1,4-bis(dichloromethyl)-2,3,5,6-tetrafluorobenzene | 713144-57-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,4-bis(dichloromethyl)-2,3,5,6-tetrafluorobenzene
• 英文别名: 1,4-bis(dichloromethyl)-tetrafluorobenzene；1,4-bis(dichloromethyl)tetrafluorobenzene
• CAS: 713144-57-1
• 化学式: C₈H₂Cl₄F₄
• 分子量: 315.909
• InChiKey: IQRYDPQBONRATP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  257.6±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.699±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,4-bis(dichloromethyl)-2,3,5,6-tetrafluorobenzene 在 硫酸 、 iron(II) sulfate 作用下， 反应 6.0h， 以55%的产率得到四氟对苯二甲醛
  参考文献：
  名称：

  1,4-双-(4,5-二苯基咪唑-2-亚基)环己-2,5-二烯衍生物闭壳分子中双基特征贡献的确切证据

  摘要：

  这项研究提供了确凿的证据，即具有双自由基特性的热激发开壳态有助于闭壳分子 tF-BDPI-2Y 的基态，其中中心亚苯基环的四个氢原子被四个氟原子取代1,4-双-(4,5-二苯基咪唑-2-亚基)环己-2,5-二烯(BDPI-2Y)。tF-BDPI-2Y 的双自由基种类数量的小幅增加会导致通过自由基重组反应形成二聚体形式。控制闭壳反磁醌态和开壳顺磁双自由基状态之间的平衡将在 pi 共轭离域双自由基化学领域取得重大进展。

  DOI：

  10.1021/ja049423h
• 作为产物：
  描述：

  四氟对苯二甲醛 在 N,N-二甲基甲酰胺 氯化亚砜 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 3.0h， 以61.05%的产率得到1,4-bis(dichloromethyl)-2,3,5,6-tetrafluorobenzene
  参考文献：
  名称：

  Method for producing 1,4-bis (dichloromethyl) tetrafluorobenzene

  摘要：

  本发明揭示了一种制备1,4-双(二氯甲基)四氟苯的方法，该方法通过反应四氟苯二甲醛、SOCl2和有机溶剂实现。在添加甲酰胺作为催化剂合成1,4-双(二氯甲基)四氟苯的过程中，具有显著的优点，包括缩短反应时间；简化合成步骤和提高产品的产率。

  公开号：

  US07544847B1

文献信息

• Method for producing 1,4-bis(difluoromethyl)tetrafluorobenzene
  申请人：Yuan-Shin Materials Technology Corp.

  公开号：US07544846B1

  公开（公告）日：2009-06-09

  A method for producing 1,4-bis(difluoromethyl)tetrafluorobenzene is disclosed, which has the following steps: (a) mixing 1,4-bis(dichloromethyl)tetrafluorobenzene, a catalyst, an aprotic polar solvent, and an alkali metal fluoride to form a reaction mixture; (b) heating the reaction mixture; and (c) purifying the resultant to obtain 1,4-bis(difluoromethyl)tetrafluorobenzene.

  公开了一种生产1,4-双(二氟甲基)四氟苯的方法，其步骤如下：(a)混合1,4-双(二氯甲基)四氟苯、催化剂、无质子极性溶剂和碱金属氟化物形成反应混合物；(b)加热反应混合物；(c)纯化产物以获得1,4-双(二氟甲基)四氟苯。
• Method for production of halogen-containing aromatic compound
  申请人：Nippon Shokubai Co., Ltd.

  公开号：EP0995734A1

  公开（公告）日：2000-04-26

  A method for producing inexpensively in a high yield a halogen-containing aromatic compound, particularly a halogen-containing aromatic compound incorporating therein a bromodifluoroalkyl group, and a halogen-containing naphthalene compound useful as a raw material for a resin excelling in heat resistance, chemical resistance and water repellency, and having a low dielectric constant and a low refractivity are provided. This invention relates to a method for the production of an aromatic compound (II) having a (CH2)nCX2Br group (wherein X represents a fluorine or chlorine atom and the X's may be same or different, and n is an integer in the range of 0 to 4) by the reaction of photo-bromination of an aromatic compound (I) having a (CH2)nCX2H group (wherein X and n are as defined above) with a brominating agent, wherein the photo-bromination reaction is carried out while removing hydrogen bromide generated in the reaction system and/or in an atmosphere of a low oxygen content, and a halogen-containing naphthalene compound represented by the following formula (1): wherein Y represents -CF2H, -CF2Br, or -CHO group, Z1 and Z2 independently represent a halogen atom, and p and q independently are an integer in the range of 0 to 3.

  本发明提供了一种以低成本高产率生产含卤素芳香族化合物，特别是其中含有溴二氟烷基的含卤素芳香族化合物的方法，以及一种可用作耐热性、耐化学性和憎水性优异且具有低介电常数和低折射率的树脂原料的含卤素萘化合物。本发明涉及一种芳香族化合物 (II) 的生产方法，该芳香族化合物 (II) 具有 (CH2)nCX2Br 基团（其中 X 代表氟原子或氯原子，X 可以相同或不同，n 为 0 至 4 范围内的整数），该芳香族化合物 (II) 通过具有 (CH2)nCX2H 基团（其中 X 和 n 如上定义）的芳香族化合物 (I) 与溴化剂的光溴化反应生产、其中，光溴化反应是在除去反应体系中产生的溴化氢和/或在低氧气氛中进行的，含卤素的萘化合物由下式（1）表示： 其中 Y 代表 -CF2H、-CF2Br 或 -CHO 基团，Z1 和 Z2 独立地代表卤素原子，p 和 q 独立地为 0 至 3 范围内的整数。
• Thiele’s Fluorocarbons: Stable Diradicaloids with Efficient Visible-to-Near-Infrared Fluorescence from a Zwitterionic Excited State
  作者：Cheng-Hao Liu、Zhechang He、Cory Ruchlin、Yuxuan Che、Kyle Somers、Dmytro F. Perepichka

  DOI：10.1021/jacs.3c05009

  日期：2023.7.26
• JP2010150213A
  申请人：——

  公开号：JP2010150213A

  公开（公告）日：2010-07-08
• JP2010150214A
  申请人：——

  公开号：JP2010150214A

  公开（公告）日：2010-07-08