2-(6-氯-1H-苯并咪唑-2-基)乙醇 | 20033-00-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并咪唑类
• 中文名称: 2-(6-氯-1H-苯并咪唑-2-基)乙醇
• 英文名称: 2-(6-chloro-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)ethanol
• 英文别名: 2-(6-chloro-1H-benzimidazol-2-yl)ethanol
• CAS: 20033-00-5
• 化学式: C₉H₉ClN₂O
• mdl: MFCD03085898
• 分子量: 196.636
• InChiKey: IZTRYOXAYPCDAP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  459.3±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.431±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.222
• 拓扑面积：
  48.9
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2933990090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(6-氯-1H-苯并咪唑-2-基)乙醇 在 偶氮二甲酸二异丙酯 、 一水合肼 、 三苯基膦 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醇 为溶剂， 生成 O-(2-(6-chloro-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)ethyl)hydroxylamine hydrochloride
  参考文献：
  名称：

  咪贝拉地尔类似物的高效合成：对体外稳定性的了解†

  摘要：

  本文介绍了米贝拉地类似物的化学文库的合成和生物学评估，以研究结构修饰对体外稳定性的影响。米贝非尔衍生物2中的二氢苯并吡喃结构的构建是通过两种基于非对映选择性分子间Reformatsky反应和分子内羰基-烯环化的有效方法实现的。特别地，通过分子内羰基-烯反应的第二种策略导致以短而高度立体选择性的方式形成关键中间体3，这使得可以方便实用地制备类似物2。使用该协议，我们可以获得22种新的米贝拉地尔类似物2，这是针对T型钙离子通道和代谢稳定性进行体外测试的生物制剂。在合成的化合物中，我们发现含有二氢苯并吡喃环和仲胺连接基的类似物2aa显示出所测试的CYP酶的高％残留活性，并保留了出色的T型钙通道阻断活性。这些发现表明1的结构修饰对于改善体外稳定性，即减少CYP抑制和代谢降解是有效的。

  DOI：

  10.1039/c4ob00504j
• 作为产物：
  描述：

  4-氯-1,2-苯二胺 、 3-羟基丙腈 在 盐酸 作用下， 以 水 为溶剂， 以22%的产率得到2-(6-氯-1H-苯并咪唑-2-基)乙醇
  参考文献：
  名称：

  咪贝拉地尔类似物的高效合成：对体外稳定性的了解†

  摘要：

  本文介绍了米贝拉地类似物的化学文库的合成和生物学评估，以研究结构修饰对体外稳定性的影响。米贝非尔衍生物2中的二氢苯并吡喃结构的构建是通过两种基于非对映选择性分子间Reformatsky反应和分子内羰基-烯环化的有效方法实现的。特别地，通过分子内羰基-烯反应的第二种策略导致以短而高度立体选择性的方式形成关键中间体3，这使得可以方便实用地制备类似物2。使用该协议，我们可以获得22种新的米贝拉地尔类似物2，这是针对T型钙离子通道和代谢稳定性进行体外测试的生物制剂。在合成的化合物中，我们发现含有二氢苯并吡喃环和仲胺连接基的类似物2aa显示出所测试的CYP酶的高％残留活性，并保留了出色的T型钙通道阻断活性。这些发现表明1的结构修饰对于改善体外稳定性，即减少CYP抑制和代谢降解是有效的。

  DOI：

  10.1039/c4ob00504j

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20150004533A1

  公开（公告）日：2015-01-01

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition in the present invention contains a nitrogen-containing compound (N) which is represented by the following general formula (N1): wherein, in the general formula (N1), X represents a group including a hetero atom; L represents a single bond or an alkylene group; R 2 represents a substituent, in the case where a plurality of R 2 's are present, they may be the same as or different from each other and a plurality of R 2 's may be bonded to each other to form a ring; R 3 represents a hydrogen atom or a substituent; and n represents an integer of 0 to 4.
• WATER-BASED RESIN WITH ELASTICITY FOR APPLICATIONS IN CEMENTING AND SUBTERRANEAN STRUCTURES
  申请人：Saudi Arabian Oil Company

  公开号：US20220017811A1

  公开（公告）日：2022-01-20

  This disclosure relates to compositions including a poly-alkene maleic anhydride copolymer, a PEG, and a crosslinker selected from an ethyleneamine, a benzenetricarboxylic acid, a benzimidazole, and combinations thereof. The poly-alkene maleic anhydride copolymer includes repeat units I and II: where R 1 , R 1′ , R 2 , and R 2′ are each independently selected from —H and —(C 1 -C 5 )alkyl. The disclosure also provides methods of treating a subterranean formation or cement construction using the compositions.
• US5270322A
  申请人：——

  公开号：US5270322A

  公开（公告）日：1993-12-14
• US9323153B2
  申请人：——

  公开号：US9323153B2

  公开（公告）日：2016-04-26
• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE À LA RADIATION, ET FILM SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE À LA RADIATION ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, CHACUN L'UTILISANT
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2013147286A1

  公开（公告）日：2013-10-03

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition in the present invention contains a nitrogen-containing compound (N) which is represented by the following general formula (N1):wherein, in the general formula (N1), X represents a group including a hetero atom; L represents a single bond or an alkylene group; R2 represents a substituent, in the case where a plurality of R2's are present, they may be the same as or different from each other and a plurality of R2's may be bonded to each other to form a ring;R3 represents a hydrogen atom or a substituent; and n represents an integer of 0 to 4.