α,α,α',α'-tetramethyl-2,2'-biphenyldimethanol | 109398-58-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: α,α,α',α'-tetramethyl-2,2'-biphenyldimethanol
• 英文别名: 2,2'-(biphenyl-2,2'-diyl)di(propan-2-ol)；2,2'-Bis-(α-hydroxy-isopropyl)-biphenyl；2,2'-(Biphenyl-2,2'-diyl)dipropan-2-ol；2-[2-[2-(2-hydroxypropan-2-yl)phenyl]phenyl]propan-2-ol
• CAS: 109398-58-5
• 化学式: C₁₈H₂₂O₂
• 分子量: 270.371
• InChiKey: GJCSWUMZTIJFMV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  α,α,α',α'-tetramethyl-2,2'-biphenyldimethanol 在 三溴化磷 、 五溴化磷 作用下， 生成 5,5,7-trimethyl-5H-dibenzo[a,c]cycloheptene
  参考文献：
  名称：

  X-ray colour maps of the cores of galaxy clusters

  摘要：

  我们对星系团核心的 X 射线颜色图进行了分析，这些颜色图是由不同 X 射线波段的计数比形成的。我们的技术将位于星系团自适应平滑图像中轮廓线之间的像素分组。我们选择等高线水平，以尽量减少颜色比的不确定性，同时保留天体的结构。我们对 Allen 和 Fabian 的工作进行了扩展，研究了星团核心中冷却气体和吸收物质的空间分布。他们的样本几乎增加了一倍：我们分析了天空中 55 个最亮 X 射线星团样本中 33 个星团的 ROSAT 位置敏感比例计数器（PSPC）存档数据。我们的许多星团都含有强烈的冷却流。除了不同波段的自适应平滑图像外，我们还展示了这些星团样本的彩色图。与几个非冷却流星团不同的是，大多数冷却流星团显示出很少的子结构。我们对星团的中高能量颜色拟合了一个具有银河系吸收和恒定金属性的等温等离子体模型。那些已知有强冷却流的星团，其内部轮廓拟合的温度明显低于外部轮廓。样本中没有强冷却流的星团则没有明显的温度变化。仅加入金属性梯度不足以解释观测结果。在已知有强冷却流成分的星团中，冷却流成分加上恒温阶段确实可以解释颜色剖面。我们还必须提高吸收物质的水平，以适应星团中心的低过高色彩。我们的结果提供了更多证据，证明冷却流积累了吸收物质。在非冷却流星团中没有发现吸收增加的证据。

  DOI：

  10.1046/j.1365-8711.2000.03782.x
• 作为产物：
  描述：

  2,2'-双溴双苯 、 丙酮 在 正丁基锂 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 α,α,α',α'-tetramethyl-2,2'-biphenyldimethanol
  参考文献：
  名称：

  受阻联苯甲醇的轴向手性阻转异构体的结构，构型，立体动力学，二聚体形成和绝对构型

  摘要：

  在邻位带有单个CR 2 OH取代基的联苯衍生物的NMR光谱表明，由于绕Ar-CR 2 OH键的旋转受限制，它们以sp（更稳定）和ap（不稳定）构象异构体形式存在。当R ＝ Et（化合物2）时，通过低温NMR光谱的线形模拟确定相应的旋转势垒（7.5kcal mol -1）。在联苯的3'位置引入前手性i- Pr基团，在2（4）位具有CMe 2 OH取代基，从而可以确定对映异构体的阻隔层（由于Ar-Ar键旋转）而对轴向不稳定手性阻转异构体（13.9 5kcal mol -1）。这些壁垒的DFT计算均与实验一致。发现在2,2'位置带有两个CR 2 OH基团的联苯以构型稳定的阻转异构体形式存在：当R = Me（7）时，它们通过对映选择性HPLC分离，并根据相应的CD光谱确定了绝对构型。在溶液中，由于两种对映异构体之间的氢键相互作用，发现化合物6（R = H）和7（R = Me）引发了二聚体。在7的情况下，活化的自由能（9

  DOI：

  10.1021/jo701481m

文献信息

• 234. Organic molecular compounds. Part III. Compounds of phenols with some synthetic cyclic oxides
  作者：G. Macdonald Bennett、Ralph L. Wain

  DOI：10.1039/jr9360001114

  日期：——
• Hall et al., Journal of the Chemical Society, 1956, p. 3475,3480
  作者：Hall et al.

  DOI：——

  日期：——
• Zubair; Oladosu, South African Journal of Chemistry, 2006, vol. 59, p. 122 - 124
  作者：Zubair、Oladosu

  DOI：——

  日期：——
• PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND MASK BLANK
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20170121437A1

  公开（公告）日：2017-05-04

  A pattern forming method includes forming a film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, exposing the film with active light or radiation, and developing the exposed film using a developer including an organic solvent, in which the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound having a partial structure represented by General Formula (I).