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2-(morpholin-4-yl)ethyl 5-norbornene-2,3-dicarboxylate | 332138-74-6

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2-(morpholin-4-yl)ethyl 5-norbornene-2,3-dicarboxylate
英文别名
Bis(2-morpholin-4-ylethyl) bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylate
2-(morpholin-4-yl)ethyl 5-norbornene-2,3-dicarboxylate化学式
CAS
332138-74-6
化学式
C21H32N2O6
mdl
——
分子量
408.495
InChiKey
JIAGOOBLGZJQOP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.3
  • 重原子数:
    29
  • 可旋转键数:
    10
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.81
  • 拓扑面积:
    77.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    8

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    2-吗啉乙醇5-降冰片烯-2,3-二羧酸氯化亚砜三乙胺 作用下, 以70%的产率得到2-(morpholin-4-yl)ethyl 5-norbornene-2,3-dicarboxylate
    参考文献:
    名称:
    Photoresist monomer, polymer thereof and photoresist composition containing it
    摘要:
    本发明提供了新型的双环光刻胶单体,以及由其衍生的光刻胶共聚物。本发明的双环光刻胶单体由以下式表示:其中m、n、R、V和B为本文中定义的那些。包括本发明的光刻胶共聚物的光刻胶组合物具有优异的蚀刻抗性和耐热性,并且显著提高了PED稳定性(曝光后延迟稳定性)。
    公开号:
    US06426171B1
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文献信息

  • Biocidal Polymers
    申请人:Gstrein Xaver Norbert
    公开号:US20080251460A1
    公开(公告)日:2008-10-16
    Norbornene-based biocidal polymers having primary, secondary or tertiary amine or phosphine end groups, the parent monomers, processes for preparing the monomers and polymers, and their use.
  • US6426171B1
    申请人:——
    公开号:US6426171B1
    公开(公告)日:2002-07-30
  • US8148484B2
    申请人:——
    公开号:US8148484B2
    公开(公告)日:2012-04-03
  • Photoresist monomer, polymer thereof and photoresist composition containing it
    申请人:Hyundai Electronics Industries Co., Ltd.
    公开号:US06426171B1
    公开(公告)日:2002-07-30
    The present invention provides novel bicyclic photoresist monomers, and photoresist copolymer derived from the same. The bicyclic photoresist monomers of the present invention are represented by the formula: where m, n, R, V and B are those defined herein. The photoresist composition comprising the photoresist copolymer of the present invention has excellent etching resistance and heat resistance, and remarkably enhanced PED stability (post exposure delay stability).
    本发明提供了新型的双环光刻胶单体,以及由其衍生的光刻胶共聚物。本发明的双环光刻胶单体由以下式表示:其中m、n、R、V和B为本文中定义的那些。包括本发明的光刻胶共聚物的光刻胶组合物具有优异的蚀刻抗性和耐热性,并且显著提高了PED稳定性(曝光后延迟稳定性)。
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