bis(4-methoxyphenyl)phenylsilane | 1129866-59-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: bis(4-methoxyphenyl)phenylsilane
• CAS: 1129866-59-6
• 化学式: C₂₀H₂₀O₂Si
• 分子量: 320.463
• InChiKey: RTKIJWPMYDBLKK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.95
• 重原子数：
  23.0
• 可旋转键数：
  5.0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  18.46
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  苯基二氯硅烷 、 4-甲氧基苯基溴化镁 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 2.25h， 以32%的产率得到bis(4-methoxyphenyl)phenylsilane
  参考文献：
  名称：

  High yield detritylation of surface-attached nucleosides with photoacid generated in an overlying solid film: roles of translational diffusion and scavenging

  摘要：

  传统的固相寡核苷酸合成方法是用酸洗掉释放出的二甲氧基三苯甲基阳离子（DMT+），从而克服了酸依赖性脱苯作用的可逆性。如果酸是在上覆固体薄膜中光照生成的，就无法使用这种方法，例如在平面上光刻制造寡核苷酸阵列。为了克服由此产生的可逆性问题，我们开发了一种方法，通过在固体薄膜中光生成三氯乙酸，实现玻璃附着的 5′-O-DMT 胸苷（5′-O-DMT 保护寡核苷酸的模型）≥98% 的脱苯甲基化。膜内扩散的增强不足以降低光刻分辨率，但却能使 DMT+ 从其释放平面移动到上覆的光酸生成膜中，从而将脱盐率从≤30%提高到≥98%。加入膜内碳位清除剂（如三芳基硅烷氢化物）后，在短暂的光酸生成后 60 秒内，脱苯甲酰化转化为与时间相关的不可逆过程，脱苯甲酰化率≥99%。光敏感性很高，比直接光防护方法高出 15-100 倍。

  DOI：

  10.1039/b813319k