1-Ethyl-3-propan-2-ylidenepyrrolidine-2,5-dione | 164026-32-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-Ethyl-3-propan-2-ylidenepyrrolidine-2,5-dione
• CAS: 164026-32-8
• 化学式: C₉H₁₃NO₂
• 分子量: 167.208
• InChiKey: USJFRPGDBBZJQQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  246.9±33.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.098±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.56
• 拓扑面积：
  37.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-Ethyl-3-propan-2-ylidenepyrrolidine-2,5-dione 在 palladium on activated charcoal dimethyl sulfide borane 、 氢气 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙酸乙酯 为溶剂， 20.0 ℃ 、202.65 kPa 条件下， 反应 8.0h， 生成 1-ethyl-3-(1-methylethyl)pyrrolidine
  参考文献：
  名称：

  将硝基烷烃加成到N-取代的马来酰亚胺上。3-烷基琥珀酰亚胺和吡咯烷的合成

  摘要：

  通过将硝基烷烃共轭加成到N-取代的马来酰亚胺上而获得的3-亚烷基琥珀酰亚胺可以通过催化氢化被还原成相应的3-烷基衍生物。可以使用BH 3 ·Me 2 S络合物进一步还原3-烷基琥珀酰亚胺，以高收率得到3-烷基吡咯烷。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(03)00508-8
• 作为产物：
  描述：

  N-乙基马来酰亚胺 、 2-硝基丙烷 在 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 1-Ethyl-3-propan-2-ylidenepyrrolidine-2,5-dione
  参考文献：
  名称：

  硝基烷作为烷基阴离子合成子—一种通过硝基烷烃合成2-取代的N-乙基琥珀酰亚胺和2-取代的琥珀酸酯的新方法

  摘要：

  通过两个关键步骤获得了2-取代的N-乙基琥珀酰亚胺二酯和2-取代的琥珀酸酯二酯：（i）在碱性条件（DBU）下，将硝基烷烃迈克尔加成到适当的二烯衍生物中，同时消除亚硝酸，和（ ii）在甲醇/ THF中用硼化镍选择性还原得到的烯酮。在这种情况下，nirtoalkane充当烷基阴离子合成子。通过这种方法，还合成了三羧酸三甲酯。

  DOI：

  10.1002/jlac.199619961221

文献信息

• A direct method for the synthesis of polyfunctionalized unsaturated carbonyl derivatives by Michael addition of nitroalkanes to enediones with the help of DBU
  作者：Roberto Ballini、Giovanna Bosica

  DOI：10.1016/0040-4020(95)00136-v

  日期：1995.4

  The Michael addition of several nitroalkanes to dimethyl maleate, (Z)-3-hexene-2,5-dione, N-ethyl maleimide, and N-phenyl maleimide, in MeCN or THF, proceeds very efficiently on DBU as base, and furnishes good to high yields of polyfunctionalized unsaturated carbonyl derivatives.

  在MeCN或THF中，将几种硝基链烷烃在马来酸二甲酯，（Z）-3-己烯-2,5-二酮，N-乙基马来酰亚胺和N-苯基马来酰亚胺上的迈克尔加成反应非常有效地在DBU上作为碱进行，并提供多官能化的不饱和羰基衍生物的良好或高收率。
• Ballini Roberto, Bosica Giovanna, Tetrahedron, 51 (1995) N 14, S 4213-4222
  作者：Ballini Roberto, Bosica Giovanna

  DOI：——

  日期：——
• POLYMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS AND PATTERN FORMATION METHODS
  申请人：ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC

  公开号：US20200377713A1

  公开（公告）日：2020-12-03

  Disclosed herein is a polymer comprising a first repeat unit and a second repeat unit, where the first repeat unit contains an acid labile group and where the second repeat unit has the structure of formula (1): wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently hydrogen, a halogen, a substituted or unsubstituted C 1 to C 12 alkyl group or C 3 to C 12 cycloalkyl group optionally containing an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carbonate group, an amine group, an amide group, a urea group, a sulfate group, a sulfone group, a sulfoxide group, an N-oxide group, a sulfonate group, a sulfonamide group, or a combination thereof, a substituted or unsubstituted C 6 to C 14 aryl group, or C 3 to C 12 heteroaryl group, wherein the substitution is halogen, hydroxyl, cyano, nitro, C 1 to C 12 alkyl group, C 1 to C 12 haloalkyl group, C 1 to C 12 alkoxy group, C 3 to C 12 cycloalkyl group, amino, C 2 -C 6 alkanoyl, carboxamido, a substituted or unsubstituted C 6 to C 14 aryl group, or C 3 to C 12 heteroaryl group; wherein R 1 and R 2 together optionally form a ring; and wherein n=1-3.