【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造することができるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、ヨウ素原子、フッ素原子等を表す。R4、R5、R7及びR8は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のハロアルキル基又は炭素数1〜12のアルキル基を表し、該ハロアルキル基及び該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−等で置き換わっていてもよい。X1及びX2は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。m1は1〜5、m2及びm8は0〜5、m4、m5及びm7は0〜4の整数を表す。但し、1≦m1+m7≦5、0≦m2+m8≦5である。X0は、置換基を有してもよい炭化水素基を表す。]【選択図】なし
【课题】提供一种
碳酸酯、
碳酸发生剂和光刻胶组合物,能够制造出具有良好线边缘粗糙度的光刻胶图案。
【解决手段】式(I)所表示的
碳酸酯、
碳酸发生剂和光刻胶组合物。[式中,R1和R2分别独立地表示
碘原子、
氟原子等。R4、R5、R7和R8分别独立地表示卤素原子、羟基、碳数为1至12的卤代烷基或碳数为1至12的烷基,这些卤代烷基和烷基中的-
CH2-可以被-O-或-CO-等取代。X1和X2分别独立地表示氧原子或
硫原子。m1为1至5,m2和m8为0至5,m4、m5和m7为0至4的整数,但条件是1≦m1+m7≦5,0≦m2+m8≦5。X0表示可以带有取代基的碳氢基。]
【选择图】无