(E)-3-cycloheptenyl-2-methylacrylic acid | 1091603-16-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: (E)-3-cycloheptenyl-2-methylacrylic acid
• 英文别名: (E)-3-(cyclohepten-1-yl)-2-methylprop-2-enoic acid
• CAS: 1091603-16-5
• 化学式: C₁₁H₁₆O₂
• 分子量: 180.247
• InChiKey: ITXVQMKRHRPAKN-CMDGGOBGSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.55
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (E)-3-cycloheptenyl-2-methylacrylic acid 、 三甲基乙酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  5-[（（E）-cycloalk-2-enylidenemethylmethyl] thiolactomycin同类物的对映体对的合成和生物学活性。

  摘要：

  通过使用我们先前探索的用于制备硫菌霉素及其3-脱甲基衍生物的对映异构体对的有效合成途径，合成了标题同源物。虽然所有合成的同类物均缺乏体外抗菌活性，但发现一些带有（E）-环庚-2-烯基甲基或（E）-环辛-2-烯基甲基的同类物比Is FAS具有更强的抑制活性（S）-3-demethylthiolactomycin具有非天然构型。

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2008.08.103
• 作为产物：
  描述：

  (E)-3-(1-Cyclohepten-1-yl)-2-methyl-2-propensaeure-ethylester 在 sodium hydroxide 、 水 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 生成 (E)-3-cycloheptenyl-2-methylacrylic acid
  参考文献：
  名称：

  5-[（（E）-cycloalk-2-enylidenemethylmethyl] thiolactomycin同类物的对映体对的合成和生物学活性。

  摘要：

  通过使用我们先前探索的用于制备硫菌霉素及其3-脱甲基衍生物的对映异构体对的有效合成途径，合成了标题同源物。虽然所有合成的同类物均缺乏体外抗菌活性，但发现一些带有（E）-环庚-2-烯基甲基或（E）-环辛-2-烯基甲基的同类物比Is FAS具有更强的抑制活性（S）-3-demethylthiolactomycin具有非天然构型。

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2008.08.103

文献信息

• Photosensitive resin composition and display device
  申请人：Samsung Display Co., Ltd

  公开号：US10385268B2

  公开（公告）日：2019-08-20

  A photosensitive resin composition comprises: a solvent in an amount of about 60 percentage by weight (wt %) to about 95 wt %; and a solid content in an amount of about 5 wt % to about 40 wt %, with respect to a total weight of the photosensitive resin composition, wherein the solid content comprises with respect to a total weight of the solid content: a phosphor in an amount of about 5 wt % to about 90 wt %; a photopolymerizable compound in an amount of about 4 wt % to about 70 wt %; an acetophenone-based photopolymerization initiator in an amount of about 0.1 wt % to about 20 wt %; and an alkali soluble resin in an amount of about 5 wt % to about 80 wt %, with respect to a total weight of the solid content.

  一种光敏树脂组合物包括：溶剂，用量为约 60 重量百分数（wt %）至约 95 重量百分数；以及固体成分，用量为约 5 重量百分数至约 40 重量百分数（相对于光敏树脂组合物的总重量），其中固体成分包括（相对于固体成分的总重量）： 荧光体，用量为约 5 重量百分数至约 90 重量百分数；可光聚合化合物，用量为约 4 重量百分数至约 70 重量百分数；基于苯乙酮的光聚合化合物，用量为约 4 重量百分数至约 70 重量百分数：荧光粉，其用量为约 5 wt % 至约 90 wt %； 可光聚合化合物，其用量为约 4 wt % 至约 70 wt %； 基于苯乙酮的光聚合引发剂，其用量为约 0.1重量％至约20重量％；以及碱溶性树脂，相对于固体成分的总重量，其用量为约5重量％至约80重量％。
• INK COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PATTERN, COLOR FILTER AND METHOD OF PREPARING COLOR FILTER USING THE SAME
  申请人：LEE Seung-Jun

  公开号：US20120058273A1

  公开（公告）日：2012-03-08

  An ink composition, and a method of forming a pattern, a color filter and a method of manufacturing the color filter using the same. The ink composition includes a binder resin, a multifunctional monomer having an ethylenic unsaturated double bond, a coloring agent, a polymerization initiator containing a certain positive ion and a solvent. Therefore, the composition has excellent coating property and chemical resistance and also an improved adhesion to a printing member, and thus the ink composition may be useful in forming a precise micropattern using a roll printing method, particularly a reversed printing method.
• TOUCH SCREEN PANEL AND METHOD OF PREPARING THE SAME
  申请人：DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.

  公开号：US20140087064A1

  公开（公告）日：2014-03-27

  A method for preparing a touch screen panel includes forming a non-conductive pattern on a non-display part on one face of a window plate, so that the thickness of the non-conductive pattern is decreased to produce a thin touch screen panel. In addition, this will prevent leakage of ink through the holes of the window plate, and improve the reliability of a conductive electrode pattern layer at a lateral side of the non-conductive pattern, thereby reducing failure rates.
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE
  申请人：DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.

  公开号：US20160215212A1

  公开（公告）日：2016-07-28

  A photosensitive resin composition comprising: a solvent in an amount of about 60 percentage by weight (wt %) to about 95 wt %; and a solid content in an amount of about 5 wt % to about 40 wt %, with respect to a total weight of the photosensitive resin composition, wherein the solid content comprises: a phosphor in an amount of about 5 wt % to about 90 wt %; a photopolymerizable compound in an amount of about 4 wt % to about 70 wt %; a photopolymerization initiator in an amount of about 0.1 wt % to about 20 wt %; an alkali soluble resin in an amount of about 5 wt % to about 80 wt %; and a dispersant in an amount of about 0.1 wt % to about 12 wt %, with respect to a total weight of the solid content.
• US8575234B2
  申请人：——

  公开号：US8575234B2

  公开（公告）日：2013-11-05