sodium 3-hydroxyadamantane-acetoxy-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate | 1313214-09-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: sodium 3-hydroxyadamantane-acetoxy-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate
• 英文别名: Sodium 1,1,2,2-tetrafluoro-4-(3-hydroxyadamantane-1-carbonyloxy)butane-1-sulfonate；sodium;1,1,2,2-tetrafluoro-4-(3-hydroxyadamantane-1-carbonyl)oxybutane-1-sulfonate
• CAS: 1313214-09-3
• 化学式: C₁₅H₁₉F₄O₆S*Na
• 分子量: 426.362
• InChiKey: WMWQNUJSEDOIOW-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.97
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.93
• 拓扑面积：
  112
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium 3-hydroxyadamantane-acetoxy-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 1.5h， 生成 triphenylsulfonium 1,1,2,2-tetrafluoro-4-(3-(2,2,2-trifluoroacetoxy)adamantane-1-carbonyloxy)-butane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, ORGANIC ACID AND ACID GENERATING AGENT

  摘要：

  一种辐射敏感树脂组合物包括酸发生剂，通过放射性射线照射生成有机酸。该有机酸具有环烃基和有机基，包括可被酸或碱裂解以产生极性基团的键。有机酸最好由以下式（I）表示。其中，Z代表有机酸基团。R2代表脂肪二元基，其中R1代表脂肪二元基中的一部分或全部氢原子可选地被氟原子取代。X代表单键，O，OCO，COO，CO，SO3或SO2。R2代表环烃基。R3代表具有以下式（x）所表示的官能团的一价有机基。n为1到3的整数。Z-R1-X-R2-(R3)n（I）-R31-G-R13（x）。

  公开号：

  US20130065186A1
• 作为产物：
  描述：

  在 sodium tungstate (VI) dihydrate 、 双氧水 、 碳酸氢钠 、 sodium thiosulfate 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 3.5h， 生成 sodium 3-hydroxyadamantane-acetoxy-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Photoacid generators and photoresists comprising same

  摘要：

  提供了合成光酸发生剂化合物（“PAGs”）的新方法，以及新的光酸发生剂化合物和包含这些PAG化合物的光刻胶组合物。在一个特定方面，提供了含硫

  公开号：

  US09255079B2

文献信息

• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• PHOTOACID-GENERATING COMPOUND AND ASSOCIATED POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING A PHOTORESIST RELIEF IMAGE
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20180095363A1

  公开（公告）日：2018-04-05

  A photoacid-generating compound has the structure wherein m, n, R 1 , R 2 , X, Y, and Z − are defined herein. The photoacid-generating compound exhibits strong absorption and chemical sensitivity to extreme ultraviolet radiation, while also absorbing longer wavelengths with desirably reduced chemical sensitivity. Also described are a polymer incorporating the residue of a polymerizable version of the photoacid-generating compound, a photoresist composition that includes the photoacid-generating compound, the polymer, or a combination thereof, and a method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition.

  一种光酸生成化合物具有结构，其中m、n、R1、R2、X、Y和Z−在此处定义。该光酸生成化合物对极紫外辐射具有强吸收和化学敏感性，同时还吸收较长波长并具有较低的化学敏感性。还描述了一种聚合物，其中包含可聚合版本的光酸生成化合物的残留物，一种包含该光酸生成化合物、聚合物或两者组合的光阻剂组合物，以及使用该光阻剂组合物形成光阻剂
• 치환된 아릴 오늄 물질
  申请人：ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨(520040024286)

  公开号：KR20150035454A

  公开（公告）日：2015-04-06

  적어도 하나의 디에스테르 부분으로 치환된 카보시클릭 또는 헤테로방향족 그룹을 포함하는 산 발생제가 제공된다. 이 산 발생제는 포토레지스트 조성물 성분으로서 특히 유용하다.

  提供了一种含有至少一种二苯基硫代醚基团或杂环芳族基团的化合物作为替代卡波西环的一部分的光刻胶成分。该光刻胶成分特别有用作光阻剂。
• Aryl acetate onium materials
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US09304394B2

  公开（公告）日：2016-04-05

  Acid generators comprising a carbocyclic aryl or heteroaromatic group substituted with at least one acetate moiety are provided. These acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.

  提供了包含至少一个乙酸基取代的碳环芳基或杂环芳基的酸发生剂。这些酸发生剂特别适用作为光阻组分。
• PHOTOACID GENERATOR, PHOTORESIST, COATED SUBSTRATE, AND METHOD OF FORMING AN ELECTRONIC DEVICE
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20150064620A1

  公开（公告）日：2015-03-05

  A photoacid generator compound has formula (1) wherein n is zero or 1; and R 1 -R 6 are each independently hydrogen, halogen, or unsubstituted or substituted C 1-20 linear or branched alkyl, C 1-20 cycloalkyl, C 6-20 aryl, C 3-20 heteroaryl, or an acid-generating group having the structure *L-Z − M + ] wherein L is an unsubstituted or substituted C 1-50 divalent group; Z − is a monovalent anionic group; and M + is an iodonium or sulfonium cation. Geminal R groups can combine to form a ring with the carbon to which they are attached, as long as no more than two such rings are formed. At least one of R 1 -R 6 includes the acid-generating group or two germinal R groups combine to form the acid-generating group. Also described are a photoresist composition incorporating the photoacid generator compound, a coated substrate including a layer of the photoresist composition, and a method of forming an electronic device using a layer of the photoresist composition.

  一种光酸发生剂化合物的化学式为（1），其中n为零或1；R1-R6各自独立地为氢、卤素、未取代或取代的C1-20线性或支链烷基、C1-20环烷基、C6-20芳基、C3-20杂环芳基或具有结构*L-Z−M+的产生酸的基团，其中L为未取代或取代的C1-50二价基团；Z−为单价阴离子基团；M+为碘离子或硫离子阳离子。同位素R基团可以结合形成与它们附着的碳原子的环，只要不形成超过两个这样的环即可。R1-R6中至少有一个包括产生酸的基团，或两个同位素R基团结合形成产生酸的基团。还描述了包含光酸发生剂化合物的光刻胶组合物、包括光刻胶组合物层的涂覆基板以及使用光刻胶组合物层形成电子器件的方法。