1-adamantanecarboxylic acid methacrylamide | 1430224-90-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-adamantanecarboxylic acid methacrylamide
• 英文别名: N-methacryloyladamantane-1-carboxamide；N-(2-methylprop-2-enoyl)adamantane-1-carboxamide
• CAS: 1430224-90-0
• 化学式: C₁₅H₂₁NO₂
• 分子量: 247.337
• InChiKey: ORNGQWRZYYXPFK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  396.0±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.146±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.73
• 拓扑面积：
  46.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  金刚烷酰氯 、 甲基丙烯酰胺 在 lithium diisopropyl amide 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 18.17h， 以194.4 g的产率得到1-adamantanecarboxylic acid methacrylamide
  参考文献：
  名称：

  化合物

  摘要：

  这段文本描述了一种具有优异感度、解像性、光刻特性和耐蚀性的光刻胶组合物，以及对该光刻胶组合物有用的化合物，以及使用该光刻胶组合物形成光刻图案的方法。其中，化合物由通式（1）'表示，其中R代表氢原子、碳数为1~5的烷基或碳数为1~5的卤代烷基。R1代表硫原子或氧原子。R2代表单键、以-Y21-O-Y22-表示的基、以-[Y21-C(=O)-O]m'-Y21-表示的基、以-C(=O)-O-Y22-表示的基，或以-Y21-O-C(=O)-Y22-表示的基。Y21和Y22分别独立地是带有取代基的二价碳氢基。m'是0~3的整数。Y是全氟芳香族碳氢基。【图】无

  公开号：

  JP2017081990A

文献信息

• RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20170371241A1

  公开（公告）日：2017-12-28

  A resist composition containing a resin component having a structural unit represented by general formula (a0-1), and a compound represented by general formula (b1). In general formula (a0-1), R is a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. Va 1 is a divalent hydrocarbon group. n a1 represents an integer of 0 to 2. Ra′ 12 and Ra′ 13 are a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom. Ra′ 14 is a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group. In general formula (b1), R b1 represents a cyclic hydrocarbon group. Y b1 represents a divalent linking group containing an ester bond. V b1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond. m is an integer of 1 or more, and M m+ is an m-valent organic cation.

  一种电阻组分，包含具有一般式（a0-1）所代表的结构单元的树脂组分，以及一种由一般式（b1）所代表的化合物。在一般式（a0-1）中，R是氢原子、烷基或卤代烷基。Va1是双价碳氢基团。na1表示0至2的整数。Ra′12和Ra′13是具有1至10个碳原子的单价链饱和碳氢基团或氢原子。Ra′14是苯基、萘基或蒽基。在一般式（b1）中，Rb1代表环烃基。Yb1代表含有酯键的双价连接基团。Vb1代表烷基、氟化烷基或单键。m是1或更多的整数，Mm+是m价有机阳离子。
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND POLYMERIC COMPOUND
  申请人：Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

  公开号：US20140221673A1

  公开（公告）日：2014-08-07

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) containing a polymeric compound (A1) having a structural unit (a5) represented by general formula (a5-0) shown below (R 1 represents a sulfur atom or an oxygen atom; R 2 represents a single bond or a divalent linking group; and Y represents an aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group having a polycyclic group, provided that the aromatic hydrocarbon group or the aliphatic hydrocarbon may have a carbon atom or a hydrogen atom thereof substituted with a substituent.

  一种抗蚀组合物，包括基础组分（A），在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解性，以及在暴露后生成酸的酸发生器组分（B），基础组分（A）包含具有下述通用式（a5-0）所示的结构单元（a5）的聚合物化合物（A1）（R1代表硫原子或氧原子；R2代表单键或二价连接基团；Y代表芳香烃基团或具有多环基团的脂肪烃基团，前提是芳香烃基团或脂肪烃基团可以有其中的碳原子或氢原子被取代的取代基）。
• Resist composition and method for forming resist pattern
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US10241406B2

  公开（公告）日：2019-03-26

  A resist composition containing a resin component having a structural unit represented by general formula (a0-1), and a compound represented by general formula (b1). In general formula (a0-1), R is a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. Va1 is a divalent hydrocarbon group. na1 represents an integer of 0 to 2. Ra′12 and Ra′13 are a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom. Ra′14 is a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group. In general formula (b1), Rb1 represents a cyclic hydrocarbon group. Yb1 represents a divalent linking group containing an ester bond. Vb1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond. m is an integer of 1 or more, and Mm+ is an m-valent organic cation.

  一种抗蚀剂组合物，含有具有通式（a0-1）表示的结构单元的树脂成分和通式（b1）表示的化合物。在通式（a0-1）中，R 是氢原子、烷基或卤代烷基。Va1是二价烃基，na1代表0至2的整数。 Ra′12和Ra′13是具有1至10个碳原子的单价链饱和烃基或氢原子。Ra′14 是苯基、萘基或蒽基。通式（b1）中，Rb1 代表环状烃基。Yb1 代表含有酯键的二价连接基团。Vb1 代表亚烷基、氟化亚烷基或单键。m 为 1 或 1 以上的整数，Mm+ 为 m 价有机阳离子。
• Resist composition, method for forming resist pattern, and polymer compound
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US10295905B2

  公开（公告）日：2019-05-21

  A resist composition which generates an acid upon exposure and whose solubility on a developing solution changes under the action of the acid, including a polymer compound having units represented by formulas (a0-1), (a0-2), and (a0-3) in an amount of 0 to 10 mol %. In the formulas, R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, Va01 and Va03 are a divalent hydrocarbon group, na01 and na03 each are an integer of 0 to 2, Ra0″ is a specific acid dissociable group, Va02 is a divalent linking group containing a hetero atom or a single bond, Ra07 is a monovalent organic group, na021 is an integer of 0 to 3, and na022 is an integer of 1 to 3.

  一种抗蚀剂组合物，该组合物在曝光时会产生一种酸，其在显影溶液上的溶解度会在酸的作用下发生变化，该组合物包括一种具有由式（a0-1）、（a0-2）和（a0-3）表示的单元的聚合物化合物，其含量为 0 至 10 摩尔％。在这些式子中，R 是氢原子、具有 1 至 5 个碳原子的烷基或具有 1 至 5 个碳原子的卤代烷基，Va01 和 Va03 是二价烃基，na01 和 na03 各为 0 至 2 的整数、Ra0″ 是特定的酸可解离基团，Va02 是含有杂原子或单键的二价连接基团，Ra07 是一价有机基团，na021 是 0 至 3 的整数，na022 是 1 至 3 的整数。
• Resist composition, method for forming resist pattern, compound, and acid generator
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US10394122B2

  公开（公告）日：2019-08-27

  A resist composition which generates an acid upon exposure and changes a solubility in a developing solution under an action of the acid, the resist composition containing a base material component whose solubility in the developing solution changes under the action of an acid and an acid generator represented by general formula (b1). In general formula (b-1), Rb1 represents an aromatic hydrocarbon group having at least one alkyl group having 3 or more carbon atoms as a substituent, Yb1 represents a divalent linking group containing an ester bond (—C(═O)—O— or —O—C(═O)—), Vb1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond, m is an integer of 1 or more, and Mm+ represents an m-valent organic cation. Rb1—Yb1—Vb1—CF2—SO3−(Mm+)1/m  (b1)

  一种抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物在曝光时产生酸，并在酸的作用下改变在显影液中的溶解度，该抗蚀剂组合物含有在酸的作用下其在显影液中的溶解度会发生变化的碱基材料成分和通式（b1）表示的酸发生器。在通式（b-1）中，Rb1 代表芳香烃基团，其取代基至少有一个具有 3 个或更多碳原子的烷基，Yb1 代表含有酯键（-C(═O)-O-或-O-C(═O)-）的二价连接基团，Vb1 代表亚烷基、氟化亚烷基或单键，m 是 1 或更多的整数，Mm+ 代表 m 价有机阳离子。 Rb1-Yb1-Vb1-CF2-SO3-(Mm+)1/m (b1)