镀膜材料

膜系的特性主要取决于构成膜系的材料。例如，氧化物层通常比氟化物、硫化物或半导体层更为坚硬，因此更适合用于外表面使用。然而，在较宽温度范围内使用的滤光片应避免使用半导体膜层，因为半导体的光学常数会随温度变化显著波动。

对于某些金属材料而言，它们强度较低，易受损伤，并且在大气中容易氧化。在这种情况下，需要为其添加保护层或将其夹在两个透明板之间。而对于其他材料，在镀膜过程中为了确保膜层与基底的良好粘合，有时需在基底上先镀一层附着层。例如，在玻璃基底上镀金(Au)膜之前，通常会在玻璃表面镀一层镍(Ni)作为附着层。

真空镀膜技术适用于多种材质，包括金属、树脂、塑料（如ABS、发泡塑料、回收塑料）、玻璃（水晶）、陶瓷、亚克力、木材、水泥和磷镁等。这种技术可广泛应用于汽车、电器、工艺品、电脑手机、饰品以及高档家具等行业，从而衍生出多个新的装饰领域。

非导电样品具有较大的绝缘电阻，在电子束连续扫描过程中，样品表面会逐渐积累负电荷，形成高负电场，排斥入射电子，导致二次电子发射不稳定并随机偏转其轨迹。这会影响探测器的接收效果，造成图像晃动、亮度突变和无规则的明暗条纹现象，即所谓的“荷电效应”或“充电效应”。通常在样品表面镀一层导电薄膜可以提高其导电性，使表面负电荷通过导电膜释放至地面上，从而消除荷电现象。要实现这一效果，膜层需与金属样品台形成有效的导电连接。

连续的导电膜不仅可以改善样品的热传导性以减少热损伤，还能进一步提高其导电性。目前实验室常用的镀膜技术包括真空蒸发和离子溅射。

导电膜层应具备高二次电子产率、良好覆盖性和均匀性，并能在电子束下保持稳定。这种薄膜能够真实反映样品表面的微观细节，有效提升图像质量。通常选用的镀膜材料有碳(C)、铝(Al)、铬(Cr)、金(Au)、铂(Pt)和Au-Pd合金等。其中，金(Au)膜因其高二次电子产率、优良的覆盖性和易于沉积而成为最常用的材料。然而，其颗粒较大，在高倍放大下会显示出明显的“岛状结构”，这是一种装饰假象（见图1-8a）。镀金适用于中低分辨率范围，两万倍以下的图像。铂(Pt)和Au-Pd合金膜则具有更细小的颗粒，适合于更高分辨率的应用（见图1-8b）。对于场发射电镜的要求更加严格，至少需在20万倍放大下仍无结构显现时才满足要求，此时高真空镀铬(Cr)即可达到需求。

图1展示了经过镀膜处理后的塑胶球形貌，其膜层厚度为10纳米。