3-环丙基皮考啉酸 | 878805-23-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡啶及其衍生物
• 中文名称: 3-环丙基皮考啉酸
• 英文名称: 3-cyclopropylpyridine-2-carboxylic acid
• 英文别名: 3-Cyclopropylpicolinic acid
• CAS: 878805-23-3
• 化学式: C₉H₉NO₂
• 分子量: 163.176
• InChiKey: LRHWMCDZEISUCQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  310.4±30.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.324±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  50.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2933399090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-环丙基皮考啉酸 在 叠氮磷酸二苯酯 、 三乙胺 、 叔丁醇 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 3-环丙基吡啶-2-胺
  参考文献：
  名称：

  EP1790650

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  3-溴-2-吡啶甲酸甲酯 在 水 、 diethylzinc 、 三乙胺 、 lithium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 、 二氯甲烷 、 异丙醇 为溶剂， 反应 22.0h， 生成 3-环丙基皮考啉酸
  参考文献：
  名称：

  NOVEL COMPOUNDS

  摘要：

  本发明提供了公式(I)的化合物及其药用盐，其中L、X、Ra、Rb、R1、R2和R3如规范中定义，以及其制备方法、含有它们的药物组合物以及它们在治疗中的用途。

  公开号：

  US20150232460A1

文献信息

• Novel Substituted Imidazole Derivative
  申请人：Kawamura Mikako

  公开号：US20080070894A1

  公开（公告）日：2008-03-20

  The present invention relates to a compound represented by Formula [I] or a pharmaceutically acceptable salt or ester thereof: wherein: X 1 , X 2 , X 3 , and X 4 , which may be identical or different, are each C or N, provided that none to two of X 1 , X 2 , X 3 , and X 4 is/are N; Y is CH or N; R 1 , R 1 ′, R 2 , R 2 ′, R 3 , R 3 ′, R 4 , and R 4 ′, which may be identical or different, are each a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R 5 is a hydrogen atom or a methyl group; R 6 and R 7 , which may be identical or different, are each a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R 8 and R 8 ′, which may be identical or different, are each a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R 9 is an aryl group or a heteroaryl group which may be substituted; and n is an integer from 1 to 3, and a PLK1 inhibitor or an anticancer agent containing the same.

  本发明涉及一种由式[I]表示的化合物或其药学上可接受的盐或酯：其中，X1、X2、X3和X4可以相同也可以不同，分别为C或N，但是X1、X2、X3和X4中至少有一个或最多两个是N；Y为CH或N；R1、R1'、R2、R2'、R3、R3'、R4和R4'可以相同也可以不同，分别为氢原子、低碳基或类似物；R5为氢原子或甲基基团；R6和R7可以相同也可以不同，分别为氢原子、低碳基或类似物；R8和R8'可以相同也可以不同，分别为氢原子、低碳基或类似物；R9为取代的芳基或杂环基；n为1到3的整数。本发明还涉及一种PLK1抑制剂或含有该化合物的抗癌剂。
• Cycloalkyl and heterocycloalkyl compounds as orexin receptor antagonists
  申请人：Takeda Pharmaceutical Company Limited

  公开号：US09156829B2

  公开（公告）日：2015-10-13

  The present invention provides compounds of formula (I) and pharmaceutically acceptable salts thereof, wherein L, X, Ra, Rb, R1, R2 and R3 are as defined in the specification, processes for their preparation, pharmaceutical compositions containing them and their use in therapy.

  本发明提供了公式(I)的化合物及其药学上可接受的盐，其中L、X、Ra、Rb、R1、R2和R3如规范中所定义，以及其制备过程、含有它们的药物组合物和它们在治疗方面的用途。
• Substituted imidazole derivative
  申请人：Banyu Pharmaceutical Co., Ltd.

  公开号：US07718801B2

  公开（公告）日：2010-05-18

  The present invention relates to a compound represented by Formula [I] or a pharmaceutically acceptable salt or ester thereof: wherein: X1, X2, X3, and X4, which may be identical or different, are each C or N, provided that none to two of X1, X2, X3, and X4 is/are N; Y is CH or N; R1, R1′, R2, R2′, R3, R3′, R4, and R4′, which may be identical or different, are each a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R5 is a hydrogen atom or a methyl group; R6 and R7, which may be identical or different, are each a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R8 and R8′, which may be identical or different, are each a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R9 is an aryl group or a heteroaryl group which may be substituted; and n is an integer from 1 to 3, and a PLK1 inhibitor or an anticancer agent containing the same.

  本发明涉及一种由式[I]表示的化合物或其药学上可接受的盐或酯：其中，X1、X2、X3和X4可以相同或不同，每个为C或N，但X1、X2、X3和X4中的任意一个到两个不能是N；Y为CH或N；R1、R1'、R2、R2'、R3、R3'、R4和R4'可以相同或不同，每个为氢原子、低碳基或类似物；R5为氢原子或甲基基团；R6和R7可以相同或不同，每个为氢原子、低碳基或类似物；R8和R8'可以相同或不同，每个为氢原子、低碳基或类似物；R9为取代的芳基或杂芳基；n为1到3的整数；以及包含该化合物的PLK1抑制剂或抗癌药物。
• NOVEL SUBSTITUTED IMIDAZOLE DERIVATIVES
  申请人：BANYU PHARMACEUTICAL CO., LTD.

  公开号：EP1790650A1

  公开（公告）日：2007-05-30

  The present invention relates to a compound represented by Formula [I] or a pharmaceutically acceptable salt or ester thereof: wherein: X1, X2, X3, and X4, which may be identical or different, are each C or N, provided that none to two of X1, X2, X3, and X4 is/are N; Y is CH or N; R1, R1', R2, R2', R3, R3', R4, and R4', which may be identical or different, are each a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R5 is a hydrogen atom or a methyl group; R6 and R7, which may be identical or different, are each a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R8 and R8', which may be identical or different, are each a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R9 is an aryl group or a heteroaryl group which may be substituted; and n is an integer from 1 to 3, and a PLK1 inhibitor or an anticancer agent containing the same.

  本发明涉及一种由式[I]代表的化合物或其药学上可接受的盐或酯： 其中 X1、X2、X3和X4（可以相同或不同）各自是C或N，条件是X1、X2、X3和X4中没有一个至两个是/是N； Y 是 CH 或 N； R1、R1'、R2、R2'、R3、R3'、R4 和 R4'（可以相同或不同）各自是氢原子、低级烷基或类似物； R5 是氢原子或甲基； R6 和 R7 可以相同或不同，各自为氢原子、低级烷基或类似物； R8 和 R8'可以相同或不同，各自为氢原子、低级烷基或类似物； R9 是芳基或杂芳基，可被取代；以及 n 是 1 至 3 的整数、 以及 PLK1 抑制剂或含有相同成分的抗癌剂。
• ABRASIVE GRAINS, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, POLISHING SLURRY CONTAINING SAID ABRASIVE GRAINS, AND POLISHING METHOD USING SAID POLISHING SLURRY
  申请人：Baikowski Japan Co., Ltd.

  公开号：EP3492546A1

  公开（公告）日：2019-06-05

  An abrasive composed of additive-coated inorganic abrasive particles having a positive zeta potential at pH 8 or lower. The additive is preferably a picolinic acid or a glutamic acid. The inorganic abrasive particles are preferably cerium oxide particles. The abrasive composed of cerium oxide particles coated with a picolinic acid or a glutamic acid and having a positive zeta potential at pH 8 or lower is a product produced by a method including wet grinding cerium oxide in the presence of the picolinic acid or the glutamic acid.

  一种由添加剂包裹的无机磨料颗粒组成的磨料，在 pH 值为 8 或更低时具有正 ZETA 电位。添加剂最好是吡啶甲酸或谷氨酸。无机磨料颗粒最好是氧化铈颗粒。由涂有吡啶甲酸或谷氨酸的氧化铈颗粒组成的、在 pH 值为 8 或更低时具有正 zeta 电位的磨料，是通过包括在吡啶甲酸或谷氨酸存在下湿法研磨氧化铈的方法生产的产品。