Lanthanide <i>N</i>,<i>N</i>-Dimethylaminodiboranates: Highly Volatile Precursors for the Deposition of Lanthanide-Containing Thin Films
作者:Scott R. Daly、Do Young Kim、Yu Yang、John R. Abelson、Gregory S. Girolami
DOI:10.1021/ja9098005
日期:2010.2.24
CVD precursors of stoichiometry Ln(H(3)BNMe(2)BH(3))(3) have been prepared, where Ln = La, Ce, Pr, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, and Lu. The ligand is N,N-dimethylaminodiboranate, a new kind of multidentate borohydride. The structures of the Ln(H(3)BNMe(2)BH(3))(3) complexes are highly dependent on the size of the lanthanide ions: the coordination number decreases from Pr (CN = 14) to Sm (CN = 13)
已制备出化学计量比为 Ln(H(3)BNMe(2)BH(3))(3) 的新型镧系元素 CVD 前体,其中 Ln = La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、Er 、Tm 和卢。配体为N,N-二甲氨基二硼酸盐,一种新型的多齿硼氢化物。Ln(H(3)BNMe(2)BH(3))(3) 配合物的结构高度依赖于镧系离子的大小:配位数从 Pr (CN = 14) 减少到 Sm (CN = 13) 到 Er (CN = 12) 对应于离子半径的减小。Ln(H(3)BNMe(2)BH(3))(3) 配合物在真空中的温度低至 65 摄氏度时具有高度的挥发性和升华性。这些配合物是有用的 CVD 前体;例如,Y(H(3)BNMe(2)BH(3))(3) 已被用于在 300 摄氏度下通过 CVD 使用水作为共反应物在硅上沉积 Y(2)O(3)。