,3,5,6-四氟-4-羟基苯磺酸钠
• 英文名称: sodium 2,3,5,6-tetrafluoro-4-hydroxybenzenesulfonate
• 英文别名: (2,3,5,6-tetrafluoro-4-hydroxyphenyl)sulfonyloxy sodium；sodium 4-hydroxy-2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonate；2,3,5,6-tetrafluoro-4-hydroxybenzene sulfonic acid sodium salt；4-sulfo-tetrafluoro phenol sodium salt；Sodium 2,3,5,6-tetrafluoro-4-sulfophenolate；sodium;2,3,5,6-tetrafluoro-4-sulfophenolate
• 化学式: C₆HF₄O₄S*Na
• 分子量: 268.121
• InChiKey: HVXPVJLSYQBYCR-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.14
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  85.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,3,5,6-四氟-4-羟基苯磺酸钠 在 三氟乙酸 、 三氟乙酸酐 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 三苯基锍 2,3,5,6-四氟-4-(甲基丙烯酰氧基)苯磺酸盐
  参考文献：
  名称：

  Novel anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding PAG bound polymers for sub-50 nm EUV lithography

  摘要：

  制备了一系列新的阴离子光酸发生器（PAG）和相应的聚合物。PAG 结合聚合物的热稳定性优于 PAG 共混聚合物。与 PAG 共混聚合物相比，加入聚合物主链的 PAG 具有更高的分辨率。极紫外光刻（EUVL）结果证明了这一点：氟 PAG 结合聚合物抗蚀剂可产生 45 nm（1:1）、35 nm（1:2）、30 nm（1:3）和 20 nm（1:4）的线/空间以及 50 nm（1:1）的弯头图案。

  DOI：

  10.1039/b617133h
• 作为产物：
  描述：

  2,3,5,6-四氟苯酚 在 硫酸 、 三氧化硫 、 sodium chloride 作用下， 生成 2,3,5,6-四氟-4-羟基苯磺酸钠
  参考文献：
  名称：

  Novel anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding PAG bound polymers for sub-50 nm EUV lithography

  摘要：

  制备了一系列新的阴离子光酸发生器（PAG）和相应的聚合物。PAG 结合聚合物的热稳定性优于 PAG 共混聚合物。与 PAG 共混聚合物相比，加入聚合物主链的 PAG 具有更高的分辨率。极紫外光刻（EUVL）结果证明了这一点：氟 PAG 结合聚合物抗蚀剂可产生 45 nm（1:1）、35 nm（1:2）、30 nm（1:3）和 20 nm（1:4）的线/空间以及 50 nm（1:1）的弯头图案。

  DOI：

  10.1039/b617133h

文献信息

• 3-ARYL PROPIOLONITRILE COMPOUNDS FOR THIOL LABELING
  申请人：UNIVERSITE DE STRASBOURG

  公开号：US20160145199A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  The present invention relates to a process for labeling compounds comprising thiol moieties with 3-arylpropiolonitrile compounds, to 3-arylpropiolonitrile compounds substituted with tag moieties and to specific 3-arylpropiolonitrile linkers.

  本发明涉及一种将含硫醇基团的化合物用3-芳基丙炔腈化合物标记的方法，以及用标记基团取代的3-芳基丙炔腈化合物和特定的3-芳基丙炔腈连接剂。
• 싸이오크로멘 타입 화합물 및 그 용도
  申请人：DK Holdings Company, Ltd. 디케이홀딩스컴퍼니 주식회사(120000250767) Corp. No ▼ 110111-1849003BRN ▼214-86-45686

  公开号：KR101627841B1

  公开（公告）日：2016-06-07

  본 발명은 광분해성 질량 표지 물질 및 그 용도에 관한 것으로, MALDI-TOF(matrix-assisted laser desorption/ionization time-of-flight) 질량 분석법 또는 매트릭스가 없는 LDI-TOF(matrix-less laser desorption/ionization time-of-flight) 질량 분석법에 유용하게 사용할 수 있는 싸이오크로멘 타입 화합물 및 그 용도에 관한 것이다.

  本发明涉及光解质量标记物质及其用途，可用于MALDI-TOF（基质辅助激光解吸/电离飞行时间）质谱分析法或无基质LDI-TOF（无基质激光解吸/电离飞行时间）质谱分析法，涉及硅氧烷类化合物及其用途。
• Targeted covalent inhibitors of MDM2 using electrophile-bearing stapled peptides
  作者：Jiraborrirak Charoenpattarapreeda、Yaw Sing Tan、Jessica Iegre、Stephen J. Walsh、Elaine Fowler、Rohan S. Eapen、Yuteng Wu、Hannah F. Sore、Chandra S. Verma、Laura Itzhaki、David R. Spring

  DOI：10.1039/c9cc04022f

  日期：——

  Herein, we describe the development of a novel staple with an electrophilic warhead to enable the generation of stapled peptide covalent inhibitors of the p53–MDM2 protein–protein interaction (PPI). The peptide developed showed complete and selective covalent binding resulting in potent inhibition of p53–MDM2 PPI.

  在这里，我们描述了一种带有亲电子弹头的新型钉书钉的开发，以实现 p53-MDM2 蛋白质-蛋白质相互作用 (PPI) 的钉合肽共价抑制剂的产生。开发的肽显示出完全和选择性的共价结合，从而有效抑制 p53-MDM2 PPI。
• Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and pattern forming method using the photosensitive composition
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20050123859A1

  公开（公告）日：2005-06-09

  A photosensitive composition comprising a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with actinic rays or a radiation; a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and a pattern forming method using a photosensitive composition comprising a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.

  一种包含能够在受到光敏辐射或辐射照射后生成特定磺酸的化合物的光敏组合物；一种包含能够在受到光敏辐射或辐射照射后生成特定磺酸的化合物的光敏组合物；以及一种使用包含能够在受到光敏辐射或辐射照射后生成特定磺酸的化合物的光敏组合物的图案形成方法。
• Methods for chemical synthesis of biologically active compounds using supramolecular protective groups and novel compounds obtainable Thereby
  申请人：Herrmann Andreas

  公开号：US20140243280A1

  公开（公告）日：2014-08-28

  The invention relates to drug development and synthetic chemistry, in particular to the manufacture of biologically active compounds based on naturally occurring molecules. It also relates to novel biologically active compounds, for example aminoglycoside antibiotics, in a substantially pure regioisomeric form.

  这项发明涉及药物开发和合成化学，特别是基于天然分子制造生物活性化合物。它还涉及新型生物活性化合物，例如氨基糖苷类抗生素，以较纯的位置异构形式存在。