4,4’-亚甲基双(2-乙基)苯胺 | 19900-65-3

• 物质功能分类: 医药中间体 - 原料药中间体
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4,4’-亚甲基双(2-乙基)苯胺
• 中文别名: 4,4'-二胺-3,3'-二乙二苯甲烷；4,4'-二氨基-3,3'-二乙基二苯甲烷；3,3'-二乙基-4,4'-二苯胺基甲烷；3,3'-二乙基-4,4'-二氨基二苯基甲烷；4,4'-亚甲基双(邻乙基苯胺)；硬化剂ME-DDM；4,4'-亚甲基双(2-乙基)苯胺；4,4"-亚甲基双(2-乙基)苯胺；3,3"-二乙基-4,4"-二氨基二苯基甲烷；硬化剂 ME-DDM；MOEA；4,4'-亚甲基双(2-乙基苯胺)
• 英文名称: 4,4’-diamino-3,3’-diethyl diphenyl methane
• 英文别名: 3,3'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane；4,4'-diamino-3,3'-diethyl diphenyl methane；4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane；bis(4-amino-3-ethylphenyl)methane；4,4'-Methylen-bis<2-ethylanilin>；4,4'-Methylen-bis[2-ethylanilin]；4,4'-Methylenebis(2-ethylaniline)；4-[(4-amino-3-ethylphenyl)methyl]-2-ethylaniline
• CAS: 19900-65-3
• 化学式: C₁₇H₂₂N₂
• 分子量: 254.375
• InChiKey: CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  45.5-46.5 °C(Solv: hexane (110-54-3); benzene (71-43-2)(1:1))
• 沸点：
  387.59°C (rough estimate)
• 密度：
  1.0344 (rough estimate)
• 物理描述：
  Liquid

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  52
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险品标志：
  Xn,N
• 安全说明：
  S36/37,S60,S61
• 危险类别码：
  R22
• 海关编码：
  2921590090
• 危险性防范说明：
  P501,P273,P260,P270,P202,P201,P264,P280,P302+P352,P391,P337+P313,P305+P351+P338,P308+P311,P362+P364,P332+P313,P301+P312+P330,P405
• 危险性描述：
  H302,H315,H319,H371,H373,H341,H351,H411
• 储存条件：
  存放于惰性气体中，避免接触空气。

制备方法与用途

简介

4,4'-亚甲基双(2-乙基)苯胺是一种芳香族二胺类扩链剂，与TDI和MDI预聚体具有良好的相容性和配伍性，反应速度快。它常与E100搭配使用，适用于反应注射成型和聚脲喷涂工艺，可制备出具有良好物理及动态力学性能的制品。此外，4,4'-亚甲基双(2-乙基)苯胺还用于制备聚脲弹性防水材料，能够有效提高材料的强度、耐植物穿刺和耐老化性能；也可用作环氧树脂的固化剂，赋予制品良好的抗张、耐撕裂、电绝缘及耐热等性能。

用途

4,4'-亚甲基双(2-乙基)苯胺主要用于制备聚氨酯、聚酰亚胺以及环氧树脂材料。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4’-亚甲基双(2-乙基)苯胺 在 ruthenium on aluminium oxide 、 ammonium aluminium sulfate 、 氢气 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 160.0 ℃ 、8.0 MPa 条件下， 反应 4.0h， 以99.2%的产率得到3,3'-diethyl-4,4'-diaminodicyclohexylmethane
  参考文献：
  名称：

  一种还原芳香胺化合物制备脂肪胺的方法

  摘要：

  本发明提供了一种还原芳香胺化合物制备脂肪胺的方法。所述方法是以芳香胺化合物为反应底物，与负载型钌催化剂和脱氨阻滞剂在溶剂中进行加氢反应制得脂肪胺化合物；所述的脱氨阻滞剂为含铝无机盐。本发明通过在芳香胺催化加氢还原过程中加入脱氨阻滞剂，减少了目标产物发生的脱氨副反应，从而提高目标产物的收率，降低了目标产物单位产量的生产成本。以PACM的制备为例，目标产物PACM的收率可达到98%以上，所述制备方法在工业中实际大批量的生产具有重要的应用价值。

  公开号：

  CN108191671B
• 作为产物：
  描述：

  2-乙基苯胺 、 聚合甲醛 生成 4,4’-亚甲基双(2-乙基)苯胺
  参考文献：
  名称：

  XINO, SEHJITI;SATO, SEITI;KOURA, KODZI;SUDZUKI, OSAMU

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Harada Yukako

  公开号：US20070078269A1

  公开（公告）日：2007-04-05

  The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring Y represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, in which one —CH 2 — group is substituted with —COO— group, and at least one hydrogen atom in the monocyclic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A + represents organic counter ion; and n shows an integer of 0 to 12. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).

  本发明提供了一种具有公式(I)的盐： 其中环Y代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，其中一个—CH2—基团被—COO—基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6个碳原子的烷基取代，具有1至6个碳原子的烷氧基，具有1至4个碳原子的全氟烷基，具有1至6个碳原子的羟基烷基，羟基或腈基；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子；n表示0至12的整数。 本发明还提供了一种含有公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160334702A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, R 1 and R 2 in each occurrence independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, z represents an integer of 0 to 6, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO— or —O—, * represents a binding position to C(R 1 )(R 2 ) or C(Q 1 )(Q 2 ), A 1 represents a C 4 to C 24 hydrocarbon group having a C 4 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon moiety, A 2 represents a C 2 to C 12 divalent hydrocarbon group, R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a C 1 to C 6 monovalent saturated hydrocarbon group, R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a C 1 to C 6 alkyl group where a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom, and Z + represents an organic cation.

  公式(I)表示的盐，其中Q1和Q2独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，R1和R2每次出现独立地代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，z代表0到6的整数，X1代表*—CO—O—，*—O—CO—或—O—，*代表与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的连接位置，A1代表具有C4至C18二价脂环烃基团的C4至C24的烃基团，A2代表C2至C12的二价烃基团，R3和R4独立地代表一个氢原子或一个C1至C6的一价饱和烃基团，R5代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的烷基团，其中氢原子可以被氟原子替换，而Z+代表一个有机阳离子。