1-ethoxy-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzene | 500787-98-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-ethoxy-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzene
• 英文别名: 4-(1,1,3,3-tetramethyl-butyl)-phenetole；Aethyl-[4-(1.1.3.3-tetramethyl-butyl)-phenyl]-aether；4-Aethoxy-1-(1.1.3.3-tetramethyl-butyl)-benzol；4-(1,1,3,3-Tetramethyl-butyl)-phenetol
• CAS: 500787-98-4
• 化学式: C₁₆H₂₆O
• 分子量: 234.382
• InChiKey: COZFPLYBZGQEEM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  302.6±21.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.892±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.7
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-ethoxy-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzene 在 chromium(VI) oxide 、 溶剂黄146 作用下， 生成 对乙氧基苯甲酸 、 2-ethoxy-5-(1,1,3,3-tetramethyl-butyl)-[1,4]benzoquinone
  参考文献：
  名称：

  二叔丁基苯酚的合成-结构-性能-衍生物

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ie50347a014
• 作为产物：
  描述：

  对特辛基苯酚 在 硼酸三甲酯 、 三乙胺 、 丙酮 、 三氟乙酸 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 1-ethoxy-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzene
  参考文献：
  名称：

  通过光实现无过渡金属的 CC、CO 和 CN 交叉耦合

  摘要：

  用于构建 CC、CO 和 CN 键的过渡金属催化交叉偶联已经彻底改变了化学科学。尽管取得了巨大的成就，但这些金属催化剂也存在一些问题，包括成本高、需要专门的配体、对空气和水分的敏感性以及所谓的“过渡金属残留问题”。不依赖于成熟的氧化加成、金属转移和还原消除机制范式的互补策略可能会消除所有这些与金属相关的问题。在此，我们表明芳基三氟甲磺酸酯可以与芳基三氟硼酸钾、脂肪醇和腈偶联，而无需借助光能赋能的金属催化剂。对照实验表明，在所有常见的芳基亲电试剂中，只有芳基三氟甲磺酸酯能够进行这些偶联，而芳基碘化物和溴化物不能作为偶联伙伴。DFT 计算表明，一旦转化为芳基自由基阳离子，芳基三氟甲磺酸酯将更有利于 ipso 取代。荧光光谱和循环伏安法研究表明，激发态丙酮和芳基三氟甲磺酸酯之间的相互作用对于这些偶联是必不可少的。预计本报告中的结果将为执行交叉耦合提供新的机会。荧光光谱和循环伏安法研究表明，激发态

  DOI：

  10.1021/jacs.9b02684

文献信息

• TROPANE DERIVATIVES USEFUL AS PESTICIDES
  申请人：Selles Patrice

  公开号：US20100331348A1

  公开（公告）日：2010-12-30

  Compounds of formula (I) wherein the substituents have the meanings assigned to them in claim 1, are useful as pesticides.

  式(I)中的化合物，其中取代基具有在权利要求书1中分配给它们的含义，可用作杀虫剂。
• [EN] MEASUREMENT OF ETCHING MOLECULE LEVEL IN ETCHING COMPOSITION<br/>[FR] MESURE DE NIVEAU DE MOLÉCULE DE GRAVURE DANS UNE COMPOSITION DE GRAVURE
  申请人：ECOLAB USA INC

  公开号：WO2016099660A1

  公开（公告）日：2016-06-23

  A method for identifying the amount of hydrofluoric acid in a buffered oxide etching composition. In buffered oxide etching compositions it is very difficult to measure the amount of hydrofluoric acid because it has varying equilibriums and it is toxic so it hard to handle and sample. When used to manufacture microchips however, incorrect amounts of hydrofluoric acid will ruin those chips. The invention utilizes a unique method of spectrographically measuring the hydrofluoric acid when in contact with added chro mo genie agents to obtain exact measurements that are accurate, immediate, and safe.