Ethyl 2-nitro-3-hydroxypropanoate | 96040-01-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Ethyl 2-nitro-3-hydroxypropanoate
• 英文别名: ethyl 3-hydroxy-2-nitropropanoate；α-Nitro-β-hydroxy-propionsaeure-ethylester；Aethyl-2-nitro-3-hydroxypropionat
• CAS: 96040-01-6
• 化学式: C₅H₉NO₅
• 分子量: 163.13
• InChiKey: AEHCSFZIVXFNOM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.2
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  92.4
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Ethyl 2-nitro-3-hydroxypropanoate 、 1,3-丁二烯 生成 1-Nitro-1-carbethoxycyclohexene-3
  参考文献：
  名称：

  Babievskii,K.K. et al., Doklady Chemistry, 1965, vol. 160, p. 5 - 7

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  硝基乙酸乙酯 以36%的产率得到Ethyl 2-nitro-3-hydroxypropanoate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER AND COMPOUND

  摘要：

  [问题] 在液体浸润光刻后，减少薄膜表现出降低的疏水性所需的时间，同时允许薄膜表面在液体浸润光刻期间表现出高疏水性。[解决方案] 包括（A）聚合物和（B）光酸发生剂的辐射敏感树脂组合物，其中重复单元（a1）包括重复单元（a1）和氟原子，并且（a1）包括以下任意一种公式（1-1）至（1-3）所示的基团。

  公开号：

  US20120082934A1

文献信息

• l-2-Nitro-1,3-alkanediols by stereoselective addition of nitroethanol to aldehydes. On the asymmetric electrophilic addition to double bonds
  作者：Martin Eyer、Dieter Seebach

  DOI：10.1021/ja00298a033

  日期：1985.6
• Cetyltrimethylammonium hydroxide (CTAOH) as a general, ecofriendly catalyst for the formation of carbon–carbon bond through nitroalkanes
  作者：Roberto Ballini、Dennis Fiorini、Maria Victoria Gil、Alessandro Palmieri

  DOI：10.1016/j.tet.2004.01.067

  日期：2004.3

  Nitroalkanes have been found to give good yields in Michael and nitroaldol (Henry) reactions by the use of a catalytic amount (10 mol%) of CTAOH. at room temperature and under solvent free conditions and in very short reaction times. The methods do not need a large excess of the nitroalkanes and show good chemoselectivity toward further functionalities. (C) 2004 Elsevier Ltd. All rights reserved.
• New Efficient Route to .alpha.-Nitro Acids. Oxidation of Amino Acids with HOF.cntdot.CH3CN
  作者：Shlomo Rozen、Arie Bar-Haim、Eyal Mishani

  DOI：10.1021/jo00084a047

  日期：1994.3
• Babievskii,K.K. et al., Doklady Chemistry, 1965, vol. 160, p. 5 - 7
  作者：Babievskii,K.K. et al.

  DOI：——

  日期：——
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER AND COMPOUND
  申请人：Nakahara Kazuo

  公开号：US20120082934A1

  公开（公告）日：2012-04-05

  [Problem] To reduce the time required for a film to exhibit decreased hydrophobicity after liquid immersion lithography while allowing the surface of a film to exhibit high hydrophobicity during liquid immersion lithography. [Solution] A radiation-sensitive resin composition including (A) a polymer that includes a repeating unit (a1) and a fluorine atom, and (B) a photoacid generator, the repeating unit (a1) including a group shown by any of the following formulas (1-1) to (1-3).

  [问题] 在液体浸润光刻后，减少薄膜表现出降低的疏水性所需的时间，同时允许薄膜表面在液体浸润光刻期间表现出高疏水性。[解决方案] 包括（A）聚合物和（B）光酸发生剂的辐射敏感树脂组合物，其中重复单元（a1）包括重复单元（a1）和氟原子，并且（a1）包括以下任意一种公式（1-1）至（1-3）所示的基团。