Photopolymerisierbare Zusammensetzungen aus (a) einem radikalisch polymerisierbaren Material und einer Photoinitiator-Kombination aus (b) einem Ferroceniumsalz und (c) einem Photoinitiator vom Typ der a-Spalter stellen ein System hoher Lichtempfindlichkeit dar und lassen sich zur Herstellung von Schutzüberzügen oder für photographische Aufzeichnungsverfahren verwenden. Als Komponente (c) sind insbesondere aromatische Ketone und Ketale geeignet.
由(a)可辐射聚合材料和(b)
二茂铁盐及(c)a-裂解型光
引发剂组合而成的可光聚合组合物是一种高光敏性体系,可用于生产保护涂层或摄影记录工艺。
芳香族酮类和
酮类尤其适合作为 (c) 组分。