申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0006627A2
公开(公告)日:1980-01-09
Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben. das (a) eine unter Einwirkung von aktinischer Strahlung. insbesondere UV-Licht, Säure bildende Verbindung und (b) eine Verbindung enthält, die mindestens eine Enoläthergruppe entnält, und deren Löslichkeit in einem flüßigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird. Der Enoläther ist bevorzugt eine Verbindung der ailgemeinen Formel I
in der
R, einen n-wertigen aliphatischen Rest mit wenigstens 2 Kohlenstoffatomen bedeutet.
R2, R3 und R4 gleich oder verschieden sind und Wasserstoffatome. Alkyl- oder Arylreste bedeuten oder jeweils zu zweit zu einem gesättigten oder olefinisch ungesättigten Ring verbunden sind, und
eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist.
Das Gemisch wird in Form einer strahlungsempfindlichen Schicht bildmäßig bestrahlt und an den bestrahlten Stellen mit einem Entwickler ausgewaschen, so daß ein positives Reliefbild entsteht
本文描述了一种辐射敏感混合物,它含有 (a) 在光辐射,特别是紫外线作用下会形成酸的化合物,以及 (b) 至少含有一个烯醇醚基团的化合物,在酸的作用下,该化合物在液体显影剂中的溶解度会增加。烯醇醚最好是通式 I 的化合物
其中
R 是至少有 2 个碳原子的正价脂族基。
R2、R3 和 R4 相同或不同,均为氢原子。是烷基或芳基,或各自成对连接形成饱和环或烯烃不饱和环,以及
是 1 至 4 的整数。
混合物以辐射敏感层的形式进行图像辐照,并用显影剂冲洗辐照区域,从而形成正浮雕图像。