triethylammonium 1,1-difluoro-2-(2-methylacryloyloxy)-ethane-1-sulfonate | 1135185-35-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: triethylammonium 1,1-difluoro-2-(2-methylacryloyloxy)-ethane-1-sulfonate
• 英文别名: 1,1-Difluoro-2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethanesulfonic acid
• CAS: 1135185-35-1
• 化学式: C₆H₈F₂O₅S
• 分子量: 230.189
• InChiKey: IDNDBZMCTVQNCN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  89
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triethylammonium 1,1-difluoro-2-(2-methylacryloyloxy)-ethane-1-sulfonate 、 三苯基溴化锍 以 氯仿 、 水 为溶剂， 反应 3.0h， 以87%的产率得到triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(2-methyl-acryloyloxy)-ethane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Ammonium Fluoroalkanesulfonates and a Synthesis Method Therefor

  摘要：

  一种氢氧基氟烷磺酸铵是通过在磺化剂的作用下使用有机碱对溴氟醇进行磺化而获得的。将氢氧基氟烷磺酸铵氧化后得到一种氢氧基氟烷磺酸铵盐。通过酯化将氢氧基氟烷磺酸铵转化为一种离子氟烷磺酸盐。这种离子氟烷磺酸盐在化学增感抗蚀剂等中作为光酸发生剂是有用的。

  公开号：

  US20120004447A1
• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸酐 、 triethylammonium 1,1,2,2-tetrafluoro-4-hydroxy-butane-1-sulfonate 在 2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚) 、 三乙胺 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 triethylammonium 1,1-difluoro-2-(2-methylacryloyloxy)-ethane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Ammonium Fluoroalkanesulfonates and a Synthesis Method Therefor

  摘要：

  一种氢氧基氟烷磺酸铵是通过在磺化剂的作用下使用有机碱对溴氟醇进行磺化而获得的。将氢氧基氟烷磺酸铵氧化后得到一种氢氧基氟烷磺酸铵盐。通过酯化将氢氧基氟烷磺酸铵转化为一种离子氟烷磺酸盐。这种离子氟烷磺酸盐在化学增感抗蚀剂等中作为光酸发生剂是有用的。

  公开号：

  US20120004447A1

文献信息

• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• NEAR-INFRARED ABSORBING DYE, NEAR-INFRARED ABSORPTIVE FILM-FORMING COMPOSITION, AND NEAR-INFRARED ABSORPTIVE FILM
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20120119171A1

  公开（公告）日：2012-05-17

  A near-infrared absorbing dye has an anion of formula (1) wherein A 1 is H or CF 3 , R 0 is OH or —OC(═O)—R′, and R′ is a monovalent hydrocarbon group. The dye has excellent solvent solubility as well as good optical properties and heat resistance, offering the advantages of easy coating and effective working during film formation. The dye free of heavy metal in its structure is advantageously used in the process of fabricating semiconductor devices.

  一种近红外吸收染料具有如下式（1）的阴离子，其中A1为H或CF3，R0为OH或—OC(═O)—R′，而R′为一价碳氢基团。该染料具有优异的溶剂溶解性以及良好的光学性能和耐热性，提供易于涂覆和在薄膜形成过程中有效工作的优点。该染料在其结构中不含重金属，因此在制造半导体器件的过程中具有优势应用。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• ACID GENERATOR COMPOUNDS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20160347709A1

  公开（公告）日：2016-12-01

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as a photoresist composition component. In one preferred aspect, acid generators are provided that comprise one or more hydrophilic moieties.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。在一个首选方面，提供了包含一个或多个亲水性基团的酸发生剂。
• PHOTOBASE GENERATORS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20160334703A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  New photobase generators suitable for use in photoresists are provided that correspond to Formula (I): X 1 —R 1 —O—C(═O)N(R 2 )R 3 (I) wherein X 1 is an optionally substituted aromatic group; R 1 is a linker; and R 2 and R 3 are the same or different optionally substituted linear, branched or cyclic aliphatic group or an optionally substituted aromatic group, wherein at least one of R 2 and R 3 is an optionally substituted branched alkyl group having 4 or more carbon atoms.

  提供了适用于光刻胶的新型光刻底物生成物，对应于式（I）：X1—R1—O—C(═O)N(R2)R3（I）其中X1是可选择取代的芳香族基团；R1是连接基团；R2和R3是相同或不同的可选择取代的线性、支链或环烷基基团或可选择取代的芳香族基团，其中R2和R3中至少有一个是具有4个或更多碳原子的可选择取代的支链烷基基团。