acetic acid-4-allyl-oxy-butyl ester | 60905-44-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: acetic acid-4-allyl-oxy-butyl ester
• 英文别名: ethanoic acid 4-allyloxybutyl ester；acetic acid-allyloxy-butyl ester；1-allyloxy-4-acetoxybutane；4-Prop-2-enoxybutyl acetate
• CAS: 60905-44-4
• 化学式: C₉H₁₆O₃
• 分子量: 172.224
• InChiKey: ALAQLIDLNHZJER-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.3
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  acetic acid-4-allyl-oxy-butyl ester 在 Pd(PPh3) 1,3-二甲基巴比妥酸 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 24.0h， 以88%的产率得到4-acetoxy-1-butanol
  参考文献：
  名称：

  基于钯(0)-催化烯丙基烷基化N,N'-二甲基巴比妥酸的烯丙基醚的简便和选择性裂解

  摘要：

  N,N'-二甲基巴比妥酸的经典钯 (0) 催化烯丙基烷基化可用于烯丙基烷基醚的轻松和选择性裂解，以优异的产率释放相应的醇。 该反应在中性条件下进行，无需任何添加剂活化烯丙基醚并耐受各种官能团，如酯、醚、酮、烷基和芳基氯、腈和硝基。

  DOI：

  10.1055/s-2003-39320
• 作为产物：
  描述：

  四氢呋喃 、 mercury(II) diacetate 、 3-溴丙烯 生成 acetic acid-4-allyl-oxy-butyl ester
  参考文献：
  名称：

  烷基卤化物与汞 (II) 盐在四氢呋喃中的反应。4-烷氧基丁基乙酸酯和氯化物的简便制备

  摘要：

  伯和仲烷基碘化物和溴化物与 Hg(OAc)2 和 HgCl2 在四氢呋喃 (THF) 中的反应得到掺入 THF 的化合物 (1)，RO(CH2)4X [X=OAc 和 Cl，分别]产量。当 HgBr2 和水或醇 Hg(ClO4)2 用作汞 (II) 盐时，1(X=Br、OH 和 OR') 的产率很低。用 HgI2 进行类似处理几乎没有得到任何 1。 提出了一种涉及 O-烷基四氢呋喃离子作为中间体的反应方案，用于形成 1。

  DOI：

  10.1246/bcsj.49.2500

文献信息

• Remarkable Solvent Effect on Pd(0)-Catalyzed Deprotection of Allyl Ethers Using Barbituric Acid Derivatives: Application to Selective and Successive Removal of Allyl, Methallyl, and Prenyl Ethers
  作者：Hirokazu Tsukamoto、Takamichi Suzuki、Yoshinori Kondo

  DOI：10.1055/s-2007-992352

  日期：——

  Pd(0)-catalyzed deprotection of allyl ethers using barbituric acid derivatives in protic polar solvent such as MeOH and aqueous 1,4-dioxane proceeds at room temperature without affecting a wide variety of functional groups. Control of the reaction temperature allows selective and successive cleavage of allyl, methallyl, and prenyl ethers. A study of ligand effects on the deprotection reveals that the

  使用巴比妥酸衍生物在质子极性溶剂（如 MeOH 和 1,4-二恶烷水溶液中）中 Pd(0) 催化的烯丙基醚脱保护在室温下进行，而不会影响多种官能团。反应温度的控制允许烯丙基、甲代烯丙基和异戊二烯醚的选择性和连续裂解。配体对脱保护作用的研究表明，甲醇中反应性的提高是由于加速氧化加成到 Pd(0)。
• Chromatography-free Pd-catalyzed deprotection of allyl ethers using PS-DEAM as a scavenger of boronic acids and Pd catalyst
  作者：Hirokazu Tsukamoto、Takamichi Suzuki、Masanori Sato、Yoshinori Kondo

  DOI：10.1016/j.tetlet.2007.10.001

  日期：2007.11

  Pd(PPh3)4-catalyzed cleavage of allylic alkyl ethers using phenylboronic acid can effectively release Pd-free parent alcohols. Furthermore, chromatography-free deallylation can be conducted by using vinylboronic anhydride pyridine complex as an allyl scavenger with a catalytic amount of Pd(OAc)2 and 4-(diphenylphosphino)benzoic acid instead of Pd(PPh3)4 to yield the desired products in high purities and

  聚苯乙烯键合的二乙醇胺（PS-DEAM）处理新开发的Pd（PPh 3）4-使用苯基硼酸裂解烯丙基烷基醚可以有效释放不含Pd的母体醇。此外，可以通过使用乙烯基硼酸酐吡啶配合物作为烯丙基清除剂，用催化量的Pd（OAc）2和4-（二苯基膦基）苯甲酸代替Pd（PPh 3）4进行无色谱脱醛反应，得到所需产物通过与PS-DEAM的酸碱相互作用分别蒸发和螯合除去挥发性副产物和膦衍生的污染物后，可以得到高纯度和高收率的产品。
• Nickel-catalyzed generation of 2-methylhex-5-enyl ethers from allyl ethers with trimethylaluminium
  作者：Takahiko Taniguchi、Kunio Ogasawara

  DOI：10.1039/a802430h

  日期：——

  Allyl ethers have been converted into the corresponding 2-methylhex-5-enyl ethers in one step on treatment with trimethylaluminium in the presence of a catalytic amount of (dppp)NiCl2.

  丙烯醚在催化量的(dppp)NiCl2存在下，与三甲基铝处理后，已一步转化为相应的2-甲基己-5-烯基醚。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS, PROCESSES FOR PREPARING CURED FILMS, THE RESULTING CURED FILMS, ORGANIC EL DISPLAY DEVICES AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICES
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20150148546A1

  公开（公告）日：2015-05-28

  Provided is a photosensitive resin composition having high sensitivity and storage stability. The photosensitive resin composition comprises (A) a polymer component including a polymer satisfying at least one of (1) and (2) below: (1) a polymer comprising (a1) a structural unit containing a group in which an acid group is protected by an acid-dissociable group, and (a2) a structural unit containing a crosslinkable group, and (2) a polymer comprising (a1) a structural unit containing a group in which an acid group is protected by an acid-dissociable group, and a polymer comprising (a2) a structural unit containing a crosslinkable group; (B) a compound represented by formula (I) below; and (C) a solvent;

  提供了一种具有高灵敏度和储存稳定性的光敏树脂组合物。该光敏树脂组合物包括(A)聚合物组分，包括满足以下至少一种的聚合物：(1)包含具有酸基被酸可解离基团保护的基团(a1)和含有可交联基团的基团(a2)的聚合物；(2)包含具有酸基被酸可解离基团保护的基团(a1)的聚合物和包含含有可交联基团的基团(a2)的聚合物；(B)由以下公式(I)表示的化合物；和(C)溶剂。
• Photosensitive transfer material, pattern formation method, and etching method
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10108091B2

  公开（公告）日：2018-10-23

  A photosensitive transfer material including a support and a photosensitive resin composition layer, in which the photosensitive resin composition layer includes a polymer component (A) including a polymer having a constituent unit (a1) that includes a group in which an acid group is protected by an acid-decomposable group and a photoacid generator (B), and the photosensitive resin composition layer does not have an ethylenic crosslinking structure is a positive-type material, is excellent in terms of heat-resistant rectangular properties, etchant resistance, and resist peeling properties, and generates only a small amount of dust during processes; a pattern formation method, and an etching method.

  一种光敏转印材料，包括支撑体和光敏树脂组成层，其中光敏树脂组成层包括聚合物成分（A），聚合物成分包括具有组成单元（a1）的聚合物，组成单元（a1）包括酸基被酸可分解基团和光酸发生器（B）保护的基团，光敏树脂组成层不具有乙烯交联结构，是一种正型材料，在耐热矩形性能、耐蚀刻剂性能和抗剥离性能方面非常出色，并且在加工过程中仅产生少量粉尘；图案形成方法和蚀刻方法。