{[2-(Bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)propan-2-yl]oxy}acetic acid | 921225-77-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: {[2-(Bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)propan-2-yl]oxy}acetic acid
• 英文别名: 2-[2-(2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl)propan-2-yloxy]acetic acid
• CAS: 921225-77-6
• 化学式: C₁₂H₁₈O₃
• 分子量: 210.27
• InChiKey: RYRJCWBHCAQZOD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  5-降冰片烯-2-异丙醇 、 正丁基锂 、 氯乙酸 、 水 在 氮气 、 水 、 乙醚 、 Brine 、 magnesium sulfate 、 正己烷 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 20.0h， 以to give 3.3 g of white crystalline material (Melting Point: 48.5-49.50° C.)的产率得到{[2-(Bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)propan-2-yl]oxy}acetic acid
  参考文献：
  名称：

  Negative resists based on a acid-catalyzed elimination of polar molecules

  摘要：

  本发明提供了在负型光刻胶组成物中有用的聚合物。本发明的聚合物包括（1）具有极性官能团的第一单体；（2）第二单体；以及可选的（3）赋予至少一种特性的第三单体，所述特性选自交联功能、蚀刻抗性和溶解度调节。第一单体在消除极性官能团时提供酸催化的极性切换，而第二单体提供水溶性。本发明的聚合物可以并入负型光刻胶组成物中，该组成物还可以包括光酸发生剂、交联剂、碱性化合物、溶剂、溶解加速剂、光碱发生剂、潜在碱性化合物、表面活性剂、粘附促进剂和抗泡剂。

  公开号：

  US07300739B2

文献信息

• Negative Resists Based on Acid-Catalyzed Elimination of Polar Molecules
  申请人：Allen Robert David

  公开号：US20080233517A1

  公开（公告）日：2008-09-25

  The present invention provides polymers that are useful in negative resist compositions. Polymers of the present invention comprise (1) a first monomer having a polar functional group; (2) a second monomer; and optionally, (3) a third monomer that imparts at least one characteristic selected from crosslinkable functionality, etch resistance, and solubility modulation. The first monomer provides an acid catalyzed polarity switch upon elimination of the polar functional group, whereas, the second monomer provides aqueous dissolution. The polymers of the present invention may be incorporated into negative resist compositions, which may also include photoacid generators, crosslinking agents, basic compounds, solvents, dissolution accelerators, photobase generators, latent basic compounds, surfactants, adhesion promoters, and anti-foaming agents.

  本发明提供了在负型光刻胶组成中有用的聚合物。本发明的聚合物包含（1）具有极性官能团的第一单体；（2）第二单体；以及可选地，（3）赋予至少一种特性的第三单体，所述特性从可交联功能、蚀刻抗性和溶解度调节中选择。第一单体在极性官能团消除时提供酸催化极性转换，而第二单体提供水溶解性。本发明的聚合物可以被纳入负型光刻胶组成中，该组成物还可以包括光酸发生剂、交联剂、碱性化合物、溶剂、溶解加速剂、光碱发生剂、潜在碱性化合物、表面活性剂、粘附剂和抗泡剂。
• NEGATIVE RESISTS BASED ON A ACID-CATALYZED ELIMINATION OF POLAR MOLECULES
  申请人：Allen David Robert

  公开号：US20070026339A1

  公开（公告）日：2007-02-01

  The present invention provides polymers that are useful in negative resist compositions. Polymers of the present invention comprise (1) a first monomer having a polar functional group; (2) a second monomer; and optionally, (3) a third monomer that imparts at least one characteristic selected from crosslinkable functionality, etch resistance, and solubility modulation. The first monomer provides an acid catalyzed polarity switch upon elimination of the polar functional group, whereas, the second monomer provides aqueous dissolution. The polymers of the present invention may be incorporated into negative resist compositions, which may also include photoacid generators, crosslinking agents, basic compounds, solvents, dissolution accelerators, photobase generators, latent basic compounds, surfactants, adhesion promoters, and anti-foaming agents.

  本发明提供了在负型光阻组分中有用的聚合物。本发明的聚合物包括（1）具有极性官能团的第一单体；（2）第二单体；以及可选地，（3）赋予至少一种特性的第三单体，所述特性选择自交联功能、蚀刻抵抗性和溶解度调节。第一单体在极性官能团消除时提供酸催化的极性切换，而第二单体提供水溶解性。本发明的聚合物可以被纳入负型光阻组分中，该组分还可以包括光酸发生剂、交联剂、碱性化合物、溶剂、溶解加速剂、光碱发生剂、潜在碱性化合物、表面活性剂、粘附促进剂和抗泡剂。
• Negative resists based on a acid-catalyzed elimination of polar molecules
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US07300739B2

  公开（公告）日：2007-11-27

  The present invention provides polymers that are useful in negative resist compositions. Polymers of the present invention comprise (1) a first monomer having a polar functional group; (2) a second monomer; and optionally, (3) a third monomer that imparts at least one characteristic selected from crosslinkable functionality, etch resistance, and solubility modulation. The first monomer provides an acid catalyzed polarity switch upon elimination of the polar functional group, whereas, the second monomer provides aqueous dissolution. The polymers of the present invention may be incorporated into negative resist compositions, which may also include photoacid generators, crosslinking agents, basic compounds, solvents, dissolution accelerators, photobase generators, latent basic compounds, surfactants, adhesion promoters, and anti-foaming agents.

  本发明提供了在负型光刻胶组成物中有用的聚合物。本发明的聚合物包括（1）具有极性官能团的第一单体；（2）第二单体；以及可选的（3）赋予至少一种特性的第三单体，所述特性选自交联功能、蚀刻抗性和溶解度调节。第一单体在消除极性官能团时提供酸催化的极性切换，而第二单体提供水溶性。本发明的聚合物可以并入负型光刻胶组成物中，该组成物还可以包括光酸发生剂、交联剂、碱性化合物、溶剂、溶解加速剂、光碱发生剂、潜在碱性化合物、表面活性剂、粘附促进剂和抗泡剂。
• Monomer, polymer, resist composition, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US11009793B2

  公开（公告）日：2021-05-18

  A monomer and polymer having a substituent group capable of polarity switch under the action of acid are provided. A resist composition comprising the polymer forms at a high resolution a negative pattern insoluble in alkaline developer and having high etch resistance.

  本发明提供了一种单体和聚合物，其取代基在酸的作用下能够进行极性转换。包含这种聚合物的抗蚀剂组合物能以高分辨率形成不溶于碱性显影剂且具有高抗蚀性的阴图。
• US7300739B2
  申请人：——

  公开号：US7300739B2

  公开（公告）日：2007-11-27