2-bromo-3-iodobenzaldehyde | 1261850-39-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-bromo-3-iodobenzaldehyde
• CAS: 1261850-39-8
• 化学式: C₇H₄BrIO
• 分子量: 310.917
• InChiKey: NCNQHBCYUHHAJV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-bromo-3-iodobenzaldehyde 在 甲醇 、 sodium tetrahydroborate 、 四(三苯基膦)钯 、 四溴化碳 、 potassium carbonate 、 三苯基膦 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 29.0h， 生成 2-bromo-3-(bromomethyl)-1,1'-biphenyl
  参考文献：
  名称：

  一种2-取代-3-芳基卤苄衍生物的制备方法

  摘要：

  本发明公开了一种2‑取代‑3‑芳基卤苄衍生物的制备方法，属于化学合成领域。本发明方法具包括如下步骤：a)以2‑取代‑3‑羟基苯甲醛为原料，制备2‑取代‑3‑甲酰基苯酚三氟甲磺酸酯；b)以2‑取代‑3‑甲酰基苯酚三氟甲磺酸酯和芳基硼酸类化合物为原料，制备2‑取代‑3‑芳基苯甲醛；c)以2‑取代‑3‑芳基苯甲醛为原料，制备2‑取代‑3‑芳基苯甲醇；d)以2‑取代‑3‑芳基苯甲醇为原料，制备式(I)所示的2‑取代‑3‑芳基卤苄衍生物。

  公开号：

  CN112479941B
• 作为产物：
  描述：

  2-溴-3-碘苯甲酸 在 manganese(IV) oxide 、 硼烷四氢呋喃络合物 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 2-bromo-3-iodobenzaldehyde
  参考文献：
  名称：

  [EN] MACROCYCLIC INDOLES AS MCL-1 INHIBITORS
  [FR] INDOLES MACROCYCLIQUES SERVANT D'INHIBITEURS DE MCL-1

  摘要：

  披露了公式I的化合物以及其中所述的药用可接受盐和溶剂化物，其中R，R1a，R1b，R1h，L1，L2，L3，Ⓐ，Ⓑ，Ⓒ如说明书中所定义。披露了公式I的化合物，用于治疗对Mcl-1抑制有反应的条件或疾病，如癌症。

  公开号：

  WO2020103864A1

文献信息

• 作为MCL-1抑制剂的大环吲哚
  申请人：苏州亚盛药业有限公司

  公开号：CN110845520B

  公开（公告）日：2021-04-13

  本发明公开内容提供由于式I表示的化合物：及其可药用盐和溶剂化物，其中R、R1a、R1b、R1h、L1、L2、L3、和为如说明书中阐述的定义的。本发明还提供式I的化合物，用于治疗对于Mcl‑1抑制有反应的病症或障碍，比如癌症。
• Substituted dihydronaphthalene and isochroman compounds for the treatment of metabolic disorders, cancer and other diseases
  申请人：Tachdjian Catherine

  公开号：US20050038098A1

  公开（公告）日：2005-02-17

  The invention relates to novel heterocyclic compounds having the structure illustrated by Formula (I) wherein the Ar 1 radicals are substituted dihydronapthalene or isochroman radicals, the Ar 2 radicals are aryl or heteroaryl radicals; and HAr is a 2,4-thiazolidinedione, 2-thioxo-thiazolidine-4-one, 2,4-imidazolidinedione or 2-thioxo-imidazolidine-4-one radical. The compounds of Formula (I) can have biological activity for advantageously regulating carbohydrate metabolism, including serum glucose level, and lipid metabolism, and can be useful for the treatment of hyperlipidemia and/or hypercholesterolemia, and Type II diabetes. The compounds of Formula (I) can also have utility in the treatment of diseases of uncontrolled proliferation, including cancer.

  本发明涉及具有公式（I）所示结构的新型杂环化合物，其中Ar1基团是取代的二氢萘或异色满基团，Ar2基团是芳基或杂环芳基基团；HAr是2,4-噻唑烷二酮，2-硫代噻唑烷-4-酮，2,4-咪唑烷二酮或2-硫代咪唑烷-4-酮基团。公式（I）的化合物可以具有生物活性，有利于调节碳水化合物代谢，包括血清葡萄糖水平和脂质代谢，并可用于治疗高脂血症和/或高胆固醇血症以及II型糖尿病。公式（I）的化合物还可用于治疗不受控制增殖的疾病，包括癌症。
• CYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2743249A1

  公开（公告）日：2014-06-18

  The present invention provides a cyclic compound having a molecular weight of 500 to 5000 and represented by the following formula (1), a method for producing the cyclic compound, a composition containing the cyclic compound, and a method for forming a resist pattern using the composition: wherein at least one of R0 is a monovalent group containing an iodine atom.

  本发明提供了一种分子量在 500 至 5000 之间并由下式（1）表示的环状化合物、一种生产该环状化合物的方法、一种含有该环状化合物的组合物以及一种使用该组合物形成抗蚀剂图案的方法： 其中 R0 至少有一个是含有碘原子的单价基团。
• COMPOUND, RESIN, AND METHOD FOR PURIFYING SAME, UNDERLAYER FILM FORMATION MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION, AND UNDERLAYER FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP3279179A1

  公开（公告）日：2018-02-07

  The present invention provides a compound represented by following formula (1), wherein R1 represents a 2n-valent group having 1 to 30 carbon atoms, each of R2 to R5 independently represents a straight, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, a halogen atom, a thiol group or a hydroxyl group, provided that at least one selected from R1 to R5 represents a group including an iodine atom and at least one R4 and/or at least one R5 represent/represents one or more selected from the group consisting of a hydroxyl group and a thiol group, each of m2 and m3 independently represents an integer of 0 to 8, each of m4 and m5 independently represents an integer of 0 to 9, provided that m4 and m5 do not represent 0 at the same time, n represents an integer of 1 to 4, and each of p2 to p5 independently represents an integer of 0 to 2.

  本发明提供了由下式（1）代表的化合物、 其中 R1 代表具有 1 至 30 个碳原子的 2n 价基团，R2 至 R5 各自独立地代表具有 1 至 10 个碳原子的直链、支链或环状烷基、具有 6 至 10 个碳原子的芳基、具有 2 至 10 个碳原子的烯基、具有 1 至 30 个碳原子的烷氧基、卤素原子、硫醇基或羟基、m2和m3各自独立地代表0至8的整数，m4和m5各自独立地代表0至9的整数，但m4和m5不能同时代表0，n代表1至4的整数，p2至p5各自独立地代表0至2的整数。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AMORPHOUS FILM, AND RESIST PATTERN-FORMATION METHOD
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP3279730A1

  公开（公告）日：2018-02-07

  A radiation-sensitive composition comprising a resist base material (A), an optically active diazonaphthoquinone compound (B), and a solvent (C), wherein the content of the solvent (C) in the composition is 20 to 99% by mass, the content of components except for the solvent (C) is 1 to 80% by mass, and the resist base material (A) is a compound represented by the following formula (1): wherein R1 is a 2n-valent group of 1 to 30 carbon atoms; R2 to R5 are each independently an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms, an aryl group of 6 to 10 carbon atoms, an alkenyl group of 2 to 10 carbon atoms, an alkoxy group of 1 to 30 carbon atoms, a halogen atom, a thiol group, or a hydroxyl group, wherein at least one of R4 and/or at least one of R5 is one or more kinds selected from a hydroxyl group and a thiol group; m2 and m3 are each independently an integer of 0 to 8; m4 and m5 are each independently an integer of 0 to 9, wherein m4 and m5 are not 0 at the same time; n is an integer of 1 to 4; and p2 to p5 are each independently an integer of 0 to 2.

  一种辐射敏感性组合物，由抗蚀剂基材（A）、光学活性重氮萘醌化合物（B）和溶剂（C）组成，其中溶剂（C）在组合物中的含量为 20% 至 99%（按质量计），除溶剂（C）以外的其他成分的含量为 1% 至 80%（按质量计），抗蚀剂基材（A）是由下式（1）表示的化合物： 其中 R1 是 1 至 30 个碳原子的 2n 价基团；R2 至 R5 各自独立地是 1 至 10 个碳原子的烷基、6 至 10 个碳原子的芳基、2 至 10 个碳原子的烯基、1 至 30 个碳原子的烷氧基、卤素原子、硫醇基团或羟基，其中 R4 和/或 R5 中的至少一个是选自羟基和硫醇基团的一种或多种；m2和m3各自独立地为0至8的整数；m4和m5各自独立地为0至9的整数，其中m4和m5不同时为0；n为1至4的整数；以及p2至p5各自独立地为0至2的整数。