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3-甲氧基-3-甲基醋酸丁酯 | 103429-90-9

中文名称
3-甲氧基-3-甲基醋酸丁酯
中文别名
3-甲氧基-3-甲基-1-醋酸丁酯;乙酸-3-甲氧基-3-甲基丁酯
英文名称
3-Methoxy-3-methylbutyl Acetate
英文别名
(3-methoxy-3-methylbutyl) acetate
3-甲氧基-3-甲基醋酸丁酯化学式
CAS
103429-90-9
化学式
C8H16O3
mdl
MFCD00059340
分子量
160.21
InChiKey
RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    74 °C / 15mmHg
  • 密度:
    0,96 g/cm3
  • 闪点:
    73°C
  • 溶解度:
    可溶于氯仿(少许)、甲醇(少许)
  • LogP:
    1.6 at 25℃ and pH7
  • 表面张力:
    65.5mN/m at 1g/L and 20℃

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.9
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.875
  • 拓扑面积:
    35.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

安全信息

  • 安全说明:
    S26,S36/37/39
  • 危险类别码:
    R36/37/38
  • 海关编码:
    2915390090
  • 危险性防范说明:
    P264,P270,P301+P312,P330,P210,P280,P370+P378,P403+P235,P501
  • 危险性描述:
    H302,H227

文献信息

  • [EN] OXIME ESTER PHOTOINITIATORS<br/>[FR] PHOTO-INITIATEURS À BASE D'ESTER D'OXIME
    申请人:BASF SE
    公开号:WO2021175855A1
    公开(公告)日:2021-09-10
    Disclosed are α-oxo oxime ester compounds based on carbazole derivatives which have specific substituent groups useful as a photoinitiator, as well as photopolymerizable compositions comprising said photoinitiator and ethylenically unsaturated compounds. The photopolymerizable compositions are useful, for example, in photoresist formulations for display applications, e.g. liquid crystal display (LCD), organic light emitting diode (OLED) and touch panel.
    揭示了基于咔唑生物的α-氧代酯化合物,其具有特定取代基,可用作光引发剂,以及包括所述光引发剂乙烯不饱和化合物的光聚合组合物。这些光聚合组合物可用于例如显示应用的光阻配方,例如液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)和触摸面板。
  • AROMATIC AMINE COMPOUND, CURING AGENT FOR EPOXY COMPOUND, CURABLE COMPOSITION, CURED PRODUCT, METHOD FOR PRODUCING CURED PRODUCT, AND METHOD FOR PRODUCING AROMATIC AMINE COMPOUND
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
    公开号:US20210130284A1
    公开(公告)日:2021-05-06
    An aromatic amine compound capable of satisfactorily forming a cured product having exceptional alkali resistance by reaction with an epoxy compound; a curing agent for an epoxy compound, the curing agent including the aromatic amine compound; a curable composition including the curing agent for an epoxy compound; a cured product of the curable composition; a method for producing the cured product; and a method for producing the abovementioned aromatic amine compound. The aromatic amine compound has a structure such that a specific position in a central skeleton comprising a fused ring such as a fluorene ring is substituted with a side-chain group including two aromatic groups linked by a flexible bond such as an amide bond, at least one amino group is bonded to the end of the side-chain group, and the structure has no hydroxyl groups.
    一种芳香胺化合物,通过与环氧化合物反应能够满意地形成具有异常碱性抗性的固化产品;一种环氧化合物的固化剂,该固化剂包括芳香胺化合物;一种包括环氧化合物的固化剂的可固化组合物;可固化组合物的固化产品;生产所述固化产品的方法;以及生产上述芳香胺化合物的方法。该芳香胺化合物具有这样的结构,即中心骨架中的特定位置包括类似于环的融合环,该位置被取代为包括通过柔性键(如酰胺键)连接的两个芳香基的侧链基团,至少一个基固定在侧链基团的末端,并且该结构不含羟基。
  • MONOMERS, POLYMERS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS
    申请人:Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.
    公开号:US20180059545A1
    公开(公告)日:2018-03-01
    In one preferred embodiment, polymers are provided that comprise a structure of the following Formula (I): Photoresists that comprises such polymers also are provided.
    在一个首选实施例中,提供了包含以下化学式(I)结构的聚合物: 还提供了包含这种聚合物的光刻胶。
  • OXIME ESTER PHOTOINITIATORS
    申请人:BASF SE
    公开号:US20180208583A1
    公开(公告)日:2018-07-26
    Compounds of the formulae (I) or (II) wherein X is A is O, S, NR 5 or CR 16 R 17 ; R 1 is for example hydrogen or C 1 -C 20 alkyl R 2 is for example hydrogen, C 1 -C 20 alkyl or C 6 -C 20 aryl R 5 for example is C 1 -C 20 alkyl; R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 for example independently of each other are hydrogen. C 1 -C 20 alkyl, halogen, CN or NO 2 ; Ar 1 is for example unsubstituted or substituted C 6 -C 20 aryl, C 3 -C 20 heteroaryl, C 6 -C 20 aroyl, C 3 -C 20 heteroarylcarbonyl or or Ar 1 is Ar 2 is for example phenylene, all of which are unsubstituted or substituted M is for example unsubstituted or substituted C 1 -C 20 alkylene Y is a direct bond, O, S, NR 5 or CO; Z 1 is for example O or S; Z 2 is a direct bond, O, S or NR 5 ; and Q is CO or a direct bond.
    公式(I)或(II)的化合物 其中 X是 A是O, S, NR 5 或CR 16 R 17 ; R 1 例如是氢或C 1 -C 20 烷基 R 2 例如是氢, C 1 -C 20 烷基或C 6 -C 20 芳基 R 5 例如是C 1 -C 20 烷基; R 7 , R 8 , R 9 , R 10 和R 11 例如彼此独立是氢. C 1 -C 20 烷基, 卤素, CN或NO 2 ; Ar 1 例如是不取代或取代的C 6 -C 20 芳基, C 3 -C 20 杂芳基, C 6 -C 20 芳酰基, C 3 -C 20 杂芳基甲酰基或 或Ar 1 是 Ar 2 例如是苯基, 所有这些都不取代或取代 M例如是不取代或取代的C 1 -C 20 亚烷基 Y是直接键, O, S, NR 5 或CO; Z 1 例如是O或S; Z 2 是直接键, O, S或NR 5 ; 和 Q是CO或直接键。
  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
    申请人:Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
    公开号:US20160145231A1
    公开(公告)日:2016-05-26
    A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.
    描述了一种包含由通式(1)或(2)表示的化合物的光刻胶组合物,使用该组合物形成光刻胶图案的方法,用于该组合物的多化合物,以及可以由其衍生的醇化合物。
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表征谱图

  • 氢谱
    1HNMR
  • 质谱
    MS
  • 碳谱
    13CNMR
  • 红外
    IR
  • 拉曼
    Raman
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mass
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  • 峰位数据
  • 峰位匹配
  • 表征信息
Shift(ppm)
Intensity
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Assign
Shift(ppm)
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测试频率
样品用量
溶剂
溶剂用量
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同类化合物

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