between the determined rate constants and substrate pKa, X-H bond dissociation energy, and oxidation potential, respectively, was performed. Through this analysis, we found that 2 reacted by a hydrogen atom transfer (HAT) mechanism. Our findings shine light on enzymatic high-valent oxo-metal-halide oxidants and open new avenues for oxidative halogenation catalyst design.
氧合
金属卤化物部分经常被认为是 CH 键活化氧化剂,末端氧合
金属实体被确定为亲电氧化剂。尚未研究
金属卤化物物种的亲电反应性。我们通过单电子氧化制备了高价卤化
镍络合物 [NiIII(Cl)(L)] (2, L = N,N'-(2,6-二甲基苯基)-2,6-
吡啶二甲酰胺) [NiIII(Cl)(L)]-前体。2 使用电子吸收、电子顺磁共振、X 射线吸收光谱和质谱进行表征。2 容易与含有
酚羟基或烃 CH 键的底物反应。分别分析测定的速率常数与底物 pKa、XH 键解离能和氧化电位之间的 Hammett、Evans-Polanyi 和 Marcus 关系,进行了。通过该分析,我们发现 2 通过氢原子转移 (HAT) 机制发生反应。我们的发现揭示了酶促高价氧代
金属卤化物氧化剂,并为氧化卤化催化剂设计开辟了新途径。