3-(2-ethoxyethoxy)propanoic acid | 13630-55-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 3-(2-ethoxyethoxy)propanoic acid
• 英文别名: 3-(2-Aethoxy-aethoxy)-propionsaeure
• CAS: 13630-55-2
• 化学式: C₇H₁₄O₄
• 分子量: 162.186
• InChiKey: YSZHZPDMGMCGLX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  138-139 °C
• 沸点：
  138-139 °C(Press: 3 Torr)
• 密度：
  1.0858 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.2
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-(2-ethoxyethoxy)propanoic acid 、 氯化 1-乙基-3-甲基咪唑 在 ion exchange resin (DOWEX) 、 ion excahnge water 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 24.0h， 以100%的产率得到1-ethyl-3-methylimidazolium 3-(2-ethoxyethoxy)propanoate
  参考文献：
  名称：

  ONIUM SALT, LIQUID COMPOSITION CONTAINING SAID ONIUM SALT AND CELLULOSE, AND CELLULOSE RECOVERY METHOD

  摘要：

  该发明涉及一种含有onium盐和纤维素的液体组合物以及一种恢复纤维素的方法。该发明使得能够在100°C或更低温度下提供具有极高溶解纤维素能力的onium盐成为可能。它还使得能够提供一种含有该onium盐和纤维素的液体组合物，作为适用于纤维素恢复的组合物，并通过使用含有onium盐和纤维素的这种液体组合物高效地恢复纤维素的方法成为可能。

  公开号：

  US20160009669A1

文献信息

• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS WITH THERMAL ACID GENERATORS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20190085173A1

  公开（公告）日：2019-03-21

  New methods and substrates are provided that include antireflective compositions that comprise one or more thermal acid generators.

  提供了包括一个或多个热酸发生剂的防反射组分的新方法和基板。
• BITTER TASTE MODIFIERS INCLUDING SUBSTITUTED 1-BENZYL-3-(1-(ISOXAZOL-4-YLMETHYL)-1H-PYRAZOL-4-YL)IMIDAZOLIDINE-2,4-DIONES AND COMPOSITIONS THEREOF
  申请人：SENOMYX, INC.

  公开号：US20160376263A1

  公开（公告）日：2016-12-29

  The present invention includes compounds and compositions known to modify the perception of bitter taste, and combinations of said compositions and compounds with additional compositions, compounds, and products. Exemplary compositions comprise one or more of the following: cooling agents; inactive drug ingredients; active pharmaceutical ingredients; food additives or foodstuffs; flavorants, or flavor enhancers; food or beverage products; bitter compounds; sweeteners; bitterants; sour flavorants; salty flavorants; umami flavorants; plant or animal products; compounds known to be used in pet care products; compounds known to be used in personal care products; compounds known to be used in home products; pharmaceutical preparations; topical preparations; cannabis-derived or cannabis-related products; compounds known to be used in oral care products; beverages; scents, perfumes, or odorants; compounds known to be used in consumer products; silicone compounds; abrasives; surfactants; warming agents; smoking articles; fats, oils, or emulsions; and/or probiotic bacteria or supplements.

  本发明涵盖已知用于改变苦味感知的化合物和组合物，以及所述组合物和化合物与额外的组合物、化合物和产品的组合。示例组合物包括以下一种或多种：冷却剂；无活性药物成分；活性药用成分；食品添加剂或食品；调味剂或调味增强剂；食品或饮料产品；苦味化合物；甜味剂；苦味剂；酸味调味剂；咸味调味剂；鲜味调味剂；植物或动物产品；已知用于宠物护理产品中的化合物；已知用于个人护理产品中的化合物；已知用于家用产品中的化合物；制药制剂；局部制剂；大麻衍生或与大麻相关的产品；已知用于口腔护理产品中的化合物；饮料；香味、香水或除臭剂；已知用于消费品中的化合物；硅化合物；磨料；表面活性剂；发热剂；吸烟物品；脂肪、油脂或乳化剂；和/或益生菌或补充剂。
• ACID GENERATOR COMPOUNDS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20160347709A1

  公开（公告）日：2016-12-01

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as a photoresist composition component. In one preferred aspect, acid generators are provided that comprise one or more hydrophilic moieties.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。在一个首选方面，提供了包含一个或多个亲水性基团的酸发生剂。
• PHOTOBASE GENERATORS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20160334703A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  New photobase generators suitable for use in photoresists are provided that correspond to Formula (I): X 1 —R 1 —O—C(═O)N(R 2 )R 3 (I) wherein X 1 is an optionally substituted aromatic group; R 1 is a linker; and R 2 and R 3 are the same or different optionally substituted linear, branched or cyclic aliphatic group or an optionally substituted aromatic group, wherein at least one of R 2 and R 3 is an optionally substituted branched alkyl group having 4 or more carbon atoms.

  提供了适用于光刻胶的新型光刻底物生成物，对应于式（I）：X1—R1—O—C(═O)N(R2)R3（I）其中X1是可选择取代的芳香族基团；R1是连接基团；R2和R3是相同或不同的可选择取代的线性、支链或环烷基基团或可选择取代的芳香族基团，其中R2和R3中至少有一个是具有4个或更多碳原子的可选择取代的支链烷基基团。