2-(三氟甲基)-2-丙烯酸 2-甲基三环[3.3.1.1(3,7)]癸-2-基酯 | 188739-86-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 2-(三氟甲基)-2-丙烯酸 2-甲基三环[3.3.1.1(3,7)]癸-2-基酯
• 中文别名: 2-(三氟甲基)-2-丙烯酸2-甲基三环[3.3.1.1(3,7)]癸-2-基酯
• 英文名称: 2-(2-trifluoromethyl-2-propenoyloxy)-2-methyladamntane
• 英文别名: 2-methyl-2-adamantyl α-trifluoromethylacrylate；α-trifluoromethylacrylic 2-methyl-2-adamantyl ester；2-trifluoromethyl-acrylic acid 2-methyl-adamantan-2-yl ester；TFMA-MAD；2-trifluoromethyl acrylic acid 2-methyl-2-adamantyl ester；2-(2-Trifluoromethyl-2-propenoyloxy)-2-methyladamantane；(2-methyl-2-adamantyl) 2-(trifluoromethyl)prop-2-enoate
• CAS: 188739-86-8
• 化学式: C₁₅H₁₉F₃O₂
• 分子量: 288.31
• InChiKey: LKXYIIGMHKAPPU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(三氟甲基)-2-丙烯酸 2-甲基三环[3.3.1.1(3,7)]癸-2-基酯 、 氯化三苯基硫 在 sodium hydrogen sulfate 作用下， 以 甲醇 、 水 、 乙腈 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 15.0h， 以38%的产率得到adamantan
  参考文献：
  名称：

  Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, acid generator and compound

  摘要：

  本发明提供了一种辐射敏感的树脂组合物，其中包含具有包含酸可降解基团的结构单元的聚合物；和酸发生剂，其中酸发生剂包括包含具有SO3−的磺酸盐阴离子的化合物，其中相对于SO3−，氢原子或给电子基团键合到α碳原子，而带有对SO3−的β碳原子键合到一个电子吸引基团；以及辐射降解的离子阳离子。所述化合物最好具有由以下公式(1-1)或(1-2)表示的基团。在以下公式(1-1)和(1-2)中，R1和R2各自独立地代表氢原子或一价给电子基团。R3代表一价的吸电子基团。R4代表氢原子或一价的碳氢基团。

  公开号：

  US09523911B2
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-2-金刚烷醇 、 2-(trifluoromethyl)acrylic chloride 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以70.3%的产率得到2-(三氟甲基)-2-丙烯酸 2-甲基三环[3.3.1.1(3,7)]癸-2-基酯
  参考文献：
  名称：

  Process for preparing acrylate compound

  摘要：

  通过让化学式（1）：2的丙烯酸化合物与化学式（2）或（3）：3的不饱和化合物发生反应，可以制备出化学式（4）：1的丙烯酸酯化合物。在化学式（1）到（4）中，R1和R2为H或F，R3为H、F或烷基、烯基、氟烷基或氟烯基基团，R4和R5为H、卤素或烷基、烯基、卤代烷基或卤代烯基基团；X和Y为未取代或取代的碳氢基团，虚线- - - - - 表示X和Y可以连接在一起形成环状结构。

  公开号：

  US20030139613A1

文献信息

• Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, acid generator and compound
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US09523911B2

  公开（公告）日：2016-12-20

  The present invention provides a radiation-sensitive resin composition that contains a polymer having a structural unit that includes an acid-labile group; and an acid generator, wherein the acid generator includes a compound including a sulfonate anion having SO3−, wherein a hydrogen atom or an electron-donating group bonds to an α carbon atom with respect to SO3−, and an electron-withdrawing group bonds to a β carbon atom with respect to SO3−; and a radiation-degradable onium cation. The compound preferably has a group represented by the following formula (1-1) or (1-2). In the following formulae (1-1) and (1-2), R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent electron-donating group. R3 represent a monovalent electron-withdrawing group. R4 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.

  本发明提供了一种辐射敏感的树脂组合物，其中包含具有包含酸可降解基团的结构单元的聚合物；和酸发生剂，其中酸发生剂包括包含具有SO3−的磺酸盐阴离子的化合物，其中相对于SO3−，氢原子或给电子基团键合到α碳原子，而带有对SO3−的β碳原子键合到一个电子吸引基团；以及辐射降解的离子阳离子。所述化合物最好具有由以下公式(1-1)或(1-2)表示的基团。在以下公式(1-1)和(1-2)中，R1和R2各自独立地代表氢原子或一价给电子基团。R3代表一价的吸电子基团。R4代表氢原子或一价的碳氢基团。
• Fluorine-containing allyl ether compounds, their copolymers, and resist compositions and anti-reflection film materials using such copolymers
  申请人：Central Glass Company, Limited

  公开号：US20040116750A1

  公开（公告）日：2004-06-17

  The invention relates to a fluorine-containing allyl ether compound represented by the formula 1, 1 wherein R represents an organic group containing at least one fluorine atom and an alicyclic structure. The invention further relates to a fluorine-containing copolymer containing a first unit derived from the fluorine-containing allyl ether represented by the formula 1; and a second unit derived from a vinyl monomer.

  该发明涉及一种含氟烯丙醚化合物，其化学式为1,1，其中R表示至少含有一个氟原子和脂环结构的有机基团。该发明还涉及一种含氟共聚物，包括从化学式1所表示的含氟烯丙醚衍生的第一单元和从乙烯单体衍生的第二单元。
• フッ素原子含有重合性アダマンタン誘導体とその製造法、及び高分子化合物
  申请人：——

  公开号：JP2005112824A

  公开（公告）日：2005-04-28

  PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a new fluorine-containing polymerizable unsaturated monomer useful for producing a polymer compound having high transparency to the light having wavelength of ≤300 nm, especially vacuum ultraviolet rays of F2excimer laser (157 nm), or the like.

  SOLUTION: The monomer expressed by formula (4) (R1is fluorine atom or a fluoroalkyl group; an adamantane thereof ring may have substituents) is produced by reacting a compound expressed by formula (1) (the adamantane ring may have substituents) with a methylation agent expressed by the formula (2): CH3-M (M is a metal atom or MgX1group (X1is a halogen atom)) and reacting the reaction product with an unsaturated acyl halide expressed by formula (3) (R1is same as defined above; and X2is a halogen atom).

  COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

  问题要解决的是：提供一种制备新的含氟可聚合不饱和单体的方法，该单体可用于制备具有高透明度的聚合物化合物，其光波长≤300 nm，特别是F2准分子激光（157 nm）的真空紫外线或类似波长的光线。 解决方案：通过将式（1）表示的化合物（莽环上可能有取代基）与式（2）表示的甲基化试剂（M是金属原子或MgX1基团（X1是卤素原子））反应，然后将反应产物与式（3）表示的不饱和酰卤反应（R1与上述定义相同；X2是卤素原子），制备出式（4）表示的单体（R1是氟原子或氟代烷基；其莽环可能有取代基）。 版权所有：（C）2005，JPO＆NCIPI
• Polymerizable monomer polymeric compound resin compositions for photoresist and method for producing semiconductor
  申请人：Koyama Hiroshi

  公开号：US20060058480A1

  公开（公告）日：2006-03-16

  A polymerizable monomer of the present invention is represented by the following formula (1); R 1 , R 2 and R 3 are each a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group or a fluoroalkyl group, W is a single bond or a linkage group and n is 0 or 1, where at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a fluorine atom or a fluoroalkyl group when n= 1; and the ring in the formula may have a substituent. The polymerizable monomer of the present invention can provide an appropriate hydrophilicity or hydrophilicity and transparency to a photoresist polymer.

  本发明的可聚合单体由以下公式（1）表示；其中，R1、R2和R3分别为氢原子、氟原子、烷基或氟烷基，W为单键或连接基，n为0或1，当n=1时，R1、R2和R3中至少有一个为氟原子或氟烷基；公式中的环可能具有取代基。本发明的可聚合单体能够为光刻胶聚合物提供适当的亲水性或亲疏水性和透明度。
• ACRYLIC ACID ESTER DERIVATIVE AND METHOD FOR PRODUCING SAME, INTERMEDIATE AND METHOD FOR PRODUCING SAME, HIGH-MOLECULAR-WEIGHT COMPOUND, AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：KURARAY CO., LTD.

  公开号：US20150037733A1

  公开（公告）日：2015-02-05

  Provided is an acrylic acid ester derivative which, when used as a constituent unit of a polymer which is included in a photoresist composition for a semiconductor, exhibits excellent lithography characteristics such as LWR and the like. Specifically, provided is an acrylic acid ester derivative represented by the following general formula (1). Furthermore, provided are an intermediate of the acrylic acid ester derivative and a process for producing the same; a polymer containing the acrylic acid ester derivative as a constituent unit; and a photoresist composition for a semiconductor containing the polymer. wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , m, x, and y are as defined in the text of Description.

  提供的是一种丙烯酸酯衍生物，当用作聚合物的组成单元时，该聚合物包含在半导体光阻组合物中，表现出优异的光刻特性，例如LWR等。具体而言，提供了由以下通式（1）表示的丙烯酸酯衍生物。此外，还提供了丙烯酸酯衍生物的中间体和制备方法；以及含有丙烯酸酯衍生物作为组成单元的聚合物和用于半导体的光阻组合物。其中，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，R9，R10，R11，R12，R13，m，x和y如描述文本中所定义。