N-(2-Hydroxy-1,1-dimethylethyl)-2-methylprop-2-enamide | 16173-48-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: N-(2-Hydroxy-1,1-dimethylethyl)-2-methylprop-2-enamide
• 英文别名: N-(1-hydroxy-2-methylpropan-2-yl)methacrylamide；Methacrylsaeure-(2-hydroxy-1,1-dimethyl-ethylamid)；N-(1-Hydroxy-2-methylpropan-2-yl)-2-methylprop-2-enamide
• CAS: 16173-48-1
• 化学式: C₈H₁₅NO₂
• 分子量: 157.213
• InChiKey: KKWYAVYQRXQSAZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  97 °C(Press: 0.15 Torr)
• 密度：
  0.988±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.4
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  49.3
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-(2-Hydroxy-1,1-dimethylethyl)-2-methylprop-2-enamide 在 甲基磺酰氯 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以56%的产率得到2-Isopropenyl-4,4-dimethyl-oxazolin
  参考文献：
  名称：

  烯基二氢恶唑的不对称杂Diels-Alder反应。恶唑并[3,2- c ]嘧啶的合成及相关化合物

  摘要：

  烯基二氢恶唑与芳基和芳烃磺酰基异氰酸酯进行高度非对映选择性的正式aza-Diels-Alder反应，生成oxazolo [3,2- c ]嘧啶。然后，根据烯基二氢恶唑的取代方式，可以将这些化合物加入第二当量的异氰酸酯，以得到四氢恶唑并[ 3,2 - c ]嘧啶-8-羧酰胺或八氢氮杂并[2,3- d ]恶唑[3]。 ，2- c ]嘧啶。第二种添加对空间和电子因素敏感，在某些情况下可以防止。

  DOI：

  10.1039/a905700e
• 作为产物：
  描述：

  2-氨基-2-甲基-1-丙醇 、 甲基丙烯酰氯 在 水 、 sodium carbonate 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以94%的产率得到N-(2-Hydroxy-1,1-dimethylethyl)-2-methylprop-2-enamide
  参考文献：
  名称：

  烯基二氢恶唑的不对称杂Diels-Alder反应。恶唑并[3,2- c ]嘧啶的合成及相关化合物

  摘要：

  烯基二氢恶唑与芳基和芳烃磺酰基异氰酸酯进行高度非对映选择性的正式aza-Diels-Alder反应，生成oxazolo [3,2- c ]嘧啶。然后，根据烯基二氢恶唑的取代方式，可以将这些化合物加入第二当量的异氰酸酯，以得到四氢恶唑并[ 3,2 - c ]嘧啶-8-羧酰胺或八氢氮杂并[2,3- d ]恶唑[3]。 ，2- c ]嘧啶。第二种添加对空间和电子因素敏感，在某些情况下可以防止。

  DOI：

  10.1039/a905700e

文献信息

• METHACRYLAMIDE ADHESIVE SYSTEMS
  申请人：OREGON HEALTH & SCIENCE UNIVERSITY

  公开号：US20210047450A1

  公开（公告）日：2021-02-18

  Provided are compositions useful as dental adhesives comprising an acrylamide compound, a methacrylate base monomer, a polymerization initiator, and a polymerization inhibitor or a polymerization stabilizer.

  提供了作为牙科粘合剂有用的组合物，包括丙烯酰胺化合物、甲基丙烯酸酯基单体、聚合引发剂以及聚合抑制剂或聚合稳定剂。
• Cross-linkable, electrically conductive composition, electric conductor and process for forming the same
  申请人：NITTO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.

  公开号：EP0837112A2

  公开（公告）日：1998-04-22

  An anticorrosive composition comprising (a') an acidic group-containing, self-doping type soluble, electrically conducting polymer.

  一种防腐组合物，包含 (a') 一种含酸性基团、自掺杂型可溶性导电聚合物。
• CROSS-LINKABLE CONDUCTIVE COMPOSITION, CONDUCTOR, AND PROCESS FOR FORMING THE SAME
  申请人：NITTO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.

  公开号：EP0844284A1

  公开（公告）日：1998-05-27

  The first of this invention is a cross-linkable, electrically conductive composition comprising (a) a soluble, electrically conducting polymer having a sulfonic acid group and/or a carboxyl group and (b) a compound having at least two functional groups capable of reacting with the sulfonic acid group and/or carboxyl group of the soluble, electrically conducting polymer (a).

  本发明的第一种是一种可交联导电组合物，它包括：(a) 具有磺酸基和/或羧基的可溶性导电聚合物；(b) 具有至少两个能与可溶性导电聚合物 (a) 的磺酸基和/或羧基反应的官能团的化合物。
• POLISHING COMPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR POLISHING COMPOSITION, AND PRODUCTION METHOD FOR POLISHED ARTICLE
  申请人：Fujimi Incorporated

  公开号：EP2957613A1

  公开（公告）日：2015-12-23

  The present invention provides a polishing composition comprising an abrasive, a water-soluble polymer and water. The polishing composition has a volume average particle diameter DA of grains in the polishing composition of 20 nm to 60 nm measured by dynamic light scattering at a concentration equivalent to 0.2 % abrasive content by mass.

  本发明提供了一种由磨料、水溶性聚合物和水组成的抛光组合物。通过动态光散射测量，抛光组合物中颗粒的体积平均粒径 DA 为 20 nm 至 60 nm，浓度相当于 0.2 % 的研磨剂含量（质量百分比）。
• POLISHING COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING POLISHED ARTICLE
  申请人：Fujimi Incorporated

  公开号：EP2960314A1

  公开（公告）日：2015-12-30

  This invention provides a polishing composition comprising an abrasive, a water-soluble polymer and water. The water-soluble polymer comprises a polymer A having an adsorption ratio of lower than 5 % and a polymer B having an adsorption ratio of 5 % or higher, but lower than 95 % based on a prescribed adsorption ratio measurement. Herein, the polymer B is selected from polymers excluding hydroxyethyl celluloses.

  本发明提供了一种抛光组合物，它由磨料、水溶性聚合物和水组成。水溶性聚合物包括吸附率低于 5%的聚合物 A 和根据规定的吸附率测量吸附率为 5%或更高但低于 95%的聚合物 B。其中，聚合物 B 选自不包括羟乙基纤维素的聚合物。