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α-ethoxy-isovaleric acid ethyl ester | 109989-35-7

中文名称
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中文别名
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英文名称
α-ethoxy-isovaleric acid ethyl ester
英文别名
α-Aethoxy-isovaleriansaeure-aethylester;Ethyl 2-ethoxy-3-methylbutanoate
α-ethoxy-isovaleric acid ethyl ester化学式
CAS
109989-35-7
化学式
C9H18O3
mdl
——
分子量
174.24
InChiKey
UXBJADKXMKFLCL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    218.5±13.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.928±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.1
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.89
  • 拓扑面积:
    35.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

反应信息

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文献信息

  • Radiation-sensitive resin composition
    申请人:JAPAN SYNTHETIC RUBBER CO., LTD.
    公开号:EP0211667A2
    公开(公告)日:1987-02-25
    A radiation-sensitive resin composition comprises a solution of an alkali-soluble resin and a radiation-sensitive compound in a solvent comprising a monooxymonocarboxylic acid ester. This composition has a high storgage stability (i.e., a very small amount of fine particles are formed during storage) and is suited for use as a resist for making integrated circuits.
    一种辐射敏感树脂组合物由一种碱溶性树脂和一种辐射敏感化合物在一种由单氧一羧酸酯组成的溶剂中的溶液组成。 这种组合物具有很高的储存稳定性(即在储存过程中形成极少量的细小颗粒),适合用作制造集成电路的抗蚀剂。
  • Bardan, vol. 33, p. 25
    作者:Bardan
    DOI:——
    日期:——
  • US5405720A
    申请人:——
    公开号:US5405720A
    公开(公告)日:1995-04-11
  • US5494784A
    申请人:——
    公开号:US5494784A
    公开(公告)日:1996-02-27
  • US5925492A
    申请人:——
    公开号:US5925492A
    公开(公告)日:1999-07-20
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