【課題】良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)の塩及びこれを含有するレジスト組成物。[式中、R1a及びR2aはそれぞれH又はアルキル基;m0は1〜5の整数;R3及びR4は、ハロゲン原子、フッ化アルキル基等;m3は0〜4、m4は0〜5の整数;X0は置換基を有してもよい炭化水素基を表し、該基中の−CH2−は、−O−、−S−、−CO−等に置き換わっていてもよい。]【選択図】なし
【问题】提供一种能够制造出良好CD均一性(CDU)的光刻胶、酸发生剂和光刻胶组合物。
【解决方案】式(I)中的盐和包含它的光刻胶组合物。
[其中,R1a和R2a分别是氢或烷基;m0是1〜5的整数;R3和R4是卤素原子,
氟化烷基等;m3是0〜4,m4是0〜5的整数;X0表示可以具有取代基的碳氢基,其中-
CH2-可以被-O-,-S-,-CO-等替换。]
【选定图】无