甲基丙烯酸酯与甲基丙烯酸缩水甘油酯的聚合物 | 26141-88-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 甲基丙烯酸酯与甲基丙烯酸缩水甘油酯的聚合物
• 英文名称: Glycidyl methacrylate methyl methacrylate
• 英文别名: methyl 2-methylprop-2-enoate;oxiran-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 26141-88-8
• 化学式: C12H18O5
• 分子量: 242.27
• InChiKey: ACXCWUMCBFSPDP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.24
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  65.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸缩水甘油酯 、 甲基丙烯酸甲酯 生成 甲基丙烯酸酯与甲基丙烯酸缩水甘油酯的聚合物
  参考文献：
  名称：

  2(2-hydroxyphenyl)2H-benzotriazole compounds and homopolymers or

  摘要：

  含有可聚合的乙烯基不饱和单体的聚合物，其包括1,2-环氧基含有可聚合的乙烯基不饱和单体和2(2-羟基苯基)2H-苯并三唑化合物的反应产物，其结构式为：##STR1##其中X=H、OR和NR.sub.2，其中R=烷基；Z'=H和C.sub.2H.sub.4OH；当Z'=C.sub.2H.sub.4OH时，Z和Y=H；当Z'=H时，Y和Z=OH或Y=H且Z=OH。这些单体在制备自由基引发的加成聚合物方面是有用的。聚合物也可以通过首先制备从1,2-环氧基含有可聚合的乙烯基不饱和单体派生的自由基引发的加成聚合物，然后与苯并三唑化合物反应来制备。这两种类型的聚合物都含有永久的聚合物结合的紫外线稳定剂，并且可用作外部涂层的粘合剂，用于制造光学透镜的树脂，以及用于防晒霜和晒黑乳液的组分。

  公开号：

  US05099027A1

文献信息

• Selective light-transmitting laminated structure
  申请人：Teijin Limited

  公开号：US04414254A1

  公开（公告）日：1983-11-08

  In a selective light-transmitting laminated structure comprising (a) a laminate composed of a transparent substrate and formed on at least one surface of the substrate, a thin metallic layer and/or a thin metal oxide layer, if required in combination with a thin film layer having a high refractive index, and (b) a protective layer composed mainly of a polymer having structural units of the general formula ##STR1## wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group, as main structural units, the improvement wherein a urethan linkage exists in the interface between the laminate (a) and the protective layer (b).

  在一种选择性透光的层压结构中，包括（a）由透明基板组成的层压板，在基板的至少一表面形成了一层薄金属层和/或薄金属氧化物层，必要时与具有高折射率的薄膜层结合，以及（b）主要由具有一般式##STR1## 的结构单元的聚合物组成的保护层，其中R表示氢原子或甲基基团作为主要结构单元，改进在于层压板（a）和保护层（b）之间存在脲链接。
• Anthracene derivatives
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05498748A1

  公开（公告）日：1996-03-12

  An anthracene derivative having at least two groups of the formula: ##STR1## wherein R.sup.1 and R.sup.2 are independently hydrogen, alkyl, alkoxy, etc., is particular effective for forming an antireflection coating for preventing multiple reflection of exposing light from a highly reflective substrate, etc.

  一种蒽衍生物，其至少具有两个公式为：##STR1## 其中R.sup.1和R.sup.2分别为氢、烷基、烷氧基等，特别有效地形成抗反射涂层，以防止高反射基底等的暴露光的多次反射。
• Process for forming a pattern on a semiconductor substrate using a deep
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05677112A1

  公开（公告）日：1997-10-14

  A deep ultraviolet absorbent comprising at least one compound having one or more glycidyl groups in the molecule and at least one anthracene derivative, and a solvent capable of dissolving these compounds is effective for preventing reflection of deep ultraviolet light from a substrate during formation of resist pattern, resulting in forming ultra-fine patterns without causing notching and halation.

  一种深紫外吸收剂，包括至少一种分子中含有一个或多个环氧丙烷基团和至少一种蒽衍生物的化合物，并且具有溶解这些化合物的溶剂。在形成光刻图案期间，该深紫外吸收剂能够有效地防止底片反射深紫外光，从而形成超细图案而不会导致缺口和光晕。
• Planarizing material and planarizing method
  申请人：Tosoh Corporation

  公开号：US05677380A1

  公开（公告）日：1997-10-14

  A planarizing material comprising a resin capable of having its practical temperature for a planarizing step set at a level lower than 200.degree. C., and a melamine-type heat-curing agent and/or an epoxy-type heat-curing agent.

  一种平坦化材料，包括一种树脂，该树脂的实际温度可在低于200℃的水平上进行平坦化步骤，并且还包括一种三聚氰胺型热固性剂和/或一种环氧型热固性剂。
• Deep ultraviolet absorbent composition
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05576359A1

  公开（公告）日：1996-11-19

  A deep ultraviolet absorbent comprising at least one compound having one or more glycidyl groups in the molecule and at least one anthracene derivative, and a solvent capable of dissolving these compounds is effective for preventing reflection of deep ultraviolet light from a substrate during formation of resist pattern, resulting in forming ultra-fine patterns without causing notching and halation.

  一种深紫外吸收剂，包括至少一种分子中含有一个或多个环氧丙烷基团和至少一种蒽衍生物的化合物，以及一种能够溶解这些化合物的溶剂，在形成光阻图案期间有效防止基板反射深紫外光，从而形成超细图案而不会导致刻痕和光晕。